CN217809784U - 一种保温生长装置 - Google Patents

Abstract

本申请的实施例提供了一种保温生长装置，涉及晶体生长技术领域。一种保温生长装置，其包括底座、保温外筒、坩埚和加热件，所述保温外筒设置于所述底座上，且与所述底座共同形成保温腔；所述坩埚位于所述保温腔内，且设置于所述底座上；所述加热件位于所述保温腔内，且位于所述坩埚外。本申请的底座起到支撑作用，坩埚用于盛装光学晶体，加热件用于加热并使保温腔内部的温度上升，保温外筒则用于起到隔热的作用，降低保温腔内的热量散失速度，使得保温腔内始终保持合适温度，有利于提高光学晶体的生长速度。

Description

一种保温生长装置

技术领域

本实用新型涉及晶体生长技术领域，具体而言，涉及一种保温生长装置。

背景技术

坩埚是实验室中使用的一种杯状器皿，用来对固体进行高温加热。

光学晶体生长中通常需要放入坩埚进行高温加热，现有装置在加热过程中存在散热快、不方便保温的问题。

实用新型内容

本实用新型提供了一种保温生长装置，其能够解决加热过程散热快、不方便保温的问题。

本实用新型的实施例可以这样实现：

本实用新型的实施例提供了一种保温生长装置，其包括：

底座；

保温外筒，所述保温外筒设置于所述底座上，且与所述底座共同形成保温腔；

坩埚，所述坩埚位于所述保温腔内，且设置于所述底座上；

加热件，所述加热件位于所述保温腔内，且位于所述坩埚外。

可选地，所述保温外筒包括多个由内而外依次套装设置的保温筒体。

可选地，所述底座设置有环形槽，所述保温外筒的一端位于所述环形槽内。

可选地，所述环形槽内设置有环形卡件，所述环形卡件设置有多个相间隔设置的下卡槽，所述下卡槽与所述保温筒体底端配合。

可选地，所述下卡槽的数量多于所述保温筒体的数量。

可选地，所述加热件包括：与所述底座顶面连接的加热筒以及设置在所述加热筒上的加热丝，所述加热丝用于外接加热电源。

可选地，所述保温生长装置还包括顶盖，所述顶盖设置有多个相间隔的上卡槽，所述上卡槽与所述保温筒体的一端配合。

可选地，所述上卡槽的数量多于所述保温筒体的数量。

可选地，所述保温生长装置还包括调节支脚，所述调节支脚顶端与所述底座底面接触，所述调节支脚用于带动所述底座高度调节。

可选地，所述调节支脚包括沿远离所述底座方向设置的调节件、固定件和底支件，所述调节件的顶端与所述底座底面接触，所述调节件与所述固定件螺旋配合，所述底支件的端面面积大于所述固定件的端面面积。

本实用新型实施例的保温生长装置有益效果包括，例如：

一种保温生长装置，其包括底座、保温外筒、坩埚和加热件，所述保温外筒设置于所述底座上，且与所述底座共同形成保温腔；所述坩埚位于所述保温腔内，且设置于所述底座上；所述加热件位于所述保温腔内，且位于所述坩埚外。

本申请的底座起到支撑作用，坩埚用于盛装光学晶体，加热件用于加热并使保温腔内部的温度上升，保温外筒则用于起到隔热的作用，降低保温腔内的热量散失速度，使得保温腔内始终保持合适温度，有利于提高光学晶体的生长速度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它相关的附图。

图1为本实用新型的实施例中提供的保温生长装置的结构示意图；

图2为本实用新型的实施例中提供的底座和支脚的结构示意图；

图3为本实用新型的实施例中提供的环形卡件的结构示意图；

图4为本实用新型的实施例中提供的图1中A处的局部放大示意图；

图5为本实用新型的实施例中提供的顶盖的结构示意图。

图标：100-保温生长装置；110-底座；112-环形槽；113-环形卡件；114-下卡槽；120-保温外筒；121-保温腔；122-保温筒体；130-坩埚；140-加热件；141-加热筒；142-加热丝；150-顶盖；151-上卡槽；160-调节支脚；161-调节件；162-固定件；163-底支件。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，若出现术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，若出现术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型的实施例中的特征可以相互结合。

