CN217595354U - 一种硅片清洗槽 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种硅片清洗槽，包括槽体、设于所述槽体的内底部的硅片扰动机构以及固设于所述槽体的侧壁的驱动机构；所述驱动机构与所述硅片扰动机构相连接；所述槽体上设置有进水管和出水管，所述进水管配设有第一控制阀，所述出水管配设有第二控制阀。本实用新型的优点在于：通过在槽体的内底部设置硅片扰动机构，并设计硅片扰动机构的扰动轴本体的轴向顶部和底部均为平面，而扰动轴本体的轴向两侧均为弧形凸面；使得在工作时可以利用硅片扰动机构对待清洗的硅片进行扰动，使硅片在清洗的过程中能够上下活动而不会一直处于静止状态，从而可以提高对硅片的清洗效率和清洗效果。

Description

一种硅片清洗槽

【技术领域】

本实用新型涉及清洗设备技术领域，特别涉及一种硅片清洗槽。

【背景技术】

硅片是制造太阳能电池板的重要部件。在硅片生产的过程中，由于硅片的表面会被氧化腐蚀，因此需要对腐蚀的硅片进行清洗，以保证不会影响硅片的正常使用。

在对硅片进行清洗时，需要使用到清洗槽；但现有清洗槽功能单一，清洗效果不佳。鉴于上述存在的问题，本案发明人对该问题进行深入研究，遂有本案产生。

【实用新型内容】

本实用新型要解决的技术问题，在于提供一种硅片清洗槽，解决现有清洗槽功能单一，清洗效果不佳的问题。

本实用新型是这样实现的：一种硅片清洗槽，包括槽体、设于所述槽体的内底部的硅片扰动机构以及固设于所述槽体的侧壁的驱动机构；所述驱动机构与所述硅片扰动机构相连接；所述槽体上设置有进水管和出水管，所述进水管配设有第一控制阀，所述出水管配设有第二控制阀。

进一步的，所述硅片扰动机构包括至少两根扰动轴本体；各所述扰动轴本体等间距分布设置在所述槽体的内底部，且每根所述扰动轴本体的两端均通过轴座与所述所述槽体的内底部固定连接；所述扰动轴本体与轴座转动连接。

进一步的，所述扰动轴本体的轴向顶部和轴向底部形成有平面，所述扰动轴本体的轴向两侧形成弧形凸面。

进一步的，所述扰动轴本体的外表面沿着轴向均匀分布有凸条纹。

进一步的，所述驱动机构包括固设所述槽体上的驱动电机、与所述驱动电机的输出端固定连接的驱动齿轮以及固设于各所述扰动轴本体上的传动齿轮；相邻两根所述扰动轴本体上的所述传动齿轮相啮合设置；所述驱动齿轮与一个所述传动齿轮相啮合设置。

进一步的，所述槽体的底部铺设有过滤网。

进一步的，所述槽体上固设有计时器。

进一步的，所述槽体在两端的槽壁上沿着竖直方向设置有导向滑轨。

进一步的，所述出水管连接有抽水泵。

进一步的，所述槽体内固设有水位传感器。

通过采用本实用新型的技术方案，至少具有如下有益效果：

1、通过在槽体的内底部设置硅片扰动机构，并设计硅片扰动机构的扰动轴本体的轴向顶部和底部均为平面，而扰动轴本体的轴向两侧均为弧形凸面；使得在工作时可以利用硅片扰动机构对待清洗的硅片进行扰动，使硅片在清洗的过程中能够上下活动而不会一直处于静止状态，从而可以提高对硅片的清洗效率和清洗效果；同时在槽体上设置有进水管和出水管，可便于槽体的注水和排水。

2、在扰动轴本体的连接轴段上固设有带有扰动块的水轮，当驱动机构驱使扰动轴本体进行旋转时，扰动轴本体可以带动水轮一起旋转，水轮上的扰动块可以对清洗水起到扰动的效果，从而可以实现更好的清洗效果。

3、在槽体的底部铺设有过滤网，这样在硅片清洗过程中所产生的废渣可以聚集到过滤网上，从而使得在需要对槽体进行清洗时，只需将过滤网取出即可将废渣一起带出，可以提高对槽体的清洗效率。

4、在槽体上固设有计时器，这样在清洗的过程中可以对硅片的清洗时间进行计时，从而可以避免出现硅片清洗时间过长导致造成资源浪费，也可以避免出现硅片清洗时间过短导致清洗效果不佳。

