CN217932344U - 高透光率光散射式液晶显示器 - Google Patents
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Abstract
一种高透光率光散射式液晶显示器,包括上玻璃基板和下玻璃基板,上玻璃基板和下玻璃基板平行且相互对应配置,在上玻璃基板和下玻璃基板之间四周设有封框胶,上玻璃基板、下玻璃基板和封框胶密封形成密闭内腔,在密闭内腔内设有液晶材料,在上玻璃基板的外表面上至少设有第一层上抗反射增透膜和在第一层上抗反射增透膜上设有第二层上抗反射增透膜,第一层上抗反射增透膜相对于上玻璃基板是光密介质,第二层上抗反射增透膜相对于第一层上抗反射增透膜是光疏介质。本实用新型可以达到大于86%的透光率的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及光散射式液晶显示器技术领域,尤其是一种高透光率光散射式液晶显示器。
背景技术
现有技术中,光散射式液晶显示器(英文RPDLCD,Reversed Polymer dispersedLiquid Crystal Display或PNLCD, Polymer Network Liquid Crystal Display)一般包括上玻璃基板和下玻璃基板,所述上玻璃基板和下玻璃基板平行且相互对应配置,在上玻璃基板和下玻璃基板之间四周设有封框胶,上玻璃基板、下玻璃基板和封框胶密封形成一密闭内腔,在密闭内腔内设有液晶材料;这种光散射式液晶显示器具有通电阻光,不通电光线穿透的特性,因此,这种光散射式液晶显示器被广泛应用于测距仪、瞄准镜和望远镜内,用于显示与测距仪、瞄准镜和望远镜相关的数据。
这种光散射式液晶显示器当被使用在测距仪、瞄准镜和望远镜内时,由于筒内的光线比较暗,因此,要求光散射式液晶显示器一方面在通电的情况下,能够显示文字或/图案,另一方面在不通电的情况下具有良好的穿透性能。虽然,现有的光散射式液晶显示器已经达到了86%的透光率,但是,还是不能满足用户对更高透光率的光散射式液晶显示器的要求。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种可以达到大于86%的透光率的高透光率光散射式液晶显示器。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
提供一种高透光率光散射式液晶显示器,包括上玻璃基板和下玻璃基板,所述上玻璃基板和下玻璃基板平行且相互对应配置,在上玻璃基板和下玻璃基板之间四周设有封框胶,所述上玻璃基板、下玻璃基板和封框胶密封形成密闭内腔,在密闭内腔内设有液晶材料,在所述上玻璃基板的外表面上至少设有第一层上抗反射增透膜和在所述第一层上抗反射增透膜上设有第二层上抗反射增透膜,所述第一层上抗反射增透膜相对于所述上玻璃基板是光密介质,所述第二层上抗反射增透膜相对于所述第一层上抗反射增透膜是光疏介质。
作为对本实用新型的改进,在所述下玻璃基板的外表面上至少设有第一层下抗反射增透膜和在所述第一层下抗反射增透膜上设有第二层下抗反射增透膜,所述第一层下抗反射增透膜相对于所述下玻璃基板是光密介质,所述第二层下抗反射增透膜相对于所述第一层下抗反射增透膜是光疏介质。
作为对本实用新型的改进,在所述第二层上抗反射增透膜上还设有n层上抗反射增透膜,其中,n在1-6中选择,且相邻两层上抗反射增透膜之间依次为光密介质和光疏介质相间布置。
作为对本实用新型的改进,在所述第二层下抗反射增透膜上还设有m层下抗反射增透膜,其中,m在1-6中选择,且相邻两层下抗反射增透膜之间依次为光密介质和光疏介质相间布置。
作为对本实用新型的改进,所述光密介质是五氧化二铌光密介质层,所述光疏介质是二氧化硅光疏介质层。
作为对本实用新型的改进,所述五氧化二铌光密介质层是用真空蒸发镀或磁控溅射镀形成的;所述二氧化硅光疏介质层是用真空蒸发镀或磁控溅射镀形成的。
本实用新型由于采用了在所述上玻璃基板的外表面上至少设有第一层上抗反射增透膜和在所述第一层上抗反射增透膜上设有第二层上抗反射增透膜,所述第一层上抗反射增透膜相对于所述上玻璃基板是光密介质,所述第二层上抗反射增透膜相对于所述第一层上抗反射增透膜是光疏介质的结构,所以,本实用新型可以达到大于86%的透光率的优点。
附图说明
图1是本实用新型一种实施例的平面结构示意图。
具体实施方式
下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
请参见图1,图1揭示的是一种高透光率光散射式液晶显示器,包括上玻璃基板1和下玻璃基板2,所述上玻璃基板1和下玻璃基板2平行且相互对应配置,在上玻璃基板1和下玻璃基板2之间四周设有封框胶3,所述上玻璃基板1、下玻璃基板2和封框胶3密封形成密闭内腔,在密闭内腔内设有液晶材料4,在所述上玻璃基板1的外表面上至少设有第一层上抗反射增透膜11和在所述第一层上抗反射增透膜11上设有第二层上抗反射增透膜12(本实施例中,可以设置2-8层上抗反射增透膜,所有上抗反射增透膜都是按照从第一层起光密介质、光疏介质相间布置,这样有利于提高透高率),所述第一层上抗反射增透膜11相对于所述上玻璃基板1是光密介质,所述第二层上抗反射增透膜12相对于所述第一层上抗反射增透膜11是光疏介质。
