CN218207898U - 用于球阀的衰减器罩及球阀 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及用于球阀的衰减器罩及球阀。一种用于球阀的衰减器罩包括限定上游表面和下游表面的主体。主体具有第一和第二衰减部分。第一衰减部分具有单级，该单级具有从上游表面延伸到下游表面的第一多个通道。第二衰减部分具有第一级和第二级，该第一级具有从上游表面延伸到形成在主体内部的第一填充室的第二多个通道，第二级具有从第一填充室延伸到下游表面的第三多个通道。第一衰减部分的单级具有第一流动面积百分比，第二衰减部分的第一级具有小于第一流动面积百分比的第二流动面积百分比，并且第二级具有大于第二流动面积百分比的第三流动面积百分比。

Description

用于球阀的衰减器罩及球阀

技术领域

本公开总体上涉及球阀，更具体地，涉及用于球阀的衰减器罩 (attenuatordome)以用于特征化噪声衰减。

背景技术

在典型的控制阀中，空气动力噪声可在流体通过控制阀时产生。此外，当流过控制阀的液体经受高的压降时，会产生空化以及空化产生的噪声和振动。当流体蒸发且随后返回液态时，例如当流体通过诸如流动控制构件和阀座之间的限流装置时，会发生空化现象。由于限流装置处的压力降低和速度增加，流体可达到其蒸气点。空化会引起噪声和振动，这会损坏控制阀。这种现象尤其可能出现在其中压降仅发生在一个级的球阀和蝶阀中。

在某些情况下，可能期望在流体流过控制阀时对其进行调节，例如，以减少空化和/或空气动力噪声。在这些情况下，可以使用包括多个开口的内件组件，这些开口通过内件组件钻孔、铸造、冲压、机加工等形成。开口的尺寸和形状可以被设计成在流体流过开口时调节流体流动，例如，通过在流体移动通过内件组件时降低压力而不产生不希望的噪声或空化。由于在流动控制构件在不同位置的情况下的不同流体流动，特别是对于球阀，所需的噪声和/或空化减少量可能不同。

因此，需要用于球阀的特征化阀内件组件或衰减器罩，其根据球阀的流动控制构件的行程提供不同的调节流体流动。

实用新型内容

根据本实用新型的一个示例性方面，一种用于球阀的衰减器罩包括主体，该主体限定上游表面、与上游表面相对的下游表面、以及在上游表面和下游表面之间延伸的周向表面。主体包括第一衰减部分和第二衰减部分。第一衰减部分具有单级，该单级具有从上游表面延伸穿过主体到下游表面的第一多个通道。第二衰减部分具有第一级和第二级，第一级具有从上游表面延伸到形成在主体内部的第一填充室的第二多个通道，第二级具有从第一填充室延伸到下游表面的第三多个通道。第一衰减部分的单级具有第一流动面积百分比，第二衰减部分的第一级具有小于第一流动面积百分比的第二流动面积百分比，并且第二衰减部分的第二级具有大于第二流动面积百分比的第三流动面积百分比。

进一步根据本实用新型的前述示例性方面中的任何一个或多个，用于球阀的衰减器罩可以进一步以任何组合包括以下优选形式中的任何一种或多种。

在一个优选形式中，第三流动面积百分比等于第一流动面积百分比。

在另一优选形式中，第一多个通道中的每一个都具有第一横截面面积，第二多个通道中的每一个都具有小于第一横截面面积的第二横截面面积，并且第三多个通道中的每一个都具有大于第二横截面面积的第三横截面面积。

