CN217902220U

CN217902220U - 基于超透镜的层析扫描成像系统

Info

Publication number: CN217902220U
Application number: CN202222430214.5U
Authority: CN
Inventors: 赵小波; 郝成龙; 谭凤泽; 朱健
Original assignee: Shenzhen Metalenx Technology Co Ltd
Current assignee: Shenzhen Metalenx Technology Co Ltd
Priority date: 2022-09-14
Filing date: 2022-09-14
Publication date: 2022-11-25
Anticipated expiration: 2032-09-14

Abstract

本申请公开了一种基于超透镜的层析扫描成像系统，涉及光学相干层析的技术领域，本申请旨在解决无法快速获取生物组织不同深度的信息的问题。本申请包括光源，用于照射被测对象，以形成携带被测对象照射位置的信息的散射光；多焦点超透镜，多焦点超透镜的每个区域分别设置成，通过多焦点超透镜将在多焦点超透镜的相应焦点处的散射光在与焦点相对应的区域中进行调制，以出射准直光；聚焦超透镜，聚焦超透镜设置成，将来自多焦点超透镜的不同区域的光分别聚焦至同一焦平面的不同位置上；以及探测器组。本申请通过将多焦点超透镜分为多个区域，每个区域具有不同的焦距，从而探测器组能够接收来自多焦点超透镜不同区域的光，使得成像三维化。

Description

基于超透镜的层析扫描成像系统

技术领域

本公开涉及光学相干层析的技术领域，具体地，本公开涉及一种基于超透镜的层析扫描成像系统。

背景技术

光学相干层析(Optical Coherence Tomography，OCT)技术，在医学领域，例如心血管、眼部疾病检测中发挥着巨大的作用。

但由于现有单一像面的OCT成像设备，无法满足对生物组织的不同深度的快速采集，其需要借助精密的三维移动平台，通过三维移动平台控制OCT成像设备的移动，来获取生物组织不同深度的信息，由此，现有的成像设备存在无法快速获取生物组织不同深度的信息的问题。

另外，三维移动平台多为机械式设备，还存在设备整体体积大，成本高的问题。

实用新型内容

为解决上述问题，即无法快速获取生物组织不同深度的信息的问题，本申请提出了一种基于超透镜的层析扫描成像系统，包括：

光源，用于照射被测对象，以形成携带所述被测对象照射位置的信息的散射光；

多焦点超透镜，所述多焦点超透镜被划分成多个区域，所述多焦点超透镜沿着光轴具有多个焦点，所述多个焦点与所述多个区域呈对应关系，其中所述多焦点超透镜的每个区域分别设置成，通过所述多焦点超透镜将在所述多焦点超透镜的相应焦点处的所述散射光在与所述焦点相对应的区域中进行调制，以出射准直光；

聚焦超透镜，所述聚焦超透镜设置成，将来自所述多焦点超透镜的不同区域的光分别聚焦至同一焦平面的不同位置上；

以及探测器组，包括多个探测器，所述多个探测器的位置对应于所述聚焦超透镜的相应的焦点设置。

通过采用上述技术方案，对于处于多焦点超透镜区域所对应焦点处的被测对象，其上散射至多焦点超透镜的光能够通过多焦点超透镜调制为准直光，准直光通过聚焦超透镜后能够聚焦至不同位置，通过探测器组便能够确认被测对象该处的信息。

在本申请的一个实施方式中，所述光源为单色光源。

在本申请的一个实施方式中，所述光源的数量为一个。

在本申请的一个实施方式中，所述多焦点超透镜的每个区域包括基底以及设置在所述基底上的超结构单元，所述超结构单元包括多个纳米结构，所述多个纳米结构阵列式排布或周期性排布，朝向所述多焦点超透镜的不同区域入射的光能够通过所述纳米结构出射至其所在区域对应的焦点处。

