CN217641240U - 晶圆预烘烤装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种晶圆预烘烤装置，包括：烘烤箱体，烘烤箱体的内部设置用于烘烤晶圆片的容置腔室；放置单元，包括安装板、调节结构以及放置板，安装板设置在容置腔室内并与烘烤箱体活动连接，安装板上设置有调节结构，放置板通过调节结构与安装板连接，放置板用于承载晶圆片，调节结构用于调整放置板的水平度。本实用新型实施例提供的一种晶圆预烘烤装置，能够调整用于放置晶圆片的放置板的水平度，避免晶圆片上铺涂的光刻胶因摆放不平而流动，提升晶圆片上光刻胶的均匀度，从而进一步提升烘烤后晶圆片的质量，以便于后续工序的进行。

Description

晶圆预烘烤装置

技术领域

本实用新型涉及一种烘烤装置，特别涉及一种晶圆预烘烤装置，属于烘干设备技术领域。

背景技术

片光刻工艺一般包括曝光及图形转移等工艺过程，其中曝光大体可分为清洗、表面处理、光刻胶旋涂、前烘、曝光及显影等步骤。在旋涂后，晶圆表面光刻胶薄膜的残余溶剂浓度一般为10％-35％，而前烘即通过加热，将晶圆表面光刻胶薄膜的残余溶剂浓度尽可能降低，其目的是：1)避免光刻胶粘在掩膜版上从而导致掩膜版污染；2)提高光刻胶与衬底的粘附性；3)防止在后续的工艺过程中热效应下溶剂的挥发导致产生气泡，并提高光刻胶膜的软化温度为后续工艺过程提供保障。

在常见的烘烤装置中多使用固定的平板放置晶圆片，而晶圆片在烘干过程中其上铺涂的光刻胶仍具有良好的流动性，在烘干过程中，当放置晶圆片的平板无法保持于水平状态时，光刻胶将在晶圆片表面流动，从而导致光刻胶不均匀的问题，从而影响晶圆片的生产质量。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种晶圆预烘烤装置，用以解决晶圆片放置不平，导致光刻胶不均匀而进一步影响晶圆片质量的问题。

为实现前述实用新型目的，本实用新型采用的技术方案包括：

本实用新型实施例提供了一种晶圆预烘烤装置，包括：烘烤箱体，所述烘烤箱体的内部设置有用于烘烤晶圆片的容置腔室；

放置单元，包括安装板、调节结构以及放置板，所述安装板设置在所述容置腔室内并与所述烘烤箱体活动连接，所述安装板上设置有调节结构，所述放置板通过所述调节结构与所述安装板连接，所述放置板用于承载晶圆片，所述调节结构用于调整所述放置板的水平度。

与现有技术相比，本实用新型的优点包括：本实用新型实施例提供的一种晶圆预烘烤装置，能够调整用于放置晶圆片的放置板的水平度，避免晶圆片上铺涂的光刻胶因摆放不平而流动，提升晶圆片上光刻胶的均匀度，从而进一步提升烘烤后晶圆片的质量，以便于后续工序的进行。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型一典型实施案例中提供的一种晶圆预烘烤装置的结构示意图；

图2是图1中A-A处剖面图；

附图标记说明：

1、烘烤箱体；11、滑轨；

2、放置单元；21、安装板；22、调节结构；221、安装座；222、调节垫块；223、定位槽；23、放置板；231、放置槽；

3、紧固件。

具体实施方式

鉴于现有技术中的不足，本案发明人经长期研究和大量实践，得以提出本实用新型的技术方案。如下将对该技术方案、其实施过程及原理等作进一步的解释说明。

本实用新型实施例提供了一种晶圆预烘烤装置，包括：烘烤箱体，所述烘烤箱体的内部设置有用于烘烤晶圆片的容置腔室；

放置单元，包括安装板、调节结构以及放置板，所述安装板设置在所述容置腔室内并与所述烘烤箱体活动连接，所述安装板上设置有调节结构，所述放置板通过所述调节结构与所述安装板连接，所述放置板用于承载晶圆片，所述调节结构用于调整所述放置板的水平度。

在一些较为具体的实施方案中，所述调节结构包括安装座和调节垫块，所述安装座与所述安装板活动连接，所述调节垫块与所述放置板活动连接，所述调节垫块沿第一方向活动设置在所述安装座上。