在另一优选形式中，主体是整体的、一体形成的单件结构。

在另一优选形式中，第一多个通道从上游表面到下游表面是弧形的。

在另一优选形式中，第二衰减部分的第二级是弧形的。

在另一优选形式中，第二多个通道从上游表面到第一填充室是弧形的，并且第三多个通道从第一填充室到下游表面是弧形的。

在另一优选形式中，上游表面是弧形的并且具有与球阀的流动控制构件的外表面的曲率半径相等的曲率半径。

在另一优选形式中，主体包括第三衰减部分，第三衰减部分具有第一级、第二级和第三级，第一级具有从上游表面延伸到形成在主体内部的第二填充室的第四多个通道，第二级具有从第二填充室延伸到形成在主体内部的第三填充室的第五多个通道，并且第三级具有从第三填充室延伸到下游表面的第六多个通道。第三衰减部分的第一级具有小于第二流动面积百分比的第四流动面积百分比，第三衰减部分的第二级具有大于第四流动面积百分比的第五流动面积百分比，并且第三衰减部分的第三级具有大于第五流动面积百分比的第六流动面积百分比。

在另一优选形式中，第五流动面积百分比等于第二流动面积百分比，并且第六流动面积百分比等于第一流动面积百分比。

在另一优选形式中，第四多个通道中的每一个都具有小于第二横截面面积的第四横截面面积，第五多个通道中的每一个都具有大于第四横截面的第五横截面面积，并且第六多个通道中的每一个都具有大于第五横截面面积的第六横截面面积。

在另一优选形式中，第四多个通道从上游表面到第二填充室是弧形的，第五多个通道从第二填充室到第一填充室是弧形的，并且第六多个通道从第一填充室到下游表面是是弧形的。

在另一优选形式中，第三衰减部分的第二级为弧形，并且第三衰减部分的第三级为弧形。

在另一优选形式中，一种球阀具有阀体，该阀体具有入口和出口。包括具有曲率半径的外表面的流动控制构件定位在阀体内并且可在打开位置和关闭位置之间旋转，在打开位置，在入口和出口之间允许流体流动，在关闭位置，在入口和出口之间不允许流体流动。轴延伸穿过阀体并连接到流动控制构件，以使流动控制构件在打开位置和关闭位置之间旋转。衰减器罩在流动控制构件的下游定位于阀体内。衰减器罩包括主体，该主体限定上游表面、与上游表面相对的下游表面、以及在上游表面和下游表面之间延伸的周向表面。主体包括第一衰减部分和第二衰减部分。第一衰减部分具有单级，该单级具有从上游表面延伸穿过主体到下游表面的第一多个通道。第二衰减部分具有第一级和第二级，第一级具有从上游表面延伸到形成在主体内部的第一填充室的第二多个通道，第二级具有从第一填充室延伸到下游表面的第三多个通道。第一衰减部分的单级具有第一流动面积百分比，第二衰减部分的第一级具有小于第一流动面积百分比的第二流动面积百分比，并且第二衰减部分的第二级具有大于第二流动面积百分比的第三流动面积百分比。上游表面是弧形的并具有与流动控制构件的曲率半径相等的曲率半径。

根据本实用新型的另一个示例性方面，一种用于球阀的衰减器罩包括主体，该主体限定上游表面、与上游表面相对的下游表面、以及在上游表面和下游表面之间延伸的周向表面。主体包括第一衰减部分和一个或多个附加衰减部分。第一衰减部分具有单级，该单级具有从上游表面延伸穿过主体到下游表面的多个通道。每个附加衰减部分具有至少第一级，该第一级包括与形成在主体内的填充室流体连通的多个通道，其中，每个连续的附加衰减部分具有比相邻的附加衰减部分更多的级数。

进一步根据本实用新型的前述示例性方面中的任何一个或多个，用于球阀的衰减器罩还可以以任何组合包括以下优选形式中的任何一种或多种。

在一个优选形式中，第一衰减部分具有第一流动面积百分比，附加衰减部分中的第二衰减部分的第一级具有小于第一流动面积百分比的第二流动面积百分比，并且附加衰减部分中的第二衰减部分的第二级具有大于第二流动面积百分比的第三流动面积百分比。

