CN217569463U - 涂布装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型描述一种涂布装置，包括承载涂布对象的基台、朝向涂布对象分配浆料的供料机构、驱动供料机构相对于基台移动的驱动机构、以及风刀机构，风刀机构包括具有朝向基台输出气流的出风口的气流引导部、以及调节气流引导部的调节底座，调节底座包括与驱动机构联动的基座和铰接于基座的支承部，气流引导部设置于支承部。在本实用新型中，涂布装置的供料机构通过向位于基台的涂布对象供应浆料以形成液膜，风刀机构向液膜输送气流以使液膜干燥，风刀机构的调节底座可以对气流引导部输出气流的角度进行调整。

Description

涂布装置

技术领域

本实用新型大体涉及电子核心产业，具体涉及一种涂布装置。

背景技术

涂布装置是一种可以在基材的表面形成涂膜的设备，常用于芯片制造领域、显示屏制造领域、太阳能电池制造领域或锂电池制造领域。涂布装置通常采用狭缝涂膜、旋涂、刮涂的方式在基材表面涂覆一层湿膜，湿膜干燥后可以形成涂膜或涂层。

在制备涂膜或涂层的过程中，为了提高湿膜的干燥速度，一般会向湿膜表面供应气流以加速湿膜中的溶剂挥发。在现有技术中，通常采用风刀机构向湿膜表面供应气流以进行干燥。

在现有的涂布装置中风刀机构通常是固定的，但是在采用风刀机构对湿膜进行干燥处理的时候，风刀机构供应的气流与湿膜之间的夹角通常会影响液膜的干燥质量和干燥速度。因此，在对不同类型的浆料、或者对不同区域的浆料进行干燥时，通常需要对风刀机构的气流供应角度进行调节。

发明内容

本实用新型是有鉴于上述现有技术的状况而提出的，其目的在于提供一种能够对气流供应角度进行调节的涂布装置。

为此，本实用新型提供一种涂布装置，包括承载涂布对象的基台、朝向所述涂布对象分配浆料的供料机构、驱动所述供料机构相对于所述基台移动的驱动机构、以及风刀机构，所述风刀机构包括具有朝向所述基台输出气流的出风口的气流引导部、以及调节所述气流引导部的调节底座，所述调节底座包括与所述驱动机构联动的基座和铰接于所述基座的支承部，所述气流引导部设置于所述支承部。在本实用新型中，涂布装置的供料机构通过向位于基台的涂布对象供应浆料以形成液膜，通过风刀机构能够向液膜输送气流以使液膜干燥，通过风刀机构的调节底座能够对气流引导部的出风口方向进行调整从而对输出气流与液膜之间的夹角(即气流供应角度)进行调整，由此，能够有利于提高液膜的干燥质量(例如干燥均匀性、膜厚一致性)和干燥速度。

另外，在本实用新型所涉及的涂布装置中，可选地，所述基座包括与所述驱动机构联动的主体部、以及铰接于所述支承部的转接部，所述主体部具有第一轨道，所述转接部可移动地设置于所述第一轨道。在这种情况下，转接部可沿着第一轨道移动，从而能够实现对气流引导部的位置进行调整以调整气流供应角度，由此能够提高膜层的干燥质量。

另外，在本实用新型所涉及的涂布装置中，可选地，所述第一轨道为腰形孔、燕尾槽或滑轨。在这种情况下，能够便于转接部装配于主体部且灵活地沿着第一轨道移动。

另外，在本实用新型所涉及的涂布装置中，可选地，所述主体部包括具有第二轨道的第一基板、以及第二基板，所述第二基板可移动地设置于所述第二轨道。在这种情况下，能够便于第二基板装配于第一基板且灵活地沿着第二轨道移动。

另外，在本实用新型所涉及的涂布装置中，可选地，所述第一轨道的延伸方向垂直于所述第二轨道的延伸方向。由此，通过调节底座能够在第一轨道的延伸方向和/或第二轨道的延伸方向上对气流引导部的位置进行调整。

另外，在本实用新型所涉及的涂布装置中，可选地，所述第一轨道的延伸方向平行于所述供料机构的移动方向，或者所述第二轨道的延伸方向平行于所述供料机构的移动方向。由此，通过驱动气流引导部在第一轨道或第二轨道上移动能够便于调整气流引导部和供料机构的间距。

另外，在本实用新型所涉及的涂布装置中，可选地，所述驱动机构包括驱动所述供料机构的第一驱动部、以及驱动所述风刀机构的第二驱动部。在这种情况下，能够分别驱动风刀机构和供料机构移动。