在本申请的一个实施方式中，所述纳米结构包括偏振相关结构，所述偏振相关结构包括纳米椭圆柱和/或纳米鳍，所述超结构单元的顶点和/或中心位置设置所述偏振相关结构；

或者，所述纳米结构包括偏振无关结构，所述偏振无关结构包括纳米圆柱和/或纳米方柱，所述超结构单元的顶点和/或中心位置设置所述偏振无关结构。

在本申请的一个实施方式中，所述纳米结构之间采用空气填充或采用填充物填充，所述填充物为工作波段透明的材料，且所述填充物的折射率与所述纳米结构的折射率差值的绝对值大于等于0.5。

在本申请的一个实施方式中，所述多焦点超透镜的所述多个区域环形地构成，且每个环形区域的面积相同。

通过采用上述技术方案，提供了超透镜的一种区域设计方案。

通过采用上述技术方案，通过对环形区域的面积进行设置，保证每个环形区域的光强度一致。

在本申请的一个实施方式中，所述多焦点超透镜采用可调超透镜，所述可调超透镜与控制器电连接，所述控制器通过外加激励的调控方式调控所述可调超透镜，以动态地改变所述可调超透镜的焦距。

通过采用上述技术方案，通过外加激励能够动态地调节焦距，便于多场景使用。

在本申请的一个实施方式中，基于电压调控的所述可调超透镜包括相变单元，所述相变单元包括间隔设置的第一电极、第二电极以及设置在所述第一电极和所述第二电极之间的纳米结构，其中所述纳米结构包括相变材料或由相变材料构成，所述第一电极与所述第二电极通过所述相变单元的中间件实现电连接，所述可调超透镜能够通过改变所述第一电极与所述第二电极之间的电势，改变所述相变单元的相变态。

通过采用上述技术方案，纳米结构为相变材料，通过电控的方式，改变相变态，以改变焦距。

在本申请的一个实施方式中，基于电压调控的所述可调超透镜包括基底以及相变单元，所述相变单元包括纳米结构、第一电极层、第二电极层和相变材料层，其中所述第一电极层填充于所述纳米结构的周围，所述第一电极层的高度低于所述纳米结构的高度；所述相变材料层设置在所述第一电极层远离所述基底的一侧，且填充于所述纳米结构的周围，所述第一电极层与所述相变材料层的高度之和大于或等于所述纳米结构的高度；所述第二电极层设置于所述相变材料层远离所述基底的一侧；

基于电压调控的所述可调超透镜能够通过改变所述第一电极层与所述第二电极层之间的电势，改变所述相变材料层的相变态。

通过采用上述技术方案，纳米结构的填充物为相变材料，通过电控的方式，改变相变态，以改变焦距。

在本申请的一个实施方式中，所述聚焦超透镜的焦平面垂直于所述聚焦超透镜的光轴，所述多个探测器设置在所述焦平面内，经所述多焦点超透镜的不同区域出射的准直光通过所述聚焦超透镜后能够分别聚焦至不同的探测器上。

在本申请的一个实施方式中，所述聚焦超透镜分成多个空间，所述聚焦超透镜与所述多焦点超透镜同光轴设置，且所述多个空间对应所述多个区域设置。

在本申请的一个实施方式中，所述聚焦超透镜的尺寸不小于所述多焦点超透镜的尺寸。

在本申请的一个实施方式中，所述多个探测器参照经所述聚焦超透镜聚焦后的焦平面呈横向排布，多个探测器分别接收通过所述聚焦超透镜的其中一个空间的光。

通过采用上述技术方案，聚焦超透镜的设置与超透镜的设置相对应，对于来自多焦点超透镜各区域的光都存在一个聚焦超透镜的空间对其进行调节。

在本申请的一个实施方式中，所述探测器的数量参照所述多焦点超透镜的区域数量设置。

本申请的有益效果为：

1、通过将多焦点超透镜分为多个区域，每个区域具有不同的焦距，从而探测器组能够同时接收来自多焦点超透镜不同区域的光，使得成像三维化；

2、多焦点超透镜的不同区域还能针对与同一且单色光源的光进行相应的聚焦，显著地降低了照明系统的复杂度，且成像清晰并且更加真实地对被测对象进行三维还原；

3、聚焦超透镜对应多焦点超透镜的多个区域设定，其上的每个空间能将来自对应区域的光会聚至其焦平面内不同位置的探测器上，能够减少两者间的串扰，且形成的三维图像具有更好的深度信息；