在另一优选形式中，第三流动面积百分比等于第一流动面积百分比。

在另一优选形式中，第一衰减部分的多个通道各自具有第一横截面面积，并且附加衰减部分的第一级的多个通道各自具有第二横截面面积，第二横截面面积小于第一横截面面积。

在另一优选形式中，附加衰减部分中的每一个具有第一级，其中，每个第一级的多个通道的横截面面积小于相邻的附加衰减部分的第一级的通道的横截面面积。

在另一优选形式中，主体是整体的、一体形成的单件结构。

在另一优选形式中，第一衰减部分的多个通道从上游表面到下游表面是弧形的。

在另一优选形式中，上游表面是弧形的并且具有与球阀的流动控制构件的外表面的曲率半径相等的曲率半径。

附图说明

图1是示例性球阀的透视图；

图2是图1的球阀沿图1的线2-2截取的侧剖视图；

图3是图1的球阀沿图1中的线3-3截取的俯视剖视图；

图4A和图4B是图1的球阀的示例性衰减器罩的透视图；

图5是图4A和图4B的衰减器罩沿图4B中的线5-5线截取的侧剖视图；以及

图6是图4A和图4B的衰减器罩沿图4B中的线6-6截取的俯视剖视图。

具体实施方式

本文所示和描述的示例特性征化球阀衰减器罩提供分级噪声衰减，其在不同部分中进行调节并且在球阀的下游部分中使用压力分级和射流破裂 (jet disruption)。衰减器罩被配置为通过经过一个或多个减压级在球阀的流动控制构件的低行程处为离开阀门的射流提供更多的破裂和噪声衰减，因为通常在低行程处出现高的压降，因此需要更多的压力分级来进行噪声衰减，并且在流动控制元件的较大行程中需要更少的破裂和更少的级数。

参考图1-图3，示出了示例性球阀10，其可以与本文所示和描述的衰减器罩一起使用。球阀10通常包括具有入口20和出口25的阀体15。流动控制构件30在入口20和出口25之间定位于阀体15内，并且可在打开位置或完全打开位置与关闭位置之间旋转，其中在打开位置或完全打开位置，在入口20和出口25之间允许流体流动，在关闭位置，在入口20和出口25 之间不允许流体流动。流动控制构件30也可以定位在打开位置与关闭位置之间的任何位置以控制在入口20和出口25之间流动的流体量。在所示示例中，流动控制构件30具有大致球形形状，其外表面35为弧形(arcuate) 并具有曲率半径。轴40延伸穿过阀体15并连接到流动控制构件30，以使流动控制构件30在打开位置与关闭位置之间旋转。衰减器罩100在流动控制构件30的下游定位于阀体15内，并且优选地直接邻近流动控制构件30，以对流出流动控制构件30的流体流动提供噪声衰减。

参考图4A-图6，示出了用于球阀10的示例性衰减器罩100，其配置成在流动控制构件30的下游定位在阀体15内。衰减器罩具有主体105，在所示示例中，该主体105是可以使用增材制造技术(例如，直接金属激光烧结、全熔粉末床熔合等)形成的整体的、一体形成的单件结构。使用增材制造技术工艺，主体105的3维设计分为多层，例如大约20-50微米厚的层。然后铺设粉末床，例如粉末基金属，代表设计的第一层，并且激光或电子束将第一层的设计烧结在一起。然后将代表设计的第二层的第二粉末床铺在第一烧结层上，并将第二层烧结在一起。这逐层继续以形成完整的主体 105。使用增材制造技术工艺制造衰减器罩100允许自由地生产具有各种形状、几何结构和特征的流动通道和填充室(plenum)，这是使用当前标准铸造或钻孔技术不可能实现的。替代地，主体105也可以制造成多个部分，然后组装并固定在一起以生成主体105。

主体105限定上游表面110、与上游表面110相对的下游表面115、以及周向表面120，该周向表面120优选地为圆柱形，但可以是适用于给定阀体的任何形状，并在上游表面110和下游之间延伸。在所示示例中，环形凸缘125在靠近下游表面115处从周向表面120延伸，以将衰减器罩100 定位和置放在阀体15内。主体105的上游表面110优选地是弧形的，其曲率半径等于流动控制构件30的外表面35的曲率半径，使得离开流动控制构件30的流体流动在流动控制构件30的所有位置处直接流入衰减器罩100。