此外，在本实用新型所涉及的涂布装置中，可选地，所述第一驱动部驱动所述供料机构移动的速度不小于所述第二驱动部驱动所述风刀机构移动的速度。由此，能够在对涂布对象进行干燥的过程中延长风刀机构的作用时间，从而有利于膜液均匀干燥。

此外，在本实用新型所涉及的涂布装置中，可选地，所述支承部经由转轴而铰接于所述基座并且配置为绕所述转轴转动，所述转轴的延伸方向垂直于所述供料机构的移动方向。在这种情况下，气流引导部输出的气流能够对大致同时涂覆于涂布对象的液膜同时进行干燥，由此能够使膜层干燥后成分更均匀。

此外，在本实用新型所涉及的涂布装置中，可选地，所述调节底座还包括第一锁紧部，所述第一锁紧部配置为向所述转接部施加朝向所述基座的第一压力或第二压力，所述第一压力的数值大于所述第二压力的数值。在这种情况下，当第一锁紧部向转接部施加第二压力时，转接部可以相对于基座移动，当第一锁紧部向转接部施加第一压力时，转接部和基座之间的阻力能够用于抑制转接部的移动，由此能够在转接部调整到预设位置后，通过第一锁紧部将转接部锁紧，从而减少转接部发生不期望的转动。

根据本实用新型的涂布装置，能够提供一种能够对气流供应角度进行调节的涂布装置。

附图说明

现在将仅通过参考附图的例子进一步详细地解释本实用新型，其中：

图1是示出了本实用新型示例所涉及的涂布装置的示意图。

图2是示出了本实用新型示例所涉及的涂布装置的涂布原理图。

图3是示出了本实用新型示例所涉及的对气流供应部的位置进行调整的原理图。

图4是示出了本实用新型示例所涉及的调节底座的模块图。

图5是示出了本实用新型示例所涉及的支承部铰接于转接部的示意图。

图6是示出了本实用新型示例所涉及的转接部设置于第二基板的示意图。

图7是示出了本实用新型示例所涉及的第二基板设置于第一基板的示意图。

图8是示出了本实用新型示例所涉及的第一锁紧部的工作原理图。

附图标记说明：

1…涂布装置，2…涂布对象，

100…基台，

200…供料机构，210…分配部，211…腔室，212…壳体，213…出料口，

300…驱动机构，

400…风刀机构，410…气流引导部，411…出风口，420…调节底座，421…支承部，422…基座，423…主体部，424…转接部，425…第一基板，426…第二基板，427…第一轨道，428…第一锁紧部，

500…转轴。

具体实施方式

以下，参考附图，详细地说明本实用新型的优选实施方式。在下面的说明中，对于相同的部件赋予相同的符号，省略重复的说明。另外，附图只是示意性的图，部件相互之间的尺寸的比例或者部件的形状等可以与实际的不同。

需要说明的是，本实用新型中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，例如所包括或所具有的一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可以包括或具有没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

需要说明的是，在本实用新型中，“一侧”、“相对的另一侧”、“向上”、“向下”、“上表面”、“下表面”等相对方位术语或相对方向术语，是参考通常操作姿态，并且不应当被理解为限定性的。

本实用新型涉及一种涂布装置，具体涉及一种具有风刀机构的涂布装置。本实用新型涉及的涂布装置可以用于在涂布对象的表面涂布浆料以形成液膜，并对液膜进行干燥形成膜层。在一些示例中，涂布装置可以称为涂布设备、涂覆设备、涂敷设备、涂布机等。

需要说明的是，在本实用新型中，“液膜”指代的是位于涂布对象上的还未干燥的浆料，有时也可以称“湿膜”；“膜层”指代的是形成在涂布对象上的已经干燥的浆料，也就是说，“液膜”与“膜层”是位于涂布对象上的浆料的不同形态。在一些示例中，膜层可以称为涂膜或涂层。

本实施方式所涉及的涂布装置可以应用于显示屏的制作领域、太阳能电池的功能涂层的制备领域、电池隔膜生产领域、柔性及印刷电子领域等领域，主要用于对涂布对象进行涂膜。本实用新型所涉及的涂布对象可以为玻璃基板、显示器面板、光伏硅片、钙钛矿太阳能电池、芯片晶圆、刚性及柔性基板等。

以下，结合附图，对本实用新型涉及的涂布装置进行说明。

(涂布装置1及涂布原理)

图1是示出了本实用新型示例所涉及的涂布装置1的示意图。图2是示出了本实用新型示例所涉及的涂布装置1的涂布原理图。

在本实施方式中，涂布装置1可以包括基台100、以及供料机构200(参见图1)。基台100可以用于承载涂布对象2。供料机构200可以朝向涂布对象2分配浆料。在一些示例中，供料机构200可以和基台100发生相对移动。由此，能够将浆料涂覆于涂布对象2并形成液膜。

