CN217766039U - 一种引线框架检测用光源机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供引线框架检测用光源机构，包括：罩体，所述罩体上开设有光通道；图像生成装置，所述图像生成装置安装于所述罩体外部；反射镜，所述反射镜安装于所述图像生成装置的下方并位于所述罩体外部；可调节遮光板，所述可调节遮光板活动安装于所述罩体上；第一光源，所述第一光源安装于所述罩体的下方；第二光源，所述第二光源安装于所述罩体的下方并与所述第一光源对称设置；分光镜，所述分光镜安装于罩体内；所述第一光源和第二光源的光线照射至引线框架上，所述分光镜用于改变第一光源和第二光源照射至引线框架后的光线的照射角度和方向使第一光源和第二光源产生的光线照射至所述反射镜上，所述反射镜再将光线反射至图像生成装置上。

Description

一种引线框架检测用光源机构

【技术领域】

本实用新型涉及视觉检测技术领域，尤其涉及一种引线框架检测用光源机构。

【背景技术】

引线框架作为芯片的载体，是集成电路中重要的组成部分。不仅种类繁多，而且结构上差异很大，主要有用模具冲压法和化学刻蚀法两种生产工艺。生产过程中会造成过蚀、变形、漏银、脏污、划伤、刮花、连脚等缺陷，严重的将影响产品性能，直接造成后道封装芯片的质量，导致一系列制成工艺的生产资源浪费。

近几年半导体行业集中爆发，产能翻倍，引线框架的市场需求也随之剧增。面对如此庞大的市场需求，质量管控尤其重要，目前人工目检的效率远远达不到生产需求，大量增加检测人员又造成巨大的人力成本投，因此，引线框架的自动光学检测对于引线框架的生产销售企业来说十分重要。

而由于引线框架产品的特性，其主要的组成部分是铜和银，不同的产品表面铜和银的色泽、粗糙度都不尽相同，此类产品表面缺陷检测的需求为：将物料表面的铜和银明显区分、能兼容不同尺寸及规格的产品，保证不同产品打光的一致性，得到对比度明显、缺陷特征清晰的图像，同时须过滤掉表面粗糙的纹理以降低对缺陷的误检。现有国内外的引线框架AOI检测设备成像打光方式单一且兼容性差，难以同时兼顾缺陷呈现和表面纹理过滤的双重需求，导致设备过检漏检较多，检完后还需要大量人工复判，无法满足生产需要。

鉴于此，实有必要提供一种新型的引线框架检测用光源机构以克服上述缺陷。

【实用新型内容】

本实用新型的目的是提供一种引线框架检测用光源机构，能够使得照射在被测引线框架上的缺陷特征呈现出来，同时把物料表面的纹理特征过滤掉的目的，得到很好的成像效果。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种引线框架检测用光源机构，包括：

罩体，所述罩体上开设有光通道；

图像生成装置，所述图像生成装置安装于所述罩体外部；

反射镜，所述反射镜安装于所述图像生成装置的下方并位于所述罩体外部；

可调节遮光板，所述可调节遮光板活动安装于所述罩体上；

第一光源，所述第一光源安装于所述罩体的下方；

第二光源，所述第二光源安装于所述罩体的下方并与所述第一光源对称设置；

分光镜，所述分光镜安装于所述罩体内；

所述第一光源和第二光源的光线照射至引线框架上，所述分光镜用于改变第一光源和第二光源照射至引线框架后的光线的照射角度和方向使第一光源和第二光源产生的光线照射至所述反射镜上，所述反射镜再将光线反射至所述图像生成装置上以进行视觉检测。

优选的，所述罩体的内壁具有弧面，所述分光镜安装于所述罩体的弧面内。

优选的，所述可调节遮光板的数量为两个，两个可调节遮光板活动且对称设置于所述弧面的两端。

优选的，每个可调节遮光板通过运动组件活动安装于所述弧面上。

优选的，所述运动组件包括安装托块、丝杆以及操作盘；所述安装托块活动安装于所述弧面上，所述丝杆穿过所述罩体与所述安装托块连接，所述可调节遮光板与所述安装托块连接，所述操作盘连接于所述丝杆的一端并位于所述罩体外。

优选的，所述安装托块上设置有第三光源。

优选的，所述操作盘上设置有手柄。

优选的，所述可调节遮光板与安装托块之间安装有滑动组件。

优选的，所述滑动组件包括导轨及滑动连接于所述导轨上的滑片，所述导轨安装于所述可调节遮光板上，所述滑片安装于所述安装托块上。

与现有技术相比，有益效果在于：1)通过将第一光源、第二光源以及罩体的弧面(具有反射和漫反射光线的特性)组合使用，可将铜和银两种材质的引线框架区分出来，能够使得照射在被测引线框架上的缺陷特征呈现出来，同时把物料表面的纹理特征过滤掉的目的，得到很好的成像效果。