在所示示例中，主体105包括三个衰减部分，但可以包括两个衰减部分或多于三个衰减部分，这取决于给定应用的特定要求。第一衰减部分200 包括单级205，单级205具有第一多个通道210，第一多个通道210从上游表面110延伸穿过主体105到下游表面115，使得单级205具有第一流动面积百分比。如本文所使用的，衰减部分的流动面积百分比定义为由衰减部分中的通道的入口产生的开放流动面积占衰减部分的总横截面面积的百分比。如图所示，第一多个通道210是线性的并且笔直地延伸穿过主体105。然而，第一多个通道210也可以从上游表面110到下游表面115是弧形的或者具有其他复杂的形状(例如，螺旋形、由三重周期表面构成等)并以任何期望的方式延伸穿过主体105。此外，单级205的下游壁显示为平面的，但也可以是弧形的(例如，匹配上游表面110的曲率半径)，如果第一多个通道210是弧形的或包括其他复杂的形状，这将会更好。

除了第一衰减部分200之外，主体105可以具有一个或多个附加衰减部分。附加衰减部分中的每一个将具有至少第一级，该第一级包括多个通道，该多个通道从上游表面110延伸到形成在主体内的填充室并与该填充室流体连通，并且每个连续的附加衰减部分将具有比相邻的附加衰减部分更多的级数。

例如，在所示示例中，衰减罩100的主体105具有两个附加衰减部分，具有两级的第二衰减部分300和具有三级的第三衰减部分400。第二衰减部分300的第一级305包括从主体105的上游表面110延伸到形成在主体105 内部的第一填充室315的第二多个通道310，使得第二衰减部分300的第一级305具有小于第一衰减部分200的单级205的第一流动面积百分比的第二流动面积百分比。此外，如图所示，第二多个通道310是线性的并且笔直延伸通过第一级305。然而，第二多个通道310从上游表面110到第一填充室315也可以是弧形的或具有其他复杂形状(例如，螺旋形、由三重周期表面构成等)并以任何期望的方式延伸。此外，第二衰减部分300的第一级305的下游壁显示为平面的，但也可以是弧形的(例如，匹配上游表面110的曲率半径)，如果第二多个通道310是弧形的或包括其他复杂的形状，这将会更好。

第二衰减部分300的第二级320包括从第一填充室315延伸到主体105 的下游表面115的第三多个通道325，使得第二衰减部分300的第二级320 具有大于第一级305的第二流动面积百分比的第三流动面积百分比。例如，第二衰减部分300的第二级320的第三流动面积百分比可以等于第一衰减部分200的单级205的第一流动面积百分比。如图所示，第二衰减部分300 的第二级320是平面的，然而，第二级320也可以是弧形的，如果第三多个通道325是弧形的或包括其他复杂的形状，这将会更好。例如，第二级 320的上游表面和/或下游表面可以具有与主体105的上游表面110相同或相似的曲率半径。此外，如图所示，第三多个通道325是线性的并且笔直延伸通过第二级320。然而，第三多个通道325从第一填充室315到下游表面115可以是弧形的或具有其他复杂的形状(例如，螺旋形、由三重周期表面构成等)并且以任何期望的方式延伸。

第三衰减部分400的第一级405包括从主体105的上游表面110延伸到形成在主体105内部的第二填充室415的第四多个通道410，使得第三衰减部分400的第一级405具有小于第二衰减部分300的第一级305的第二流动面积百分比的第四流动面积百分比。此外，如图所示，第四多个通道 410是线性的并且笔直延伸通过第一级405。然而，第四多个通道410从上游表面110到第二填充室415也可以是弧形的或具有其他复杂的形状(例如，螺旋形、由三重周期表面构成等)并且以任何期望的方式延伸。此外，第三衰减部分400的第一级405的下游壁显示为平面的，但也可以是弧形的(例如，匹配上游表面110的曲率半径)，如果第四多个通道410是弧形或包括其他复杂的形状，这将会更好。