在一些示例中，涂布装置1还可以包括驱动机构300(参见图1)。

在一些示例中，驱动机构300可以用于驱动供料机构200和涂布对象2(或基台100)相对移动。在一些示例中，驱动机构300可以驱动供料机构200相对于基台100移动。

在一些示例中，涂布装置1还可以包括风刀机构400(参见图1)。

在一些示例中，风刀机构400可以朝向基台100输出气流。风刀机构400可以向位于基台100上的涂布对象2输送气流。由此能够加快位于涂布对象2上的液膜的干燥速度。

在本实用新型中，涂布装置1的供料机构200通过向位于基台100的涂布对象2供应浆料以形成液膜，风刀机构400向液膜输送气流以使液膜干燥。

(供料机构200)

在一些示例中，供料机构200可以包括分配浆料的分配部210(参见图2)。在一些示例中，分配部210可以包括具有容纳浆料的腔室211的壳体212、以及连通于腔室211的出料口213(参见图2)。腔室211可以用于容纳浆料，并且位于腔室211内的浆料可以通过出料口213而离开腔室211。

在一些示例中，分配部210的出料口213可以朝向基台100。在这种情况下，容纳于分配部210内的浆料可以通过朝向基台100的出料口213而被供应至位于基台100的涂布对象2。

在一些示例中，出料口213可以呈狭缝状。在这种情况下，能够便于形成片状的膜层。在一些示例中，出料口213的长度方向可以正交于基台100的延伸方向或分配部210的移动方向。在这种情况下，通过将出料口213的长度方向设置成正交于基台100的延伸方向，能够便于向涂布对象2供应浆料时在其表面形成连续不间断的膜层，而且有利于提高膜厚的一致性。

在一些示例中，驱动机构300可以驱动分配部210沿着基台100的延伸方向移动。其中，基台100的延伸方向可以是指其长度方向。例如，如图1所示的X方向。

(驱动机构300)

在一些示例中，驱动机构300可以包括驱动供料机构200的第一驱动部、以及驱动风刀机构400的第二驱动部。在一些示例中，第一驱动部可以和第二驱动部可以彼此联动。在一些示例中，第一驱动部可以和第二驱动部可以彼此分离。在一些示例中，第一驱动部驱动供料机构200的速度可以等于第二驱动部驱动风刀机构400移动的速度。在一些示例中，第一驱动部驱动供料机构200的速度可以大于第二驱动部驱动风刀机构400移动的速度。由此，能够在对涂布对象2进行干燥的过程中延长风刀机构400的作用时间，从而有利于膜液均匀干燥。

需要说明的是，一般为了提高涂布效率，供料机构200通常具有较快的移动速度，此时若风刀机构400与供料机构200一样以较快的速度移动，可能会造成液膜的上下表面未完全干燥，进而可能导致结晶不均匀，形成的膜层厚度不一致。因此，在本实用新型中，供料机构200的移动速度也可以等于风刀机构400的移动速度实际上指的是，风刀机构400的移动速度适配于浆料的干燥所需，供料机构200的移动速度又设置为与风刀机构400的移动速度一致。在这种情况下，能够有利于形成均匀干燥，膜厚一致性较好的膜层。

在一些示例中，供料机构200和风刀机构400可以沿着基台100由上游至下游移动。参见图1，驱动机构300可以驱动供料机构200沿着X方向的反方向移动，当供料机构200经过位于基台100上的涂布对象2的上方时可以向涂布对象2供应浆料，从而在涂布对象2的表面形成膜层。

(风刀机构400)

在一些示例中，如上所述，涂布装置1可以包括风刀机构400。在一些示例中，风刀机构400可以朝向基台100输出气流。

图3是示出了本实用新型示例所涉及的对气流引导部410的位置进行调整的原理图。

在一些示例中，风刀机构400可以包括气流引导部410(参见图3)。在一些示例中，气流引导部410可以具有朝向基台100输出气流的出风口411(参见图3)。在一些示例中，气流引导部410的输出的气流可以为压缩空气或风机产生的。

一般而言，风干的原理为通过向液膜供应气流，气流的动能通过气液分子碰撞而传递给液膜，从而加快液膜分子的运动，且从液膜中挥发出的溶剂分子也将被气流带走，因此能够加快液膜干燥。

在一些示例中，气流引导部410可以位于出料口213的上游。在这种情况下，在分配部210向涂布对象2供应浆料形成液膜后，风刀机构400能够向涂布对象2上的液膜供应气流以进行干燥。

