CN217535845U - 一种无银镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种无银镀膜玻璃,属于玻璃技术领域。一种无银镀膜玻璃,包括玻璃基片以及依次镀覆在玻璃基片表面的第一氮化硅SiNx层、第一氧化硅SiOx层、ITO层、第二氧化硅SiOx层、第二氮化硅SiNx层和氮化锆ZrNx层。本实用新型是一种无银镀膜玻璃,能够代替普通镀膜中空玻璃中的白玻配片,且具有良好的耐磨与抗氧化作用,同时在确保可见光高透过率的情况下拥有更低的传热系数U值,同时与传统单银低辐射镀膜玻璃不同的是内外介质层均采用氮化硅,而不是其他金属氧化物。这种膜系的低辐射镀膜玻璃结构致密、性能稳定、具有更好的耐磨性与可钢化性便于后续加工,是一款高性能镀膜玻璃。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种无银镀膜玻璃,属于玻璃技术领域。
背景技术
当前节能减排是全世界人类共同努力保护环境的的重要方向,环境污染问题越来越严重的重要因素就是能耗过高,人们生产居住环境的保温所产生的能耗特别是建筑物的保温性能差是影响碳排放升高的一个重要因素。结合北方的气候特点,以北方住宅围护结构性能进行有效的研究,更合理的减少住宅中的热量损失。并通过利用太阳能技术和保温材料的应用,结合恰当的建筑体型设计和住宅的围护结构设计,建造出低碳型的住宅,来减少对环境的污染。因此只有发展低碳采暖住宅,才是我们北方住宅的可持续发展之路。
目前市面生产的镀膜玻璃主要是依靠功能银层减少远红外的透过以达到隔热作用,但众所周知银是种易氧化金属,含银镀膜玻璃为确保功能银层的稳定,一定要把膜层合到中空腔体内部以隔绝空气避免氧化,另一配片使用普通白玻。这样北方冬季室内的热量不能很好的存。我们需要一种镀膜玻璃可膜面在空气环境下长期使用且具有阻挡远红外线的功能。
目前市场镀膜玻璃缺陷:
1.普通镀膜玻璃,无法在空气中单片使用。
2.镀膜玻璃靠功能银层隔离远红外线,镀膜玻璃表面银层易氧化,后续深加工困难成品率低。
3.能单片使用的阳光控制膜达不到隔离远红外线的保温作用。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种无银镀膜玻璃。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:
一种无银镀膜玻璃,包括玻璃基片以及依次镀覆在玻璃基片表面的第一氮化硅SiNx层、第一氧化硅SiOx层、ITO层、第二氧化硅SiOx层、第二氮化硅SiNx层和氮化锆ZrNx层。
本实用新型技术方案的进一步改进为:第一氮化硅SiNx层为35-70nm,第一氧化硅SiOx层厚度为50-60nm,ITO层厚度为50-80nm,第二氧化硅SiOx层厚度为35-55nm,第二氮化硅SiNx层厚度为70-80nm,氮化锆ZrNx层厚度为35-45nm。
本实用新型技术方案的进一步改进为:第一氮化硅SiNx层为50nm,第一氧化硅SiOx层厚度为55nm,ITO层厚度为70nm,第二氧化硅SiOx层厚度为45nm,第二氮化硅SiNx层厚度为75nm,氮化锆ZrNx层厚度为40nm。
由于采用了上述技术方案,本实用新型取得的技术效果有:
本实用新型是一种无银镀膜玻璃,通过控制电源功率准确控制各膜层的厚度来形成一种新的膜系,来替代当市场推广的普通镀膜玻璃。同时增加使用氮化锆保证玻璃的耐磨性、耐酸碱性。
本实用新型是一种无银镀膜玻璃,能够代替普通镀膜中空玻璃中的白玻配片,膜面应用在中空玻璃室内面第四面上,且具有良好的耐磨与抗氧化作用,同时在确保可见光高透过率的情况下拥有更低的传热系数U值,同时与传统单银低辐射镀膜玻璃不同的是内外介质层均采用氮化硅,而不是其他金属氧化物。这种膜系的低辐射镀膜玻璃结构致密、性能稳定、具有更好的耐磨性与可钢化性便于后续加工,是一款高性能镀膜玻璃。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图;
图2是本实用新型镀膜玻璃的中空制品结构示意图;