第三衰减部分400的第二级420包括从第二填充室415延伸到形成在主体105内部的第三填充室430的第五多个通道425，使得第三衰减部分 400的第二级420具有大于第一级405的第四流动面积百分比的第五流动面积百分比。例如，第三衰减部分400的第二级420的第五流动面积百分比可以等于第二衰减部分300的第一级305的第二流动面积百分比。如图所示，第三衰减部分400的第二级420是平面的，然而，第二级420也可以是弧形的，如果第五多个通道425是弧形的或包括其他复杂的形状，这将会更好。例如，第二级420的上游表面和/或下游表面可以具有与主体105 的上游表面110相同或相似的曲率半径。此外，如图所示，第五多个通道 425是线性的并且笔直延伸通过第二级420。然而，第五多个通道425从第二填充室415到第三填充室430可以是弧形的或具有其他的复杂形状(例如，螺旋形、由三重周期表面构成等)并且以任何期望的方式延伸。

第三衰减部分400的第三级440包括从第三填充室430延伸到下游表面115的第六多个通道445，使得第三衰减部分400的第三级440具有大于第二级420的第五流动面积百分比的第六流动面积百分比。例如，第三衰减部分400的第三级440的第六流动面积百分比可以等于第二衰减部分300 的第二级320的第三流动面积百分比，第三流动面积百分比可以等于单级 205的第一流动面积百分比。如图所示，第三衰减部分400的第三级440是平面的，然而，第三级440也可以是弧形的，如果第六多个通道445是弧形的或者包括其他复杂的形状，这将会更好。例如，第三级440的上游表面和/或下游表面可以具有与主体105的上游表面110相同或相似的曲率半径。此外，如图所示，第六多个通道445是线性的并且笔直延伸通过第三级440。然而，第六多个通道445从第三填充室430到下游表面115可以是弧形的或具有其他复杂的形状(例如，螺旋形、由三重周期表面构成等) 并且以任何期望的方式延伸。

上述衰减部分之间和同一衰减部分中的级之间的流动面积百分比的差异可以以多种方式实现。例如，不同衰减部分/级中的通道可以具有相同的尺寸或横截面面积，并且每个衰减部分/级中的通道数量可以不同。衰减部分/级中的通道数量/面积越大，流动面积百分比越大。替代地，可以在每个衰减部分/级中使用相同或相似数量的通道，并且通道的横截面面积可以不同。例如，在以上示例中，第一多个通道210中的每一个可以具有第一横截面面积，第二多个通道310中的每一个可以具有小于第一横截面面积的第二横截面面积，第三多个通道325中的每一个可以具有大于第二横截面面积的第三横截面面积，第四多个通道410中的每一个可以具有小于第二横截面面积的第四横截面面积，第五多个通道425中的每一个可以具有大于第四横截面面积的第五横截面面积，并且第六多个通道445中的每一个可以具有大于第五横截面面积的第六横截面面积。

尽管各种衰减部分和级示出为具有特定数量的具有特定横截面形状的通道和具有特定形状的填充室，但是在每个衰减部分/级中可以使用任意数量的通道并且通道和填充室可以具有任何期望的横截面形状，只要每个衰减部分提供不同的噪声衰减，优选地对于每个连续的衰减部分衰减更高(例如，第三衰减部分400将具有比第二衰减部分300的噪声衰减更大的噪声衰减，第二衰减部分300将具有比第一衰减部分200的噪声衰减更大的噪声衰减)。