4、通过采用超透镜或超透镜的组合，使得系统的整体结构更加简单、重量更轻、体积更小巧且成像速度更快。

附图说明

为了能更进一步了解本实用新型的特征以及技术内容，请参阅以下有关本实用新型的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本实用新型加以限制。

图1是本申请的基于超透镜的层析扫描成像系统的超透镜的一个实施例的光路示意图。

图2为本申请的基于超透镜的层析扫描成像系统的超透镜的一个实施例的结构示意图。

图3为本申请的基于超透镜的层析扫描成像系统的超透镜的一个实施例的光路示意图。

图4为本申请的基于超透镜的层析扫描成像系统的成像设备的一个实施例的结构示意图。

图5为本申请中多焦点超透镜的一种结构示意图。

图6为本申请中多焦点超透镜的另一种结构示意图。

附图标记：

1、多焦点超透镜；11、基底；12、第一电极；13、第二电极；14、连接层；15、纳米结构；16、第一绝缘层；17、第二绝缘层；18、填充物；111、纳米结构二；112、相变材料层；113、第一电极层；114、第二电极层；2、聚焦超透镜；3、传感器组；5、显示单元。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本实用新型。在本实用新型和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。

应当理解，尽管在本申请可能采用术语第一、第二、第三等来描述各种信息，但这些信息不应限于这些术语。这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区分开。例如，在不脱离本申请范围的情况下，第一信息也可以被称为第二信息，类似地，第二信息也可以被称为第一信息。取决于语境，如在此所使用的词语“如果”可以被解释成为“在……时”或“当……时”或“响应于确定”。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施方式中的特征可以相互组合。

对于基于超透镜的光学相干层析技术(即OCT)，在此该技术采用超透镜对于光的色散能力大的原理，从而将不同波长的光会聚在不同的焦平面上，但使用过程中，需要采用不同波长的光照射样品，因此，对不同焦平面上采集的信息色彩不一致，这不利于真实地对被测对象进行三维还原。此外，由于需要使用不同波长的光进行照射，照明系统的设计复杂度高且成本也较高。

基于上述原因，发明人提出一种基于超透镜的层析扫描成像系统以解决上述问题。

参见图4，本申请提出了一种基于超透镜的层析扫描成像系统，包括光源、多焦点超透镜、聚焦超透镜、探测器组以及显示单元。

在本申请的成像系统的工作中，光源照射被测对象后形成携带被测对象对应位置的信息的散射光，对于处于多焦点超透镜的焦点位置的被测对象，被测对象上向回散射的光经多焦点超透镜调制后，射出准直光，聚焦超透镜接收准直光后聚焦至探测器上，从而获得被测对象的信息，并经处理以在显示单元上显示图像。

在本申请的一个实施方式中，光源为单色光源，且仅设有唯一的光源。因此，与现有技术的基于超透镜的层析扫描成像系统相比，显著地简化了照明系统的设计。

在此，多焦点超透镜分为多个区域，且每个区域包括基底以及设置在基底上的超结构单元，超结构单元包括多个纳米结构，多个纳米结构呈阵列式排布或周期性排布，如图1所示，经多焦点超透镜不同区域的光能够会聚在不同位置的焦点上。

超结构单元为可密堆积图形，超结构单元可以是为正六边形，正六边形各顶点和中心位置至少设置有一个纳米结构。或者，超结构单元为正方形，正方形各顶点和中心位置至少设置有一个纳米结构。理想状态下，超结构单元应为六边形，且顶点及中心排布有纳米结构，或者超结构单元为正方形，且顶点及中心排布有纳米结构。应当理解，实际产品可能因超透镜形状的限制，在超透镜边缘有纳米结构的缺失，使其不满足完整的六边形/正方形。具体的，所述超结构单元由纳米结构按照规律排布而成，若干个超结构单元成阵列排布形成超透镜结构。

