CN217459255U - 薄化装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种薄化装置,包括用于放置待处理板的容置筐和设在容置筐两侧壁内的限位件,限位件设在所述容置筐相对的两侧壁内,用于限定所述待处理板为竖直状态,所述限位件和所述待处理板的承载面中的至少一者可沿竖直方向移动,所述限位件和所述承载面的移动非同步,使所述限位件和所述待处理板之间可沿竖直方向发生相对运动。具体来说,可通过在待处理板下方设置可上下移动的承托盘或者可带动限位件上下移动的传动杆实现。本实用新型可以实现对待处理板的双面蚀刻,同时减小处理后的板的平整度,有利于后续制程。
Description
技术领域
本实用新型涉及液晶显示屏技术领域,特别涉及一种薄化装置。
背景技术
随着便携式电子显示设备例如智能手机的发展,液晶显示器件正向着轻薄化、高性能的方向发展,而要实现液晶显示面板的轻薄化,实现液晶显示面板中的玻璃基板的轻薄化是最重要的发展方向之一。
现有技术中常用例如包括氢氟酸的蚀刻液对玻璃基板进行薄化处理,具体来说分为单面蚀刻和双面蚀刻两种。显然,双面蚀刻方法比单面蚀刻的效率更高,有利于提高产能,但是双面蚀刻方法容易在玻璃基板的表面形成凸起,不利于后续制程的处理。因此,需要一种薄化装置,能够实现对玻璃基板的双面蚀刻,同时减小蚀刻后的玻璃基板的平整度。
实用新型内容
鉴于上述问题,本实用新型的目的在于提供一种薄化装置,从而实现对于液晶显示面板中的玻璃基板的双面蚀刻薄化,同时减小了蚀刻后的玻璃基板的平整度,有利于后续制程。
根据本实用新型的一方面,提供一种薄化装置,包括:容置筐,用于放置待处理板;限位件,所述限位件设有多个,多个所述限位件设在所述容置筐相对的两侧壁内,用于限定所述待处理板为竖直状态。其中,所述限位件和所述待处理板的承载面中的至少一者可沿竖直方向移动,所述限位件和所述承载面的移动非同步,使所述限位件和所述待处理板之间可沿竖直方向发生相对运动。
可选地,所述容置筐包括多个横向连杆,多个所述横向连杆设在不同高度,多个所述限位件设在多个所述横向连杆上,多个所述限位件分层设置。
可选地,多个所述限位件沿竖直方向移动的方式为整体同步移动、相对的两侧交替移动和各层限位件交替移动中的至少一种。
可选地,还包括承托盘,所述承托盘设在所述容置筐的底部,可相对于所述容置筐在竖直方向上移动。
可选地,所述承托盘上设有通孔和/或沟槽,所述沟槽的延伸方向与所述待处理板呈预设夹角。
可选地,还包括驱动单元,用于控制所述限位件和所述待处理板的承载面中的至少一者可沿竖直方向移动,所述驱动单元包括气动、液压、凸轮中的至少一种。
可选地,还包括第一传动杆,所述第一传动杆分别与所述承托盘和所述驱动单元连接。
可选地,还包括第二传动杆,所述第二传动杆纵向设置,与所述多个横向连杆连接。
可选地,所述第二传动杆与所述容置筐的立柱呈嵌套结构。
可选地,所述容置筐的立柱上设有轨道,所述横向连杆可沿所述轨道移动。
本实用新型提供的技术方案,将需要薄化的玻璃基板放入薄化装置中,通过限位件将玻璃基板设为竖直状态。蚀刻液由上至下流过玻璃基板表面,实现对玻璃基板表面的均匀刻蚀。限位件和玻璃基板可通过下方设可升降的承托盘或者传动杆实现相对运动,避免了限位件遮蔽玻璃基板表面而产生凸起。此外,还设有多组限位件,分别和玻璃基板接触,减小蚀刻后的玻璃基板的表面平整度。
附图说明
通过以下参照附图对本实用新型实施例的描述,本实用新型的上述以及其他目的、特征和优点将更为清楚,在附图中:
图1a示出了根据现有技术的用于薄化液晶显示面板中玻璃基板的薄化装置;
图1b示出了根据现有技术中薄化装置薄化的玻璃基板涂覆膜层的示意图;
图2a示出了根据本实用新型的第一实施例的薄化装置的三维视图;
图2b示出了根据本实用新型的第一实施例的薄化装置的截面图;