2)能改变光线的方向性(凸显缺陷对比度)，又有一定的散射性(过滤表面纹理)的检测光源和检测系统，适用于较为复杂的表面缺陷检测。

【附图说明】

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本实用新型提供实施例1的引线框架检测用光源机构的结构示意图。

图2为图1所示的A区域的放大图。

图3为图1所示的引线框架检测用光源机构的滑动组件的结构示意图。

图4为本实用新型提供实施例2的引线框架检测用光源机构的结构示意图。

图5为本实用新型提供实施例3的引线框架检测用光源机构的结构示意图。

附图标记：1、罩体；2、图像生成装置；3、反射镜；4、可调节遮光板；5、第一光源；6、第二光源；7、分光镜；8、运动组件；81、安装托块；811、第三光源；82、丝杆；83、操作盘；84、手柄；9、滑动组件；91、导轨；92、滑片；10、引线框架；20、第四光源。

【具体实施方式】

为了使本实用新型的目的、技术方案和有益技术效果更加清晰明白，以下结合附图和具体实施方式，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解的是，本说明书中描述的具体实施方式仅仅是为了解释本实用新型，并不是为了限定本实用新型。

需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，“安装”、“相连”、“连接”、“固定”、“设置”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况上述术语在本实用新型中的具体含义。

此外，术语“第一”、“第二”、仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。此外，“多个”、“若干”的含义是指两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

实施例1：

请参阅图1至图3，本实施例1提供一种引线框架检测用光源机构，包括：

罩体1，所述罩体1上开设有光通道；

图像生成装置2，所述图像生成装置2安装于所述罩体1外部；

反射镜3，所述反射镜3安装于所述图像生成装置2的正下方并位于所述罩体1外部；

可调节遮光板4，所述可调节遮光板4活动安装于所述罩体1上；

第一光源5，所述第一光源5安装于所述罩体1的下方；

第二光源6，所述第二光源6安装于所述罩体1的下方并与所述第一光源5对称设置；

分光镜7，所述分光镜7安装于所述罩体1内；

所述第一光源5和第二光源6产生的光线照射至引线框架上以便将引线框架的表面缺陷特征清晰呈现出来，所述分光镜7用于改变第一光源5和第二光源6照射至引线框架10后的光线的照射角度和方向使第一光源5和第二光源6产生的光线照射至所述反射镜3上，所述反射镜3再将光线反射至所述图像生成装置2上以进行视觉检测。在本实施例中，所述图像生成装置2为线阵相机。

进一步的，所述罩体1的内壁具有弧面，所述分光镜7安装于所述罩体1的弧面内。

进一步的，所述弧面涂覆有钢琴烤漆，使得所述弧面同时具有反射和漫反射光线的特性。需要说明的是，在本实施例中，所述弧面的反射率为60％，漫反射率为40％，可根据实际情况调整钢琴烤漆，以改变钢琴烤漆的反射率和漫反射率配比。

进一步的，所述可调节遮光板4的数量为两个，两个可调节遮光板4活动且对称设置于所述弧面的两端。

进一步的，每个可调节遮光板4通过运动组件8活动安装于所述弧面上。

进一步的，所述运动组件8包括安装托块81、丝杆82以及操作盘83；所述安装托块81活动安装于所述弧面上，所述丝杆82穿过所述罩体1与所述安装托块81连接，所述可调节遮光板4与所述安装托块81连接，所述操作盘83连接于所述丝杆82的一端并位于所述罩体1外。

进一步的，所述安装托块81上设置有第三光源811，所述第三光源811的光线照射至所述弧面上，再被反射至引线框架10上。

进一步的，所述操作盘83上设置有手柄84，以便使用者通过手柄84操作丝杆82转动，所述丝杆82上的螺母带动安装托块81运动，从而带动可调节遮光板4直线运动。通过这样的设计，改变可调节遮光板4的位置，从而改变光线的均匀性，调整打光效果。

进一步的，所述可调节遮光板4与安装托块81之间安装有滑动组件9，通过操作可调节遮光板4可进一步延长卡调节遮光板的运动距离。

进一步的，所述滑动组件9包括导轨91及滑动连接于所述导轨91上的滑片92，所述导轨91安装于所述可调节遮光板4的顶面上，所述滑片92安装于所述安装托块81的底面上。