可选地，超结构单元包括一个中间的纳米结构和环绕其的6个与其距离相等的周边的纳米结构，各周边纳米结构沿着环周均匀分布，组成正六边形，也可理解为多个纳米结构组成的正三角形互相组合。可选地，超结构单元包括一个中间的纳米结构和环绕其的4个与其距离相等的周边的纳米结构，组成正方形。可选地，超结构单元及其密堆/阵列的形式也可以是圆周排列的扇形，例如包括两个弧形边的扇形，或包括一个弧形边的扇形；在扇形的各边交点以及中心设置有纳米结构。

在其中一个实施例中，纳米结构为偏振相关结构，其包括纳米椭圆柱和/或纳米鳍，超结构单元的顶点和/或中心位置设置该偏振相关结构。或者纳米结构为偏振无关结构，其包括纳米圆柱或纳米方柱，超结构单元的顶点和/或中心位置设置该偏振无关结构。

在其中一个具体的实施例中，如图2所示，多焦点超透镜的多个区域呈环形地设置。

为了保证使用本申请的超透镜能够成像清晰，在一个优选的实施例中，多焦点超透镜上每个区域的面积一致，由此多焦点超透镜的每个区域满足下式：

其中，k为任一环形区域由内至外方向上对应的位次，n为超透镜的环形区域总数，R为超透镜的半径。

通过上式，保证每个区域的面积一致，进而每个区域的光通量一致，经多个区域后会聚的光具有相同的光强，以确保真实的三维还原。

例如，在如图2所示的多焦点超透镜的又一个具体的实施例中，多焦点超透镜的孔径为0.76mm，各环形区域中外圆的半径由外至内依次为：0.65mm、0.537mm以及0.380mm，环形区域的内圆尺寸则为下一环形区域的外圆尺寸，由此形成四个环形区域，其焦距分别为：1.934mm、1.741mm、1.354mm以及0.967mm。其光路效果图如图3所示。

在其中一个优选的实施例中，上述超透镜采用可调超透镜，可调超透镜与控制器电连接，控制器能够通过外加激励的调控方式，动态地改变可调超透镜的焦距。

对于可调超透镜，在一个实施例中，可调超透镜采用电压的调控方式。例如，可调超透镜上设置有调控电压，可调超透镜的超透镜结构单元采用相变材料，相变材料通过在外加激励(如热、激光、外加电压)下改变物质内部的晶格,可以大幅度地改变介电常数。

GST作为常用的相变材料，其由锗(Ge)、锑(Sb)和碲(Te)三种元素组成。固态GST有晶态和非晶态两种相态,两态的介电常数存在较大的差别。

当非晶态GST温度超过结晶温度(多为160℃)时,非晶态会首先相变为亚稳态的面心立方晶体结构,类似于NaCl。如果温度继续升高,亚稳态晶体结构会变为稳态的六方结构。非晶态到晶态的相变过程可通过把GST放置于加热板上加热、使用激光脉冲照射、外加电压等手段来实现。

相反地,把晶态GST加热超过其熔点(多为640℃)并液化,后经急速冷却可形成非晶态GST。整个冷却凝固过程需要在10ns内急速完成,如果凝固时间过长,液态GST有充足时间重组为晶态结构。在应用激光的情况下,GST从晶态到非晶态的相变往往需要较大功率的短脉冲(脉宽<10ns)激光。

GST晶态或非晶态的相变过程一旦完成,即使撤去外部激励并回到室温环境，GST仍可长时间保持相变后的晶态或非晶态。GST的晶化比例可通过控制晶化过程的物理参数获得，例如，对非晶态GST进行加热,晶化比例可通过改变加热温度或加热时间来调控,以获得不同的折射率。

在图5中的(1)和(2)示出本申请的可调超透镜一个纳米结构、即相变单元的示意图。在此，相变单元是透射式的相变单元。可以直接利用相变元件实现导电并加热。如图5中的(1)所示，第一电极与纳米结构的下侧电连接，第二电极与纳米结构的上侧电连接。在两个电极的作用下，由相变材料制成的纳米结构直接导电发热，实现相变态的改变。在此，第一电极和第二电极的材料在工作波段透明，以避免降低光线的透过率。