在所示示例中，在三个衰减部分的情况下，第三衰减部分400将被视为第一部分，该第一部分在流动控制构件定位于关闭位置和第一位置之间 (第一位置位于关闭位置和打开位置之间)的情况下提供第一调节流体流动，第二衰减部分300将被视为第二部分，该第二部分在流动控制构件定位于第一位置和第二位置之间(第二位置位于第一位置和打开位置之间) 的情况下提供与第一调节流体流动不同的第二调节流体流动，并且第一衰减部分200将被视为第三部分，该第三部分在流动控制构件定位于第二位置和打开位置之间的情况下提供第三调节流体流动，该第三调节流体流动不同于第一调节流体流动和第二调节流体流动。

如果主体105仅包括两个衰减部分，例如第一衰减部分200和第二衰减部分300，则第二衰减部分300将被第一部分，该第一部分在流动控制构件定位于关闭位置和第一位置之间(第一位置位于关闭位置和打开位置之间)的情况下提供第一调节流体流动，第一衰减部分200将被视为第二部分，该第二部分在流动控制构件定位于第一位置和第二位置之间(第二位置位于第一位置和打开位置之间)的情况下提供不同于第一调节流体流动的第二调节流体流动。

尽管上面已经描述了各种实施例，但是本公开不旨在限于此。可以对所公开的实施例作出变化并仍在所附权利要求的范围内。

Claims (22)

1.一种用于球阀的衰减器罩，其特征在于，所述衰减器罩包括：

主体，其限定上游表面、与所述上游表面相对的下游表面、以及在所述上游表面和所述下游表面之间延伸的周向表面，所述主体包括：

第一衰减部分，其具有单级，所述单级具有从所述上游表面延伸穿过所述主体到所述下游表面的第一多个通道，所述第一衰减部分的所述单级具有第一流动面积百分比；以及

第二衰减部分，其具有第一级和第二级，所述第一级具有从所述上游表面延伸到形成在所述主体内部的第一填充室的第二多个通道，所述第二级具有从所述第一填充室延伸到所述下游表面的第三多个通道，所述第二衰减部分的所述第一级具有小于所述第一流动面积百分比的第二流动面积百分比，并且所述第二衰减部分的所述第二级具有大于所述第二流动面积百分比的第三流动面积百分比。

2.根据权利要求1所述的衰减器罩，其特征在于，所述第三流动面积百分比等于所述第一流动面积百分比。

3.根据权利要求1所述的衰减器罩，其特征在于，所述第一多个通道中的每一个都具有第一横截面面积，所述第二多个通道中的每一个都具有小于所述第一横截面面积的第二横截面面积，并且每个第三多个通道中的每一个都具有大于所述第二横截面面积的第三横截面面积。

4.根据权利要求1所述的衰减器罩，其特征在于，所述主体是整体的、一体形成的单件结构。

5.根据权利要求1所述的衰减器罩，其特征在于，所述第一多个通道从所述上游表面到所述下游表面是弧形的。

6.根据权利要求1所述的衰减器罩，其特征在于，所述第二衰减部分的所述第二级是弧形的。

7.根据权利要求1所述的衰减器罩，其特征在于，所述第二多个通道从所述上游表面到所述第一填充室是弧形的，并且所述第三多个通道从所述第一填充室到所述下游表面是弧形的。

8.根据权利要求1所述的衰减器罩，其特征在于，所述上游表面是弧形的并且具有与所述球阀的流动控制构件的外表面的曲率半径相等的曲率半径。

9.根据权利要求1所述的衰减器罩，其特征在于，包括第三衰减部分，所述第三衰减部分具有第一级、第二级和第三级，所述第一级具有从所述上游表面延伸到形成在所述主体内部的第二填充室的第四多个通道，所述第二级具有从所述第二填充室延伸到形成在所述主体内部的第三填充室的第五多个通道，并且所述第三级具有从所述第三填充室延伸到所述下游表面的第六多个通道，其中，所述第三衰减部分的所述第一级具有小于所述第二流动面积百分比的第四流动面积百分比，所述第三衰减部分的所述第二级具有大于所述第四流动面积百分比的第五流动面积百分比，并且第三衰减部分的第三级具有大于第五流动面积百分比的第六流动面积百分比。