坩埚是实验室中使用的一种杯状器皿，用来对固体进行高温加热。

光学晶体生长中通常需要放入坩埚进行高温加热，现有装置在加热过程中存在散热快、不方便保温问题。

本实用新型的实施例中提供的保温生长装置100可以解决这一问题。

请参考图1-图5，本实施例提供了一种保温生长装置100，接下来将对其进行详细的描述。

参考图1，一种保温生长装置100，其包括底座110、保温外筒120、坩埚130和加热件140。底座110用于对各个部件进行有效支撑，底座110的材质为石墨，石墨为不透明固体，其化学性质稳定，耐腐蚀，同酸、碱等药剂不易发生反应。在本实用新型的其他实施例中，底座110还可以是其他化学性质稳定的材质。

保温外筒120的底端与底座110的顶面接触，保温外筒120的内部形成有保温腔121。保温外筒120选用隔热性能较好的材质，使得其内外气温进行隔绝，确保较好的保温效果，具体可以是钼材质。

保温外筒120包括多层间隔设置的保温筒体122，通过设置多层保温筒体122，增加保温腔121与外界大气之间的热量交换空间，避免保温腔121内热量散失过快。还可以使得最外层保温筒体122内侧的热量温度分布更加均匀，有利于保温腔121内的热量聚集。各层保温筒体122的俯视视角的截面形状可以是圆环形、也可以是正方形、矩形或者其他多边形等。

坩埚130的底部与底座110的顶面接触，坩埚130用于盛装容纳光学晶体。加热件140的底部与底座110的顶面接触，加热件140用于产生热量。

加热件140包括：位于坩埚130外侧的加热筒141以及设置在141上的加热丝142，加热丝142用于外接电源进行生热，使得保温腔121内具备充足的热量方便光学晶体生长。

参考图2，底座110顶面设置有环形槽112，多个保温筒体122的底端伸入到环形槽112的内部，起到对保温外筒120进行定位的作用。

保温生长装置100还包括调节支脚160，调节支脚160的顶端与底座110的底面接触，调节支脚160支撑底座110使其悬空，并用于带动底座110进行高度调节。

调节支脚160包括从上至下依次设置的调节件161、固定件162和底支件163，调节件161的顶端与底座110的底面接触，调节件161与固定件162螺旋配合，固定件162的外壁设置有螺纹，调节件161的底端设置有螺孔。底支件163的端面面积大于固定件162的端面面积，起到增大与地面接触面积的作用，可以提高整体装置的支撑稳定性。

在本实用新型的其他实施例中，调节件161可以直接使用标准的螺母件，固定件162可以直接使用标准的螺柱件。底支件163为了确保其强度足够，应该为实心结构，底支件163和上方的固定件162可以通过焊接等进行连接固定，同时应确保底支件163的底面与调节件161的顶面之间的平行度，避免造成整体装置发生颤动。

参照图3，环形槽112内设置有环形卡件113，环形卡件113的顶面开设有多个间隔设置的下卡槽114，下卡槽114用于对多个保温筒体122的底端起到定位作用。环形卡件113的材质为氧化锆，该材质是锆的主要氧化物，通常状况下为白色无臭无味晶体，难溶于水、盐酸和稀硫酸。化学性质不活泼，且具有高熔点、高电阻率、高折射率和低热膨胀系数的性质。其在其他用途中常用作重要的耐高温材料、陶瓷绝缘材料和陶瓷遮光剂，同时是人工钻的主要原料。

参照图4，下卡槽114与保温筒体122底端配合，具体配合方式可以是间隙配合或者过盈配合。下卡槽114的数量多于保温筒体122的数量，并且各个下卡槽114等距设置，可以根据实际需要放置对应内径的保温筒体122。