在此，该第一电极可以直接与纳米结构电连接；或者，如图5中的(1)所示，该相变单元还包括：连接层，且连接层在工作波段透明。该连接层位于纳米结构远离第一电极的一侧，并与纳米结构电连接；第二电极位于第一电极与连接层之间，并与连接层电连接。本实施例中，该层状的第一电极和连接层均采用导电且透明的材料，例如，可以使用ITO制作而成。

例如，为了避免间隔设置的第一电极与第二电极之间漏电，参见图5中的(1)所示，该相变单元还包括：第一绝缘层；第一绝缘层位于第一电极与第二电极之间，并抵接第一电极、第二电极。可选地，该相变单元还可包括与纳米结构并列设置的第二绝缘层，在能够支撑部分电极的情况下，也可实现绝缘。另外，该第二绝缘层还可以起到支撑连接层的作用。

参见图5中的(2)所示，该相变单元也可以包括：填充物，该填充物在工作波段透明；填充物填充在纳米结构之间。本实用新型实施例中，在纳米结构周围填充有透明材料，即填充物；该填充物在工作波段具有较高的透过率，并且，填充物的折射率与相变材料的折射率相比，二者之间的差值不小于0.5，以能够保证纳米结构的调制效果。

在本申请中，如图5中的(1)和(2)所示，相变单元为透射式，其中光线A射入至相变单元，该相变单元对光线A进行相位调制，并出射调制后的光线B，该光线B为透射光。

在可调超透镜的另一设计方案中，如图6所示，超透镜包括基底、纳米结构二、相变材料层、第一电极层以及第二电极层；基底的一侧设置有多个纳米结构二，第一电极层填充于纳米结构二的周围，第一电极层的高度低于纳米结构二的高度；相变材料层设置在第一电极层远离基底的一侧，且填充于纳米结构二的周围，第一电极层与相变材料层的高度之和大于或等于纳米结构二的高度；第二电极层设置于相变材料层远离基底的一侧；第一电极层以及第二电极层用于对相变材料层加载电压，相变材料层能够根据所加载的电压改变可调超透镜的相位。

在该可调超透镜中不仅包含有基底和纳米结构二，还针对性地选取了相变材料层作为填充物填充于该纳米结构二的周围，利用了该相变材料层在受到电压的影响后能够相应地改变相变状态的特质，从而改变该可调超透镜的焦距，采用第一电极层与第二电极层对填充在纳米结构二周围的相变材料层施加一定的电压，当该相变材料层接收到电压时，该相变材料层即可改变可调超透镜的焦距，此时的焦距与未施加电压时的焦距不同。

可选地，相变材料层在所加载的电压发生变化时，能够改变相变材料层的折射率。在当前的设计方案中，相变材料层是填充在该超透镜所具有的多个纳米结构二周围，因此，当该相变材料层的折射率发生变化时，能够改变包含该相变材料层的可调超透镜的焦距。

在其中一个实施例中，可调超透镜的纳米结构的材料还可以采用光热敏材料，其可以将光能转换为热能，以提高相变速度和效率。

通过将控制光聚焦在相应的纳米结构处，可以激励该纳米结构，从而改变超透镜的相位。

上述的纳米结构为全介质结构单元，在工作波段(如可见光波段)具有高透过率。纳米结构按照正六边形、正方形、扇形等周期性的阵列排布，例如，纳米结构可以位于一个周期的中心位置和/或顶点位置。

聚焦超透镜上分成与多焦点超透镜的多个区域对应的多个空间，该空间的数量、形状和位置与超透镜区域的数量、形状和位置一致，进而多焦点超透镜的每个区域均有一个聚焦超透镜的空间与之对应，将经过多焦点超透镜不同区域的光会聚至不同位置。同时，聚焦超透镜的尺寸不小于多焦点超透镜的尺寸，且聚焦超透镜被配置为，能够将通过多焦点超透镜不同区域的光聚焦至同一焦平面上。