一般来说，气体从出风口411离开后，随着逐渐远离出风口411，气流薄片的截面积逐渐变大，风速逐渐降低，而气流与液膜接触的截面积以及风速会对气流动能与液膜分子的能量交换效率造成影响。换言之，在一些示例中，气流引导部410可以具有有效干燥距离。在有效干燥距离内，气流引导部410的干燥效果较好。

在一些示例中，气流引导部410可以配置为出风口411以气流流向朝向上游且与承载在基台100上的涂布对象2呈预定角度的方式向承载在基台100上的涂布对象2输送气流。由此，能够通过控制气流与液膜的夹角提高干燥质量。

例如，在如图3所示的示例中，涂布对象2可以水平放置在基台100上，出风口411可以朝向上游且与涂布对象2具有预定夹角α。在一些示例中，预定角度可以为15度至75度。换言之，出风口411与涂布对象2的预定夹角α可以为15度至75度。例如，预定角度可以为15度、30度、45度、60度、或75度。在这种情况下，气流以预定角度流出出风口411，由此能够有利于气流沿着预定方向流动。

(调节底座420)

图4是示出了本实用新型示例所涉及的调节底座420的模块图。图5是示出了本实用新型示例所涉及的支承部421铰接于转接部424的示意图。图6是示出了本实用新型示例所涉及的转接部424设置于第二基板426的示意图。图7是示出了本实用新型示例所涉及的第二基板426设置于第一基板425的示意图。

在一些示例中，风刀机构400可以包括调节气流引导部410的调节底座420(参见图4)。调节底座420可以包括支承部421和基座422。在一些示例中，基座422可以与驱动机构300联动。在一些示例中，支承部421可以铰接于基座422。在一些示例中，气流引导部410可以设置于支承部421。在这种情况下，通过风刀机构400的调节底座420能够对设置于支承部421的气流引导部410输出气流的角度进行调整。也即，当气流引导部410的朝向调整时，能够改变输出气流和涂布对象2之间形成的预定夹角α的度数。由此，能够提高膜层的干燥质量。

在一些示例中，支承部421可以配置为绕转轴500转动(参见图5)。在一些示例中，转轴500可以是实体的轴或者假想的直线。例如转轴500可以呈圆柱状，并且和支承部421或基座422一体成型。在一些示例中。转轴500的延伸方向可以和供料机构200的移动方向垂直。在这种情况下，气流引导部410输出的气流能够对大致同时涂覆于涂布对象2的液膜同时进行干燥，由此能够使膜层干燥后成分更均匀。

在一些示例中，基座422可以包括主体部423和转接部424。在一些示例中，主体部423可以与驱动机构300联动。在一些示例中，支承部421可以铰接于转接部424。在一些示例中，转接部424可以可移动地设置于主体部423(参见图6)。

在一些示例中，主体部423可以包括第一基板425和第二基板426。在一些示例中，第一基板425可以于驱动机构300联动。在一些示例中，第一基板425可以由第二驱动部驱动。在一些示例中，在一些示例中，第二基板426可以可移动地设置于第一基板425(参见图7)。

在一些示例中，主体部423可以具有第一轨道427(参见图8)。

在一些示例中，转接部424可以可移动地设置于第一轨道427。在这种情况下，转接部424可沿着第一轨道427移动，从而能够实现对气流引导部410的位置进行调整，由此能够提高膜层的干燥质量。

在一些示例中，第一轨道427可以为腰形孔、燕尾槽或滑轨。在这种情况下，转接部424能够容易地装配于主体部423，并且能够灵活地沿着第一轨道427移动。

在一些示例中，第一基板425可以具有第二轨道。在一些示例中，第二基板426可以可移动地设置于第二轨道。在这种情况下，第二基板426能够容易地装配于第一基板425，并且能够灵活地沿着第二轨道移动。

在一些示例中，第二轨道可以为腰形孔、燕尾槽或滑轨。在这种情况下，第二基板426能够容易地装配于第一基板425，并且能够灵活地沿着第二轨道移动。

在一些示例中，第一轨道427的延伸方向可以垂直于第二轨道的延伸方向。由此，能够通过调节底座420在第一轨道427的延伸方向和/或第二轨道的延伸方向上对气流引导部410的位置进行调整。

在一些示例中，第一轨道427的延伸方向可以平行于供料机构200的移动方向。在一些示例中，第二轨道的延伸方向可以平行于供料机构200的移动方向。由此，能够调整气流引导部410和供料机构200的间距D1。