【附图说明】

下面参照附图结合实施例对本实用新型作进一步的说明。

图1是本实用新型清洗槽的俯视图；

图2是本实用新型中扰动轴本体的整体结构图；

图3是本实用新型中扰动轴本体的端部结构示意图；

图4是本实用新型中水轮的结构图；

图5是本实用新型槽体与石英舟搭载载体配合时的结构图。

附图标记说明：

100-清洗槽，1-槽体，2-硅片扰动机构，21-扰动轴本体，211-连接轴段，212-平面，213-弧形凸面，214-凸条纹，22-轴座，3-驱动机构，31-驱动电机，32-驱动齿轮，33-传动齿轮，4-进水管，5-出水管，51-抽水泵，6-第一控制阀，7-第二控制阀，8-水轮，81-扰动块，91-过滤网，92-计时器，93-导向滑轨，94-水位传感器，10-石英舟搭载载体，101-扰动轴让位开口，102-提拉架子，103-引导滑块。

【具体实施方式】

为了更好地理解本实用新型的技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对本实用新型的技术方案进行详细的说明。

在此需要说明的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述这些实施方式和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。

请参阅图1至图5所示，本实用新型一种硅片清洗槽100，所述清洗槽100包括槽体1、设于所述槽体1的内底部的硅片扰动机构2以及固设于所述槽体1的侧壁的驱动机构3；所述驱动机构3与所述硅片扰动机构2相连接；其中，所述硅片扰动机构2用于对放入至槽体1内进行清洗的硅片起到扰动的效果，使硅片在清洗的过程中不会一直处于静止状态，从而可以提升清洗效果；在工作时，通过驱动机构3输出动力驱使硅片扰动机构2进行工作。

所述槽体1上设置有进水管4和出水管5，所述进水管4配设有第一控制阀6，以利用第一控制阀6控制进水管4是否往槽体1内输送清洗水；所述出水管5配设有第二控制阀7，以利用第二控制阀7控制出水管5是否将槽体1内废水排出。本实用新型在具体实施时，所述出水管5与槽体1的内底部相连通，以更方便将废水排出；所述进水管4设置在槽体1的上端。作为本实用新型的一种较佳实施方式，所述第一控制阀6和第二控制阀7均为电磁阀。

本实用新型通过在槽体1的内底部设置硅片扰动机构2，使得在工作时可以利用硅片扰动机构2对待清洗的硅片进行扰动，使硅片在清洗的过程中不会一直处于静止状态，从而可以提高对硅片的清洗效率和清洗效果；同时在槽体1上设置有进水管4和出水管5，可便于槽体1的注水和排水。

在本实用新型的实施例中，所述硅片扰动机构2包括至少两根扰动轴本体21；各所述扰动轴本体21等间距分布设置在所述槽体1的内底部，且每根所述扰动轴本体21的两端均通过轴座22与所述所述槽体1的内底部固定连接，轴座22可以通过螺栓直接锁定在槽体1的内底部，从而实现将扰动轴本体21安装在槽体1的内底部；所述扰动轴本体21与轴座22转动连接，这样在驱动机构3的驱使下扰动轴本体21能够进行旋转，从而利用扰动轴本体21的转动来对硅片起到扰动的作用。本实用新型在具体实施时，在所述槽体1内形成有至少两个清洗工位，且每个清洗工位都对应设置一根扰动轴本体21，这样槽体1可以同时对更多的硅片进行清洗，从而能够提高清洗效率。

在本实用新型的实施例中，所述扰动轴本体21的两端均设置有连接轴段211，所述扰动轴本体21通过连接轴段211与轴座22转动连接。

在本实用新型的实施例中，为了对清洗水也起到扰动的效果，从而实现更好的清洗效果；所述连接轴段211上固设有带有扰动块81的水轮8，这样在工作时，当驱动机构3驱使扰动轴本体21进行旋转时，扰动轴本体21可以带动水轮8一起旋转，水轮8上的扰动块81可以对清洗水起到扰动的效果。

在本实用新型的实施例中，所述扰动轴本体21的轴向顶部和轴向底部形成有平面212，所述扰动轴本体21的轴向两侧形成弧形凸面213。通过设置扰动轴本体21的轴向顶部和底部均为平面212，而扰动轴本体21的轴向两侧均为弧形凸面213，使得整根扰动轴本体21呈扁平的杆状结构，这样驱动机构3在驱使扰动轴本体21进行旋转的过程中，扰动轴本体21的平面212和弧形凸面213会交替与硅片的底部相接触，而在平面212与硅片的底部相接触时，硅片处于最低点位置，在弧形凸面213与硅片的底部相接触时，硅片处于最高点位置，因此在扰动轴本体21的作用下硅片会频繁进行上下活动，从而可以提高对硅片的清洗效果。

在本实用新型的实施例中，所述扰动轴本体21的外表面沿着轴向均匀分布有凸条纹214。通过在扰动轴本体21的表面设置凸条纹214，可以增大扰动轴本体21与硅片在接触时的摩擦力，从而更好地带动硅片进行上下活动。