需要补充的是，聚焦超透镜所形成的同一焦平面与聚焦超透镜的光轴垂直，且经聚焦超透镜会聚的焦点在焦平面上呈横向排布。

探测器组包括多个探测器，探测器例如电荷耦合元件(Charge-coupled Device，CCD)或者CMOS(互补金属氧化物半导体)探测器，其位置参照光通过超透镜后经聚焦超透镜会聚的位置设定。

显示单元能够处理经探测器组接收到的光，由于通过聚焦超透镜的光会聚至同一焦平面(也即探测器组所在平面)，探测器组能够同时接收光，并同时将光对应的信号传递至显示单元，显示单元对信号进行处理，不同位置的信号对应不同的深度信息，从而形成三维图像。通过本申请实现了快速获取深度信息并形成对应三维图像的功能。

以上，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims

1.一种基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，包括：

光源，用于照射被测对象，以形成携带所述被测对象的信息的散射光；

2.根据权利要求1所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述光源为单色光源。

3.根据权利要求1所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述光源的数量为一个。

4.根据权利要求1所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述多焦点超透镜的每个区域包括基底以及设置在所述基底上的超结构单元，所述超结构单元包括多个纳米结构，所述多个纳米结构阵列式排布或周期性排布，朝向所述多焦点超透镜的不同区域入射的光能够通过所述纳米结构出射至其所在区域对应的焦点处。

5.根据权利要求4所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述纳米结构包括偏振相关结构，所述偏振相关结构包括纳米椭圆柱和/或纳米鳍，所述超结构单元的顶点和/或中心位置设置所述偏振相关结构；

6.根据权利要求5所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述纳米结构之间采用空气填充或采用填充物填充，所述填充物为工作波段透明的材料，且所述填充物的折射率与所述纳米结构的折射率差值的绝对值大于等于0.5。

7.根据权利要求1所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述多焦点超透镜的所述多个区域环形地构成，且每个环形区域的面积相同。

8.根据权利要求1-7中任一所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述多焦点超透镜采用可调超透镜，所述可调超透镜与控制器电连接，所述控制器通过外加激励的调控方式调控所述可调超透镜，以动态地改变所述可调超透镜的焦距。

9.根据权利要求8所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述可调超透镜包括相变单元，所述相变单元包括间隔设置的第一电极、第二电极以及设置在所述第一电极和所述第二电极之间的纳米结构，其中所述纳米结构包括相变材料或由相变材料构成，所述第一电极与所述第二电极通过所述相变单元的中间件实现电连接，所述可调超透镜能够通过改变所述第一电极与所述第二电极之间的电势，改变所述相变单元的相变态。

10.根据权利要求8所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述可调超透镜包括基底以及相变单元，所述相变单元包括纳米结构、第一电极层、第二电极层和相变材料层，其中所述第一电极层填充于所述纳米结构的周围，所述第一电极层的高度低于所述纳米结构的高度；所述相变材料层设置在所述第一电极层远离所述基底的一侧，且填充于所述纳米结构的周围，所述第一电极层与所述相变材料层的高度之和大于或等于所述纳米结构的高度；所述第二电极层设置于所述相变材料层远离所述基底的一侧；

11.根据权利要求1所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述聚焦超透镜的焦平面垂直于所述聚焦超透镜的光轴，所述多个探测器设置在所述焦平面内，经所述多焦点超透镜的不同区域出射的准直光通过所述聚焦超透镜后能够分别聚焦至不同的探测器上。

12.根据权利要求11所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述聚焦超透镜分成多个空间，所述聚焦超透镜与所述多焦点超透镜同光轴设置，且所述多个空间对应所述多个区域设置。

13.根据权利要求12所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述聚焦超透镜的尺寸不小于所述多焦点超透镜的尺寸。

14.根据权利要求12所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述多个探测器参照经所述聚焦超透镜聚焦后的焦平面呈横向排布，多个探测器分别接收通过所述聚焦超透镜的其中一个空间的光。

15.根据权利要求11所述的基于超透镜的层析扫描成像系统，其特征在于，所述探测器的数量参照所述多焦点超透镜的区域数量设置。