其中,1、第一氮化硅SiNx层,2、第一氧化硅SiOx层,3、ITO,4、第二氧化硅SiOx层,5、第二氮化硅SiNx层,6、氮化锆ZrNx层,7、玻璃基片,8、膜层,9、间隔铝条,10、密封结构胶。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
本实用新型是一种无银镀膜玻璃,能够代替普通镀膜中空玻璃中的白玻配片。
如图1所示,该镀膜玻璃包括玻璃基片以及依次镀覆在玻璃基片1表面的第一氮化硅SiNx层2、第一氧化硅SiOx层3、ITO层4、第二氧化硅SiOx层5、第二氮化硅SiNx层6和氮化锆ZrNx层7。
其中,氮化硅SiNx层为电解质层,氧化硅SiOx层为阻挡层,ITO层为功能层,氮化锆ZrNx层为保护层。
在具体的实施中,第一氮化硅SiNx层2为50-90nm,第一氧化硅SiOx层3厚度为45-65nm,ITO层4厚度为30-150nm,第二氧化硅SiOx层5厚度为30-80nm,第二氮化硅SiNx层6厚度为60-90nm,氮化锆ZrNx层7厚度为30-50nm。进一步的,优先地,第一氮化硅SiNx层为50nm,第一氧化硅SiOx层厚度为55nm,ITO层厚度为70nm,第二氧化硅SiOx层厚度为45nm,第二氮化硅SiNx层厚度为75nm,氮化锆ZrNx层厚度为40nm。
该镀膜玻璃的镀膜在生产时,通过控制电源功率准确控制各膜层的厚度来形成一种新的膜系,来替代当市场推广的普通镀膜玻璃。
其中,电介质层,通过交流阴极的硅铝合金靶在氮氩氛围中溅射,硅铝合金之比为Si:Al=90:10,氮氩之比为60:40。
阻挡层,通过交流阴极的纯硅靶在氩氧氛围中溅射,氩氧之比为75:25。
功能层,通过交流阴极的ITO靶在氩氧氛围中溅射,氩氧之比为70:30。
保护层,通过交流阴极的氮化锆靶在氮氩氛围中溅射,氮氩之比为65:35。
本实用新型利用真空磁控溅射镀膜工艺,单阻挡层使用SiOx,功能层使用ITO构成一种新的膜系,其中包括7个双旋转交流阴极, 4个直流单旋转阴极共11个靶位依次在浮法玻璃基片镀SiNx/SiOx/ITO/ SiOx /SiNx/ ZrNx。
本实用新型是一种无银镀膜玻璃,能够代替普通镀膜中空玻璃中的白玻配片,如图2所示,在使用时膜面应用在中空玻璃室内面第四面上,也就是使膜层8位于室内最里侧一面。中空玻璃制品包括两个间隔设置的玻璃基片1以及位于玻璃基片1中间的两端的间隔铝条9,通过间隔铝条9使两个玻璃基片1之间具有空腔实现间隔设置,在间隔铝条9的外部使用密封结构胶10进行密封。
上述使用无银镀膜玻璃制成的中空玻璃制品,能够且具有良好的耐磨与抗氧化作用,同时在确保可见光高透过率的情况下拥有更低的传热系数U值。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (4)
1.一种无银镀膜玻璃,其特征在于:包括玻璃基片以及依次镀覆在玻璃基片表面的第一氮化硅SiNx层、第一氧化硅SiOx层、ITO层、第二氧化硅SiOx层、第二氮化硅SiNx层和氮化锆ZrNx层。
2.根据权利要求1所述的一种无银镀膜玻璃,其特征在于:第一氮化硅SiNx层为50-90nm,第一氧化硅SiOx层厚度为45-65nm,ITO层厚度为30-150nm,第二氧化硅SiOx层厚度为30-80nm,第二氮化硅SiNx层厚度为60-90nm,氮化锆ZrNx层厚度为30-50nm。
3.根据权利要求2所述的一种无银镀膜玻璃,其特征在于:第一氮化硅SiNx层为35-70nm,第一氧化硅SiOx层厚度为50-60nm,ITO层厚度为50-80nm,第二氧化硅SiOx层厚度为35-55nm,第二氮化硅SiNx层厚度为70-80nm,氮化锆ZrNx层厚度为35-45nm。
4.根据权利要求2所述的一种无银镀膜玻璃,其特征在于:第一氮化硅SiNx层为50nm,第一氧化硅SiOx层厚度为55nm,ITO层厚度为70nm,第二氧化硅SiOx层厚度为45nm,第二氮化硅SiNx层厚度为75nm,氮化锆ZrNx层厚度为40nm。
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