CN217645351U - 一种真空压膜式ⅲ类功能调节器 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种真空压膜式Ⅲ类功能调节器，属于口腔正畸领域，包括上膜片、下膜片、连接区；上膜片包括肌功能屏障区和稳定区；肌功能屏障区靠近于待矫治区牙及牙槽骨的唇颊面，肌功能屏障区内侧距待矫治区牙的牙龈3‑4mm；肌功能屏障区其上端延伸至前庭沟，其下端贴合待矫治区牙牙合面；稳定区贴合非矫治区牙唇颊面，向非矫治区牙牙的牙合面、腭面延伸，包裹住非矫治区牙，形成后牙腭侧基托；下膜片贴合包裹住整列下颌牙，其下端延伸至下颌牙龈缘上2‑3mm；连接区上、下面分别与上膜片、下膜片贴合，且其厚度由中心位置像两端递减。本实用新型可以纠正咬合关系，改善面型，选择性扩宽牙弓，封闭患者口腔从而矫正口呼吸及咬唇吐舌不良习惯。

Description

一种真空压膜式Ⅲ类功能调节器

技术领域

本发明属于口腔正畸领域，具体的说，涉及一种真空压膜式Ⅲ类功能调节器。

背景技术

安氏Ⅲ类错牙合是最常见的儿童错牙合畸形之一，可以导致儿童牙颌面部发育畸形，甚至影响儿童心理健康。安氏Ⅲ类错牙合畸形病因复杂，目前国内外大部分学者认为其影响因素可分为遗传因素与环境因素2个方面，或是二者共同作用的结果，属多基因遗传病。

主要特征是前牙反牙合，磨牙近中关系，可能伴有后牙反牙合。除典型的反牙合畸形外，Ⅲ类错牙合可因上颌发育不足或后缩，表现为面中份扁平、鼻唇角锐、上唇塌陷，凹面型；也可因下颌过度生长而颏部前突，下颌体长、支短，下颌角钝，下唇外翻，呈下颌前突面型(临床称之为Ⅲ类面型)。中国Ⅲ类错牙合畸形的发病率约为12％，是正畸中最常见牙颌畸形之一。

常规FR-Ⅲ功能矫治器制作过程较为复杂，时间成本相对较高，且损坏后维修较为困难，无纠正口呼吸不良习惯的作用。而MRC矫治器是成品矫治器，不能根据患者个人情况定制，尺寸较为固定材料过于柔软，颌骨牙弓会有一定受力不利于矫治后的稳定，且成本过于高昂。上述两者皆无法有选择的扩宽牙弓。

因此，有必要提供一种具有以下特点的调节器：矫治Ⅲ类错牙合畸形，操作简易，制作成本低廉；隐形舒适，外型美观；还可以选择性扩宽牙弓，纠正咬合关系，并且能够封闭患者口腔从而矫正口呼吸及咬唇吐舌等不良习惯。

实用新型内容

为了克服背景技术中存在的问题，本实用新型提供了一种真空压膜式Ⅲ类功能调节器，矫治Ⅲ类错牙合畸形，操作简易，制作成本低廉；隐形舒适，外型美观；还可以选择性扩宽牙弓，纠正咬合关系，并且能够封闭患者口腔从而矫正口呼吸及咬唇吐舌等不良习惯。

为实现上述目的，本实用新型是通过如下技术方案实现的：

所述的一种真空压膜式Ⅲ类功能调节器包括套设于上颌牙的上膜片1、下膜片2、连接区3，三者为一体成型结构；所述的上膜片1包括肌功能屏障区4和稳定区5，二者一体成型；所述的肌功能屏障区4靠近于待矫治区牙及牙槽骨的唇颊面，肌功能屏障区4内侧距离待矫治区牙的牙龈3-4mm；肌功能屏障区4其上端延伸至前庭沟，其下端贴合待矫治区牙牙合面；稳定区5贴合非矫治区牙的唇颊面，其下端向非矫治区牙牙的牙合面、腭面延伸，贴合包裹住非矫治区牙，形成后牙腭侧基托6；所述的下膜片2贴合包裹住整列下颌牙，其下端延伸至下颌牙龈缘上2-3mm；所述的连接区3上、下面分别与上膜片1底面、下膜片2顶面贴合，且其厚度由中心位置像两端递减，连接区3中心位置的厚度为2-3mm。进一步的，连接区3中心位置为中切牙与侧切牙的位置。

进一步的，所述的稳定区5上端延伸至稳定区牙龈缘上2-3mm。

进一步的，所述的连接区3中心位置为中切牙和侧切牙位置。

更进一步的，所述的肌功能屏障区4于唇系带处设有缓冲区7。

本实用新型的有益效果：

本实用新型的肌功能屏障区4靠近于待矫治区牙的唇颊面，且肌功能屏障区4内侧距离待矫治区牙的牙龈3-4mm，可以使待矫治区不受肌肉挤压，促进上颌骨生长发育纠正咬合关系，扩宽矫治区牙弓，利用非矫正区5形成的腭侧基托6，使上膜片1套设于上颌牙上。使用连接上膜片1、下膜片2和连接区3的一体成型结构，可以封闭患者口腔，矫正口呼吸及咬唇吐舌等不良习惯。