优选的,在所述下玻璃基板2的外表面上至少设有第一层下抗反射增透膜21和在所述第一层下抗反射增透膜21上设有第二层下抗反射增透膜22,所述第一层下抗反射增透膜21相对于所述下玻璃基板2是光密介质,所述第二层下抗反射增透膜22相对于所述第一层下抗反射增透膜21是光疏介质。
优选的,在所述第二层上抗反射增透膜12上还设有n层上抗反射增透膜13,其中,n在1-6中选择,且相邻两层上抗反射增透膜之间依次为光密介质和光疏介质相间布置。
优选的,在所述第二层下抗反射增透膜22上还设有m层下抗反射增透膜23,其中,m在1-6中选择,且相邻两层下抗反射增透膜之间依次为光密介质和光疏介质相间布置。
优选的,所述光密介质是五氧化二铌光密介质层,所述光疏介质是二氧化硅光疏介质层。本实施例中,当采用五氧化二铌为光密介质,以及采用二氧化硅光疏介质,那么,所述第一层上抗反射增透膜11和所述第一层下抗反射增透膜21为用五氧化二铌制成的抗反射增透膜;所述第二层上抗反射增透膜12和所述第二层下抗反射增透膜22为用二氧化硅制成的抗反射增透膜;所述第三层上抗反射增透膜和所述第三层下抗反射增透膜又为用五氧化二铌制成的抗反射增透膜;所述第四层上抗反射增透膜和所述第四层下抗反射增透膜为用二氧化硅制成的抗反射增透膜;依此类推,直到所需的层数。
本实施例中,所采用的玻璃基板是钠钙玻璃,包括上玻璃基板1和下玻璃基板2,所述上玻璃基板1和下玻璃基板2的折射率1.5,二氧化硅的折射率1.5,五氧化二铌的折射率2.3。
优选的,所述五氧化二铌光密介质层是用真空蒸发镀或磁控溅射镀形成的;所述二氧化硅光疏介质层是用真空蒸发镀或磁控溅射镀形成的。
经试验,其透光率的效果如下:
表一:仅对上玻璃基板1或下玻璃基板2增加抗反射增透膜
对照样的光散射式液晶显示器仅是没有镀膜,其它结构与本实用新型的结构一样。从表一可以看出,当设置两层镀膜时,可以将原来的透光率86%提高至89%,以后每增加一层都可以提高透光率;单面镀膜时,最高可以达到91%的透光率。
表二:上玻璃基板1和下玻璃基板2都增加抗反射增透膜
从表二可以看出,在表一镀膜的基础上,当再设置两层镀膜时,可以将原来的透光率86%提高至92%(上玻璃基板1或下玻璃基板2上各镀两层),以后每增加一层可以在与上玻璃基板1相等时,再提高透光率,双面镀膜时,最高可以达到94%的透光率。
光散射式液晶显示器以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种高透光率光散射式液晶显示器,包括上玻璃基板(1)和下玻璃基板(2),所述上玻璃基板(1)和下玻璃基板(2)平行且相互对应配置,在上玻璃基板(1)和下玻璃基板(2)之间四周设有封框胶(3),所述上玻璃基板(1)、下玻璃基板(2)和封框胶(3)密封形成密闭内腔,在密闭内腔内设有液晶材料(4),其特征在于:在所述上玻璃基板(1)的外表面上至少设有第一层上抗反射增透膜(11)和在所述第一层上抗反射增透膜(11)上设有第二层上抗反射增透膜(12),所述第一层上抗反射增透膜(11)相对于所述上玻璃基板(1)是光密介质,所述第二层上抗反射增透膜(12)相对于所述第一层上抗反射增透膜(11)是光疏介质。
2.根据权利要求1所述的高透光率光散射式液晶显示器,其特征在于,在所述下玻璃基板(2)的外表面上至少设有第一层下抗反射增透膜(21)和在所述第一层下抗反射增透膜(21)上设有第二层下抗反射增透膜(22),所述第一层下抗反射增透膜(21)相对于所述下玻璃基板(2)是光密介质,所述第二层下抗反射增透膜(22)相对于所述第一层下抗反射增透膜(21)是光疏介质。
3.根据权利要求1或2所述的高透光率光散射式液晶显示器,其特征在于,在所述第二层上抗反射增透膜(12)上还设有n层上抗反射增透膜(13),其中,n在1-6中选择,且相邻两层上抗反射增透膜之间依次为光密介质和光疏介质相间布置。
4.根据权利要求2所述的高透光率光散射式液晶显示器,其特征在于,在所述第二层下抗反射增透膜(22)上还设有m层下抗反射增透膜(23),其中,m在1-6中选择,且相邻两层下抗反射增透膜之间依次为光密介质和光疏介质相间布置。
5.根据权利要求1或2或4所述的高透光率光散射式液晶显示器,其特征在于,所述光密介质是五氧化二铌光密介质层,所述光疏介质是二氧化硅光疏介质层。
6.根据权利要求3所述的高透光率光散射式液晶显示器,其特征在于,所述光密介质是五氧化二铌光密介质层,所述光疏介质是二氧化硅光疏介质层。
7.根据权利要求5所述的高透光率光散射式液晶显示器,其特征在于: 所述五氧化二铌光密介质层是用真空蒸发镀或磁控溅射镀形成的;所述二氧化硅光疏介质层是用真空蒸发镀或磁控溅射镀形成的。
8.根据权利要求6所述的高透光率光散射式液晶显示器,其特征在于: 所述五氧化二铌光密介质层是用真空蒸发镀或磁控溅射镀形成的;所述二氧化硅光疏介质层是用真空蒸发镀或磁控溅射镀形成的。
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CN202222241519.1U Active CN217932344U (zh) | 2022-08-25 | 2022-08-25 | 高透光率光散射式液晶显示器 |
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