10.根据权利要求9所述的衰减器罩，其特征在于，所述第五流动面积百分比等于所述第二流动面积百分比并且所述第六流动面积百分比等于所述第一流动面积百分比。

11.根据权利要求9所述的衰减器罩，其特征在于，所述第四多个通道中的每一个都具有小于所述第二多个通道的横截面面积的第四横截面面积，所述第五多个通道中的每一个都具有大于所述第四横截面面积的第五横截面面积，并且所述第六多个通道中的每一个都具有大于所述第五横截面面积的第六横截面面积。

12.根据权利要求9所述的衰减器罩，其特征在于，所述第四多个通道从所述上游表面到所述第二填充室是弧形的，所述第五多个通道从所述第二填充室到所述第一填充室是弧形的，并且所述第六多个通道从所述第一填充室到所述下游表面是弧形的。

13.根据权利要求9所述的衰减器罩，其特征在于，所述第三衰减部分的所述第二级是弧形的，并且所述第三衰减部分的所述第三级是弧形的。

14.一种球阀，其特征在于，包括根据权利要求1所述的衰减器罩，所述球阀包括：

阀体，其具有入口和出口；

流动控制构件，其定位在所述阀体内并且可在打开位置和关闭位置之间旋转，在所述打开位置，在所述入口和所述出口之间允许流体流动，在所述关闭位置，在所述入口和所述出口之间不允许流体流动，所述流动控制构件包括具有曲率半径的外表面；以及

轴，其延伸穿过所述阀体并连接到所述流动控制构件，以使所述流动控制构件在所述打开位置和所述关闭位置之间旋转；其中

所述衰减器罩在所述流动控制构件的下游定位于所述阀体内，并且所述上游表面是弧形的并具有与所述流动控制构件的所述曲率半径相等的曲率半径。

15.一种用于球阀的衰减器罩，其特征在于，所述衰减器罩包括：

主体，其限定上游表面、与所述上游表面相对的下游表面、以及在所述上游表面和所述下游表面之间延伸的周向表面，所述主体包括：

第一衰减部分，其具有单级，所述单级具有从所述上游表面延伸穿过所述主体到所述下游表面的第一多个通道；以及

一个或多个附加衰减部分，所述附加衰减部分中的每一个具有至少第一级，所述第一级包括与形成在所述主体内的填充室流体连通的多个通道，其中，每个连续的附加衰减部分具有比相邻的附加衰减部分更多的级数。

16.根据权利要求15所述的衰减器罩，其特征在于，所述第一衰减部分具有第一流动面积百分比，所述附加衰减部分中的第二衰减部分的所述第一级具有小于所述第一流动面积百分比的第二流动面积百分比，所述附加衰减部分中的所述第二衰减部分的第二级具有大于所述第二流动面积百分比的第三流动面积百分比。

17.根据权利要求16所述的衰减器罩，其特征在于，所述第三流动面积百分比等于所述第一流动面积百分比。

18.根据权利要求15所述的衰减器罩，其特征在于，所述第一衰减部分的所述多个通道各自具有第一横截面面积，并且所述附加衰减部分的所述第一级的所述多个通道各自具有第二横截面面积，所述第二横截面面积小于所述第一横截面面积。

19.根据权利要求18所述的衰减器罩，其特征在于，所述附加衰减部分中的每一个具有第一级，其中，每个第一级的所述多个通道的横截面面积小于相邻的附加衰减部分的第一级的通道的横截面面积。

20.根据权利要求15所述的衰减器罩，其特征在于，所述主体是整体的、一体形成的单件结构。

21.根据权利要求15所述的衰减器罩，其特征在于，所述第一衰减部分的所述多个通道从所述上游表面到所述下游表面是弧形的。

22.根据权利要求15所述的衰减器罩，其特征在于，所述上游表面是弧形的并且具有与所述球阀的流动控制构件的外表面的曲率半径相等的曲率半径。

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