附图说明

图1是本实用新型的正视图；

图2是本实用新型的底面视图；

图3是临床研究案列1矫治前口腔图；

图4是临床研究案列1佩戴本实用新型图；

图5是临床研究案列1矫治后口腔图；

图6是临床研究案列2矫治前口腔图；

图7是临床研究案列2佩戴本实用新型图；

图8是临床研究案列2矫治后口腔图；

图中，1-上膜片、2-下膜片、3-连接区、4-肌功能屏障区、5-稳定区、6-腭侧基托、7-缓冲区。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和有益效果更加清楚，下面将对本发明的优选实施例进行详细的说明，以方便技术人员理解。

实施例1

在进行实施例1前，通过口腔模型观测对患者进行诊断，发现部分牙存在上下颌覆盖不调情况。上下颌正常覆盖是指：上牙盖过下牙2mm的水平距离。上牙盖过下牙不足2mm的水平距离的区域，通过口腔模型确定为待矫治区，即上颌因覆盖不调故需要扩弓的区域，本实施例中的待矫治区牙及牙槽骨为：上颌除了两末端部各一颗牙外，其余牙及其上方的牙槽骨。稳定区牙及牙槽骨为：上颌覆盖协调区域，上颌两端部各一颗牙及其上方的牙槽骨区域。此患者的情况和大多数此类病患的情况相同。

在对其他患者进行诊断发现，除了上述情况外，下列情况也出现较多：待矫治区牙及牙槽骨为：上颌除了两末端部各两颗牙外，其余牙及其上方的牙槽骨。稳定区牙及牙槽骨为：上颌覆盖协调区域，上颌两端部各两颗牙及其上方的牙槽骨区域。

由图1和图2得知，一种真空压膜式Ⅲ类功能调节器包括套设于上颌牙的上膜片1、下膜片2、连接区3，三者为一体成型结构。上膜片1包括肌功能屏障区4和稳定区5，二者一体成型；肌功能屏障区4靠近于待矫治区牙及牙槽骨的唇颊面，肌功能屏障区4内侧距离待矫治区牙的牙龈3mm，可以使待矫治区不受肌肉挤压，扩宽矫治区牙弓；肌功能屏障区4其上端延伸至前庭沟，其下端贴合待矫治区牙牙合面。肌功能屏障区4于唇系带处设有缓冲区7。

稳定区5贴合非矫治区牙的唇颊面，其上端延伸至非矫治区牙龈缘上3mm，其下端向非矫正区牙的牙合面、腭面延伸，贴合包裹住非矫治区牙，形成腭侧基托6，使上膜片1稳固。

下膜片2贴合包裹住整列下颌牙，其下端延伸至下颌牙龈缘上2mm。

连接区3上、下面分别与上膜片1底面、下膜片2顶面贴合连接，且其厚度由中心位置像两端递减，连接区3中心位置为中切牙与侧切牙的位置，连接区3中心位置的厚度为2mm。

临床研究

案列1

患者女性，4岁，乳牙期安氏Ⅲ类错牙合畸形，前牙区反牙合，见图3。戴用真空压膜式Ⅲ类功能调节器5个月，见图4。矫治后，前牙区建立正常覆牙合，见图5。

案列2

患者女性，4岁，乳牙期安氏Ⅲ类错牙合畸形，前牙区反牙合，见图6，有口呼吸不良习惯。戴用真空压膜式Ⅲ类功能调节器6个月，见图7。矫治后，前牙区建立正常覆牙合，患者家长自述口呼吸不良习惯有所改善，见图8。

最后说明的是，以上优选实施例仅用于说明本发明的技术方案而非限制，尽管通过上述优选实施例已经对本发明进行了详细的描述，但本领域技术人员应当理解，可以在形式上和细节上对其作出各种各样的改变，而不偏离本发明权利要求书所限定的范围。

Claims (4)

1.一种真空压膜式Ⅲ类功能调节器，其特征在于：所述的调节器包括套设于上颌牙的上膜片(1)、下膜片(2)、连接区(3)，三者为一体成型结构；所述的上膜片(1)包括肌功能屏障区(4)和稳定区(5)，二者一体成型；所述的肌功能屏障区(4)靠近于待矫治区牙及牙槽骨的唇颊面，肌功能屏障区(4)内侧距离待矫治区牙的牙龈3-4mm；肌功能屏障区(4)其上端延伸至前庭沟，其下端贴合待矫治区牙牙合面；稳定区(5)贴合非矫治区牙的唇颊面，其下端向非矫治区牙牙的牙合面、腭面延伸，贴合包裹住非矫治区牙，形成后牙腭侧基托(6)；所述的下膜片(2)贴合包裹住整列下颌牙，其下端延伸至下颌牙龈缘上2-3mm；所述的连接区(3)上、下面分别与上膜片(1)底面、下膜片(2)顶面贴合，且其厚度由中心位置像两端递减，连接区(3)中心位置的厚度为2-3mm。

2.根据权利要求1所述的一种真空压膜式Ⅲ类功能调节器，其特征在于：所述的稳定区(5)上端延伸至非矫治区牙龈缘上2-3mm。

3.根据权利要求1或2所述的一种真空压膜式Ⅲ类功能调节器，其特征在于：所述的连接区(3)中心位置为中切牙与侧切牙的位置。

4.根据权利要求3所述的一种真空压膜式Ⅲ类功能调节器，其特征在于：所述的肌功能屏障区(4)于唇系带处设有缓冲区(7)。

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