参照图5，保温生长装置100还包括顶盖150，顶盖150的底面开设有多个间隔设置的上卡槽151，上卡槽151与保温筒体122的顶端配合，具体配合方式可以是间隙配合或者过盈配合。上卡槽151的数量多于保温筒体122的数量，并且各个上卡槽151等距设置，可以根据实际需要放置对应内径的保温筒体122。顶盖150可以对保温腔121的顶部进行封闭，可以避免热量从保温腔121的顶部散失，进一步提高整体装置的保温隔热效果。

顶盖150的材质也为石墨，石墨为不透明固体，其具备化学性质稳定，耐腐蚀，同酸、碱等药剂不易发生反应的特点。在本实用新型的其他实施例中，顶盖150还可以是其他化学性质稳定的材质。

根据本实施例提供的一种保温生长装置100，保温生长装置100的工作原理：

本实用新型的底座110起到支撑作用，坩埚130用于盛装光学晶体，加热件140用于加热并使保温腔121内部的温度上升，保温外筒120则用于起到隔热的作用，降低保温腔121内的热量散失速度，使得保温腔121内始终保持合适温度，有利于提高光学晶体的生长速度。

本实施例提供的一种保温生长装置100至少具有以下优点：在加热过程中具备较好地保温隔热效果，避免散热过快以及热量不均匀的问题。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种保温生长装置(100)，其特征在于，包括：

底座(110)；

保温外筒(120)，所述保温外筒(120)设置于所述底座(110)上，且与所述底座(110)共同形成保温腔(121)；

坩埚(130)，所述坩埚(130)位于所述保温腔(121)内，且设置于所述底座(110)上；

加热件(140)，所述加热件(140)位于所述保温腔(121)内，且位于所述坩埚(130)外。

2.根据权利要求1所述的保温生长装置(100)，其特征在于，所述保温外筒(120)包括多个由内而外依次套装设置的保温筒体(122)。

3.根据权利要求2所述的保温生长装置(100)，其特征在于，所述底座(110)设置有环形槽(112)，所述保温外筒(120)的一端位于所述环形槽(112)内。

4.根据权利要求3所述的保温生长装置(100)，其特征在于，所述环形槽(112)内设置有环形卡件(113)，所述环形卡件(113)设置有多个相间隔的下卡槽(114)，所述下卡槽(114)与所述保温筒体(122)的底端配合。

5.根据权利要求4所述的保温生长装置(100)，其特征在于，所述下卡槽(114)的数量多于所述保温筒体(122)的数量。

6.根据权利要求1所述的保温生长装置(100)，其特征在于，所述加热件(140)包括：与所述底座(110)顶面连接的加热筒(141)以及设置在所述加热筒(141)上的加热丝(142)，所述加热丝(142)用于外接加热电源。

7.根据权利要求2所述的保温生长装置(100)，其特征在于，所述保温生长装置(100)还包括顶盖(150)，所述顶盖(150)的一侧设置有多个相间隔的上卡槽(151)，所述上卡槽(151)与所述保温筒体(122)的一端配合。

8.根据权利要求7所述的保温生长装置(100)，其特征在于，所述上卡槽(151)的数量多于所述保温筒体(122)的数量。

9.根据权利要求1至8任一项所述的保温生长装置(100)，其特征在于，所述保温生长装置(100)还包括调节支脚(160)，所述调节支脚(160)顶端与所述底座(110)底面接触，所述调节支脚(160)用于带动所述底座(110)高度调节。

10.根据权利要求9所述的保温生长装置(100)，其特征在于，所述调节支脚(160)包括沿远离所述底座(110)的方向依次设置的调节件(161)、固定件(162)和底支件(163)，所述调节件(161)的顶端与所述底座(110)底面接触，所述调节件(161)与所述固定件(162)螺旋配合，所述底支件(163)的端面面积大于所述固定件(162)的端面面积。

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