在一些较为具体的实施方案中，所述的晶圆预烘烤装置还包括紧固件，所述紧固件与所述安装座以及调节垫块固定配合，并至少用于将所述调节垫块锁止于所述安装座上。

在一些较为具体的实施方案中，所述调节垫块与所述安装座螺纹连接。

在一些较为具体的实施方案中，所述安装座和所述调节垫块至少一者上设置有凸块，另一者上设置有与所述凸块对应的凹槽，所述凹槽与所述凸块对应配合。

在一些较为具体的实施方案中，所述安装座上还设置有定位槽，所述调节垫块的至少部分设置在所述定位槽内，从而将所述调节垫块限制在第一方向上。

在一些较为具体的实施方案中，所述放置板为矩形结构，所述调节结构沿所述矩形结构的对角线方向设置。

在一些较为具体的实施方案中，所述放置板上还设置有放置槽，所述放置槽用于容置晶圆片，所述放置槽的深度小于等于所述晶圆片的厚度。

在一些较为具体的实施方案中，所述容置腔室内还设置有滑轨，所述滑轨沿所述容置腔室的深度方向设置，所述安装板与所述滑轨滑动连接。

在一些较为具体的实施方案中，所述容置腔室内设置有多个所述滑轨和多个放置单元，多个所述滑轨沿容置腔室的深度方向依次间隔设置，每一安装板与一滑轨对应且滑动连接。

如下将结合附图以及具体实施案例对该技术方案、其实施过程及原理等作进一步的解释说明，除非特别说明的之外，本实用新型实施例中所采用的烘烤箱体、紧固件等均为本领域技术人员已知的元器件，其均可以通过市购获得，在此不对其具体的结构和型号进行限定。

请参阅图1-图2，一种晶圆预烘烤装置，包括：烘烤箱体1，所述烘烤箱体1的内部设置有用于烘烤晶圆片的容置腔室；

放置单元2，包括安装板21、调节结构22以及放置板23，所述安装板21设置在所述容置腔室内并与所述烘烤箱体1活动连接，所述安装板21上设置有调节结构22，所述放置板23通过所述调节结构22与所述安装板21连接，所述放置板23用于承载晶圆片，所述调节结构22用于调整所述放置板23的水平度。可理解的，当使用本装置时，将晶圆片放置于所述放置板23上，并通过所述调节结构22调整所述放置板23，使得放置板23所承载的晶圆片保持于水平状态，从而避免了晶圆片上涂布的光刻胶因放置不平而流淌的问题。操作所述安装板21，使得放置单元2承载所述晶圆片处于容置空间中，打开烘烤箱体1对晶圆片进行烘烤，在烘烤过程中，晶圆片处于水平状态，减少其上光刻胶的流动，使得所述晶圆片上光刻胶更加均匀，保证晶圆片的烘烤质量以及生产质量。

具体的，所述晶圆预烘烤装置还包括水平仪，所述水平仪可以与所述安装板21配合连接，当通过调节结构22调整所述放置板23的水平度时，能够通过所述水平仪直观观测其水平度，提高工作效率。

进一步地，所述调节结构22包括安装座221和调节垫块222，所述安装座221与所述安装板21活动连接，所述调节垫块222与所述放置板23活动连接，所述调节垫块222沿第一方向活动设置在所述安装座221上。可理解的，请参阅图1-图2，所述第一方向与所述水平面呈角度设置，如图2中所述，所述第一方向可以是竖直方向，通过在第一方向上移动所述调节垫块222，以使得与所述调节垫块222活动连接的调节板在此连接点位上一并移动，从而调整调节板的水平度。

更进一步地，所述的晶圆预烘烤装置还包括紧固件3，所述紧固件3与所述安装座221以及调节垫块222固定配合，并至少用于将所述调节垫块222锁止于所述安装座221上。可以通过所述紧固件3将调整后的调节垫块222与所述安装座221固定，从而将所述安装板21与所述放置板23锁止于调整后的状态，进一步稳定所述晶圆片的放置状态。

更进一步地，所述调节垫块222与所述安装座221螺纹连接。使用调节结构22调整所述放置板23水平度时，转动所述安装座221，所述调节垫块222与所述安装座221螺纹连接，因此所述调节垫块222能够在转动过程中沿第一方向或第一方向的反方向移动，从而增加或减少该连接点位处所述放置板23与所述安装板21之间的距离。

更进一步地，还可以通过其他方式调整放置板23的水平度，所述安装座221和所述调节垫块222至少一者上设置有凸块，另一者上设置有与所述凸块对应的凹槽，所述凹槽与所述凸块对应配合。调整时，将所述安装座221与所述调节垫块222通过凸块和凹槽卡接，所述调节垫块222能够在第一方向上与所述安装座221在的不同位置的配合卡接，使得在该连接点位处所述安装板21与放置板23之间的距离增加或减小，以此同样能够调整所述放置板23的水平度。

更进一步地，所述安装座221上还设置有定位槽223，所述调节垫块222的至少部分设置在所述定位槽223内，从而将所述调节垫块222限制在第一方向上。所述定位槽223能够将所述调节垫块222限制在第一方向上，当对安装座221进行调整操作时，所述调节垫块222仍可以保持在第一方向上，便于调节所述放置板23的水平度。

进一步地，所述放置板23为矩形结构，所述调节结构22沿所述矩形结构的对角线方向设置。请参见图1，每个所述放置单元2可以包括多个所述调节结构22，多个所述调节结构22可设置在所述矩形结构的对角线方向，从而能够对放置板23进行更好的调整。