在一些示例中，第二轨道的延伸方向可以平行于供料机构200的移动方向。在一些示例中，第一轨道427的延伸方向可以垂直于第二轨道的延伸方向。在这种情况下，当第二基板426沿着第二轨道移动的时候，可以调整气流引导部410和供料机构200之间的间距D1。当转接部424沿着第一轨道427移动的时候，可以调整气流引导部410和基台100或涂布对象2的间距D2。在一些示例中，D1指的是气流引导部410和分配部210在水平方向的距离。D2指的是气流引导部410和基台100或涂布对象2在竖直方向的距离。

图8是示出了本实用新型示例所涉及的第一锁紧部428的工作原理图。

在一些示例中，调节底座420还可以包括第一锁紧部428(参见图8)。在一些示例中，第一锁紧部428可以配置为向转接部424施加朝向基座422的第一压力或第二压力。在一些示例中，第一压力的数值可以大于第二压力的数值。在一些示例中，第二压力的数值可以为0。在这种情况下，当第一锁紧部428向转接部424施加第二压力时，转接部424可以相对于基座422移动，当第一锁紧部428向转接部424施加第一压力时，转接部424和基座422之间的阻力能够用于抑制转接部424的移动，由此能够在转接部424调整到第一预设位置或第二预设位置后，通过第一锁紧部428将转接部424锁紧，从而降低转接部424松动的可能性。

在一些示例中，第一锁紧部428可以为螺栓。例如，在如图8所示的示例中，第一轨道427可以是腰形孔，第一锁紧部428可以为螺栓，螺栓贯穿腰形孔并将转接部424和基座422的第二基板426装配在一起。在这种情况下，可以通过控制螺栓的松紧度以对第一锁紧部428向转接部424施加的压力进行调整。

在一些示例中，第一轨道427可以为燕尾槽。对应地，第一锁紧部428可以为贯穿燕尾槽的底部的松紧螺钉。

在一些示例中，调节底座420可以具有第二锁紧部。在一些示例中，第二锁紧部可以配置为向第二基板426施加朝向第一基板425的第三压力或第四压力。在一些示例中，第三压力的数值可以大于第四压力的数值。在一些示例中，第二锁紧部可以和第一锁紧部428采用相同的技术方案并获得等同的技术效果，这里不再赘述。

综上所述，根据本实用新型，能够提供一种能够对气流供应角度进行调节的涂布装置1，并且通过本实用新型的涂布装置1，能够在对涂布对象2进行涂布时提高干燥质量和干燥速度。

虽然以上结合附图和示例对本实用新型进行了具体说明，但是可以理解，上述说明不以任何形式限制本实用新型。本领域技术人员在不偏离本实用新型的实质精神和范围的情况下可以根据需要对本实用新型进行变形和变化，这些变形和变化均落入本实用新型的范围内。

Claims (10)

1.一种涂布装置，其特征在于，包括承载涂布对象的基台、朝向所述涂布对象分配浆料的供料机构、驱动所述供料机构相对于所述基台移动的驱动机构、以及风刀机构，所述风刀机构包括具有朝向所述基台输出气流的出风口的气流引导部、以及调节所述气流引导部的调节底座，所述调节底座包括与所述驱动机构联动的基座和铰接于所述基座的支承部，所述气流引导部设置于所述支承部。

2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述基座包括与所述驱动机构联动的主体部、以及铰接于所述支承部的转接部，所述主体部具有第一轨道，所述转接部可移动地设置于所述第一轨道。

3.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述第一轨道为腰形孔、燕尾槽或滑轨。

4.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述主体部包括具有第二轨道的第一基板、以及第二基板，所述第二基板可移动地设置于所述第二轨道。

5.根据权利要求4所述的涂布装置，其特征在于，所述第一轨道的延伸方向垂直于所述第二轨道的延伸方向。

6.根据权利要求4或5所述的涂布装置，其特征在于，所述第一轨道的延伸方向平行于所述供料机构的移动方向，或者所述第二轨道的延伸方向平行于所述供料机构的移动方向。

7.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述驱动机构包括驱动所述供料机构的第一驱动部、以及驱动所述风刀机构的第二驱动部。

8.根据权利要求7所述的涂布装置，其特征在于，所述第一驱动部驱动所述供料机构移动的速度不小于所述第二驱动部驱动所述风刀机构移动的速度。

9.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述支承部经由转轴而铰接于所述基座并且配置为绕所述转轴转动，所述转轴的延伸方向垂直于所述供料机构的移动方向。

10.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述调节底座还包括第一锁紧部，所述第一锁紧部配置为向所述转接部施加朝向所述基座的第一压力或第二压力，所述第一压力的数值大于所述第二压力的数值。

Images