在本实用新型的实施例中，所述驱动机构3包括固设所述槽体1上的驱动电机31、与所述驱动电机31的输出端固定连接的驱动齿轮32以及固设于各所述扰动轴本体21上的传动齿轮33；相邻两根所述扰动轴本体21上的所述传动齿轮33相啮合设置；所述驱动齿轮32与一个所述传动齿轮33相啮合设置。在工作时，通过驱动电机31输出动力带动驱动齿轮32进行旋转，驱动齿轮32的旋转又会带动与之相啮合的传动齿轮33进行旋转，传动齿轮33又会同步带动与之相啮合的下一个传动齿轮33进行旋转，从而可以驱使各个扰动轴本体21进行同步旋转。

在本实用新型的实施例中，所述槽体1的底部铺设有过滤网91，这样在硅片清洗过程中所产生的废渣可以聚集到过滤网91上，从而使得在需要对槽体1进行清洗时，只需将过滤网91取出即可将废渣一起带出，可以提高对槽体1的清洗效率。

在本实用新型的实施例中，所述槽体1上固设有计时器92，这样在清洗的过程中可以对硅片的清洗时间进行计时，从而可以避免出现硅片清洗时间过长导致造成资源浪费，也可以避免出现硅片清洗时间过短导致清洗效果不佳。

在本实用新型的实施例中，所述槽体1在两端的槽壁上沿着竖直方向设置有导向滑轨93。本实用新型在具体实施时，所述槽体1内配设有石英舟搭载载体10，所述石英舟搭载载体10的底部在对应每个扰动轴本体21的位置均开设有扰动轴让位开口101，这样扰动轴本体21在转动时才可以对搭载在石英舟搭载载体10内的硅片进行扰动；所述石英舟搭载载体10的顶部设置有提拉架子102，以方便通过提拉架子102拉动石英舟搭载载体10进行升降；所述石英舟搭载载体10的两端配设有引导滑块103，所述引导滑块103与导向滑轨93滑动连接，这样在引导滑块103和导向滑轨93作用下可以确保石英舟搭载载体10能够平稳地进行升降。

在本实用新型的实施例中，所述出水管5连接有抽水泵51，以方便在换水或者清洗时可以利用抽水泵51将槽体内的水抽出。

在本实用新型的实施例中，所述槽体1内固设有水位传感器94，以利用水位传感器94对槽体1内的水位进行实时检测，从而方便在出现水位不足的情况时可以及时往槽体1内补水。

本实用新型在具体实施时，所述清洗槽100还配设有控制柜(未图示)，所述第一控制阀6、第二控制阀7、驱动机构3、抽水泵51、水位传感器94、计时器92等均与控制柜电性连接，以方便利用控制柜控制各个部件进行工作。

虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式，但是熟悉本技术领域的技术人员应当理解，我们所描述的具体的实施例只是说明性的，而不是用于对本实用新型的范围的限定，熟悉本领域的技术人员在依照本实用新型的精神所作的等效的修饰以及变化，都应当涵盖在本实用新型的权利要求所保护的范围内。

Claims (10)

1.一种硅片清洗槽，其特征在于：包括槽体、设于所述槽体的内底部的硅片扰动机构以及固设于所述槽体的侧壁的驱动机构；所述驱动机构与所述硅片扰动机构相连接；所述槽体上设置有进水管和出水管，所述进水管配设有第一控制阀，所述出水管配设有第二控制阀。

2.如权利要求1所述的清洗槽，其特征在于：所述硅片扰动机构包括至少两根扰动轴本体；各所述扰动轴本体等间距分布设置在所述槽体的内底部，且每根所述扰动轴本体的两端均通过轴座与所述槽体的内底部固定连接；所述扰动轴本体与轴座转动连接。

3.如权利要求2所述的清洗槽，其特征在于：所述扰动轴本体的轴向顶部和轴向底部形成有平面，所述扰动轴本体的轴向两侧形成弧形凸面。

4.如权利要求2所述的清洗槽，其特征在于：所述扰动轴本体的外表面沿着轴向均匀分布有凸条纹。

5.如权利要求2所述的清洗槽，其特征在于：所述驱动机构包括固设所述槽体上的驱动电机、与所述驱动电机的输出端固定连接的驱动齿轮以及固设于各所述扰动轴本体上的传动齿轮；相邻两根所述扰动轴本体上的所述传动齿轮相啮合设置；所述驱动齿轮与一个所述传动齿轮相啮合设置。

6.如权利要求1所述的清洗槽，其特征在于：所述槽体的底部铺设有过滤网。

7.如权利要求1所述的清洗槽，其特征在于：所述槽体上固设有计时器。

8.如权利要求1所述的清洗槽，其特征在于：所述槽体在两端的槽壁上沿着竖直方向设置有导向滑轨。

9.如权利要求1所述的清洗槽，其特征在于：所述出水管连接有抽水泵。

10.如权利要求1所述的清洗槽，其特征在于：所述槽体内固设有水位传感器。

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