进一步地，所述放置板23上还设置有放置槽231，所述放置槽231用于容置晶圆片，所述放置槽231的深度小于等于所述晶圆片的厚度。所述晶圆片可以放置在所述放置槽231中，所述放置能够容置所述晶圆片，避免其在烘烤过程中产生移动，有利于晶圆片的烘烤工艺的进行。更进一步地，所述定位槽223的深度小于等于所述晶圆片的厚度，以便于烘烤后取出所述晶圆片。

进一步地，所述容置腔室内还设置有滑轨11，所述滑轨11沿所述容置腔室的深度方向设置，所述安装板21与所述滑轨11滑动连接。所述安装板21与所述滑轨滑动连接，可通过滑动将所述安装板21放置于所述容置腔室内，通过抽拉移动安装板21，将所述放置板23自容置腔室中取出，不仅便于放置晶圆片，同时也便于操作调整所述调节结构22。

进一步地，所述容置腔室内设置有多个滑轨11和多个放置单元2，多个所述滑轨11沿容置腔室的深度方向依次间隔设置，每一安装板21与一滑轨11对应且滑动连接。可理解的，所述晶圆预烘烤装置可以包括多个放置单元2，在单次烘烤时，可以通过多个放置单元2放置晶圆片并进行烘烤操作，提升生产效率以及空间利用率。

具体的，所述滑轨为可顺序运动的三段式滑轨，当抽拉所述安装板21时，所述安装板21能够抽拉至指定长度后作暂停，以便于进行操作。

进一步地，所述安装板21和/或所述放置板23上还设置有拉手。以便于移动所述安装板21和/或所述放置板23并对其进行操作。

本实用新型实施例所提供的一种晶圆预烘烤装置，能够调整用于放置晶圆片的放置板的水平度，避免晶圆片上铺涂的光刻胶因摆放不平而流动，提升晶圆片上光刻胶的均匀度，从而进一步提升烘烤后晶圆片的质量，以便于后续工序的进行。

应当理解，上述实施例仅为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种晶圆预烘烤装置，其特征在于，包括：

烘烤箱体(1)，所述烘烤箱体(1)的内部设置有用于烘烤晶圆片的容置腔室；

放置单元(2)，包括安装板(21)、调节结构(22)以及放置板(23)，所述安装板(21)设置在所述容置腔室内并与所述烘烤箱体(1)活动连接，所述安装板(21)上设置有调节结构(22)，所述放置板(23)通过所述调节结构(22)与所述安装板(21)连接，所述放置板(23)用于承载晶圆片，所述调节结构(22)用于调整所述放置板(23)的水平度。

2.根据权利要求1所述的晶圆预烘烤装置，其特征在于，所述调节结构(22)包括安装座(221)和调节垫块(222)，所述安装座(221)与所述安装板(21)活动连接，所述调节垫块(222)与所述放置板(23)活动连接，所述调节垫块(222)沿第一方向活动设置在所述安装座(221)上。

3.根据权利要求2所述的晶圆预烘烤装置，其特征在于，还包括紧固件(3)，所述紧固件(3)与所述安装座(221)以及调节垫块(222)固定配合，并至少用于将所述调节垫块(222)锁止于所述安装座(221)上。

4.根据权利要求2所述的晶圆预烘烤装置，其特征在于，所述调节垫块(222)与所述安装座(221)螺纹连接。

5.根据权利要求2所述的晶圆预烘烤装置，其特征在于，所述安装座(221)和所述调节垫块(222)至少一者上设置有凸块，另一者上设置有与所述凸块对应的凹槽，所述凹槽与所述凸块对应配合。

6.根据权利要求4所述的晶圆预烘烤装置，其特征在于，所述安装座(221)上还设置有定位槽(223)，所述调节垫块(222)的至少部分设置在所述定位槽(223)内，从而将所述调节垫块(222)限制在第一方向上。

7.根据权利要求1所述的晶圆预烘烤装置，其特征在于，所述放置板(23)为矩形结构，所述调节结构(22)沿所述矩形结构的对角线方向设置。

8.根据权利要求1所述的晶圆预烘烤装置，其特征在于，所述放置板(23)上还设置有放置槽(231)，所述放置槽(231)用于容置晶圆片，所述放置槽(231)的深度小于等于所述晶圆片的厚度。

9.根据权利要求1所述的晶圆预烘烤装置，其特征在于，所述容置腔室内还设置有滑轨(11)，所述滑轨(11)沿所述容置腔室的深度方向设置，所述安装板(21)与所述滑轨(11)滑动连接。

10.根据权利要求9所述的晶圆预烘烤装置，其特征在于，所述容置腔室内设置有多个所述滑轨(11)和多个放置单元(2)，多个所述滑轨(11)沿容置腔室的深度方向依次间隔设置，每一安装板(21)与一滑轨(11)对应且滑动连接。

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