实施例2：

如图4所示，本实施例2提供一种引线框架检测用光源机构，包括：

罩体1，所述罩体1上开设有光通道，且所述罩体1上设置有第三光源811；

图像生成装置2，所述图像生成装置2安装于所述罩体1外部；

分光镜7，所述分光镜7安装于所述罩体1的光通道上方，所述图像生成装置2安装于所述分光镜7的正上方；

第四光源20，所述第四光源20安装于所述罩体1的上方并与所述光通道相邻设置；

所述第三光源811产生的光线照射至所述罩体1上，再被反射至引线框架10上，所述第四光源20产生的光线照射至所述分光镜7上被反射至引线框架上，以便将引线框架10的表面缺陷特征清晰呈现出来，照射至引线框架10上的光线再穿透所述分光镜7照射至所述图像生成装置2以进行视觉检测。在本实施例中，所述图像生成装置2为线阵相机。

进一步的，所述罩体1的内壁具有弧面，所述分光镜7安装于所述罩体1的弧面内。

进一步的，所述弧面涂覆有钢琴烤漆，使得所述弧面同时具有反射和漫反射光线的特性。需要说明的是，在本实施例中，所述弧面的反射率为60％，漫反射率为40％，可根据实际情况调整钢琴烤漆，以改变钢琴烤漆的反射率和漫反射率配比。

实施例3：

如图5所示，本实施例3提供一种引线框架检测用光源机构，包括：

图像生成装置2；

反射镜3，所述反射镜3安装于所述图像生成装置2的正下方；

并排设置的第四光源101，所述第四光源101与所述图像生成装置2间隔设置；

分光镜7，所述分光镜7位于所述第四光源101的下方。

所述第四光源4中间部分的光线透过分光镜7直射至被测的引线框架10的表面上，所述第四光源7两端部分的光线透过漫反射至被测的引线框架10的表面上；随后两个光路的反射光经过分光镜7反射至反射镜3上，所述反射镜3将光线反射至图像生成装置2上形成被的引线框架的清晰图像进行视觉检测。

本实用新型并不仅仅限于说明书和实施方式中所描述，因此对于熟悉领域的人员而言可容易地实现另外的优点和修改，故在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念的精神和范围的情况下，本实用新型并不限于特定的细节、代表性的设备和这里示出与描述的示例。

Claims (9)

1.一种引线框架检测用光源机构，其特征在于，包括：

罩体(1)，所述罩体(1)上开设有光通道；

图像生成装置(2)，所述图像生成装置(2)安装于所述罩体(1)外部；

反射镜(3)，所述反射镜(3)安装于所述图像生成装置(2)的下方并位于所述罩体(1)外部；

可调节遮光板(4)，所述可调节遮光板(4)活动安装于所述罩体(1)上；

第一光源(5)，所述第一光源(5)安装于所述罩体(1)的下方；

第二光源(6)，所述第二光源(6)安装于所述罩体(1)的下方并与所述第一光源(5)对称设置；

分光镜(7)，所述分光镜(7)安装于所述罩体(1)内；

所述第一光源(5)和第二光源(6)的光线照射至引线框架上，所述分光镜(7)用于改变第一光源(5)和第二光源(6)照射至引线框架后的光线的照射角度和方向使第一光源(5)和第二光源(6)产生的光线照射至所述反射镜(3)上，所述反射镜(3)再将光线反射至所述图像生成装置(2)上。

2.如权利要求1所述的引线框架检测用光源机构，其中特征在于，所述罩体(1)的内壁具有弧面，所述分光镜(7)安装于所述罩体(1)的弧面内。

3.如权利要求2所述的引线框架检测用光源机构，其中特征在于，所述可调节遮光板(4)的数量为两个，两个可调节遮光板(4)活动且对称设置于所述弧面的两端。

4.如权利要求3所述的引线框架检测用光源机构，其中特征在于，每个可调节遮光板(4)通过运动组件(8)活动安装于所述弧面上。

5.如权利要求4所述的引线框架检测用光源机构，其中特征在于，所述运动组件(8)包括安装托块(81)、丝杆(82)以及操作盘(83)；所述安装托块(81)活动安装于所述弧面上，所述丝杆(82)穿过所述罩体(1)与所述安装托块(81)连接，所述可调节遮光板(4)与所述安装托块(81)连接，所述操作盘(83)连接于所述丝杆(82)的一端并位于所述罩体(1)外。

6.如权利要求5所述的引线框架检测用光源机构，其中特征在于，所述安装托块(81)上设置有第三光源(811)。

7.如权利要求5所述的引线框架检测用光源机构，其中特征在于，所述操作盘(83)上设置有手柄(84)。

8.如权利要求5所述的引线框架检测用光源机构，其中特征在于，所述可调节遮光板(4)与安装托块(81)之间安装有滑动组件(9)。

9.如权利要求8所述的引线框架检测用光源机构，其中特征在于，所述滑动组件(9)包括导轨(91)及滑动连接于所述导轨(91)上的滑片(92)，所述导轨(91)安装于所述可调节遮光板(4)上，所述滑片(92)安装于所述安装托块(81)上。

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