图3示出了根据本实用新型的第二实施例的薄化装置的三维视图。
具体实施方式
以下将参照附图更详细地描述本实用新型的各种实施例。在各个附图中,相同的元件或者模块采用相同或类似的附图标记来表示。为了清楚起见,附图中的各个部分没有按比例绘制。
同时,在本专利说明书及权利要求当中使用了某些词汇来指称特定的组件。本领域普通技术人员应当可理解,制造商可能会用不同的名词来称呼同一个组件。本专利说明书及权利要求并不以名称的差异来作为区分组件的方式,而是以组件在功能上的差异来作为区分的准则。
在本申请中,描述了本发明的许多特定的细节,例如器件的结构、材料、尺寸、处理工艺和技术,以便更清楚地理解本发明。但正如本领域的技术人员能够理解的那样,可以不按照这些特定的细节来实现本发明。
此外,还需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或者操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其它变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
现有技术中的采用双面蚀刻方法的玻璃基板薄化装置的结构示意图如图1a,为了实现对玻璃基板的两个表面的同时蚀刻,需将玻璃基板100 设置为竖直状态,从而使蚀刻液由上至下流过玻璃基板100表面,实现对玻璃基板表面的均匀蚀刻。为了将玻璃基板100保持为竖直状态,还设有一个篮筐200和若干限位件210,限位件210设在篮筐200的内侧,固定玻璃基板100的位置。但是,限位件210夹持玻璃基板100,导致玻璃基板100的表面被夹持部分未被蚀刻而形成了凸起,此凸起会严重影响后续制程。例如,如图1b所示,带有凸起的玻璃基板在进行液晶涂覆过程中,凸起部分容易和液晶喷头300或前置挡板310碰撞,导致设备停机和喷头损坏,严重影响生产效率。现有技术中常用于处理玻璃基板凸起的方法往往是打磨平整或者点酸处理,效率低下且处理后的基板表面平整情况较差。
本实用新型提供了一种新的薄化装置,实现对玻璃基板的双面蚀刻薄化,且不留下凸起,优化了现有的液晶显示面板的制程,提高了生产效率。
图2a示出了本实用新型薄化装置的第一实施例的三维视图,图2b 示出了本实用新型薄化装置的第一实施例的截面图,如图所示,本实用新型的第一实施例包括一个容置筐200,容置筐200的侧壁由若干横向杆和竖直设置的立柱组成。为了保持待处理板100为竖直状态,在容置筐200的两个相对的内侧壁上设有多个限位件210,具体地,限位件210 设为“凹”字形状,其缺口用于夹持待处理板100,应当理解的是,限位件210的缺口宽度与需要减薄处理的待处理板的厚度相适应。在一些实施例中,限位件210设在容置筐200的一对相对的内壁上,多个限位件210成对设置,从待处理板100的两侧夹持待处理板100。为了避免限位件210遮蔽部分待处理板的蚀刻面,限位件210和待处理板100的承载部件中至少一个被设为能够在竖直方向上移动,且两者运动非同步,使得限位件和待处理板之间在竖直方向上产生相对运动。
在本实用新型的一些实施例中,容置筐200的侧壁设有多个不同高度的横向连杆,限位件210设在横向连杆上,实现限位件210的分层设置。
为了实现限位件210相对于待处理板100的移动,本实施例的薄化装置还设有承托盘400,承托盘400设在待处理板100的下方,可以上下竖直移动。可以理解的是,承托盘400的上下移动会带动待处理板100 上下移动,从而实现待处理板100和限位件210在竖直方向上相对移动。
应当注意的是,在本实用新型的减薄装置中,限位件210仅用于限制待处理板100的左右移动,并不夹紧待处理板,使得其能够在竖直方向上移动。
在本实用新型的一些实施例中,承托盘400上还设有通孔/沟槽410,用于引导蚀刻液流出。本领域技术人员应当理解,蚀刻液常采用氢氟酸等容易与玻璃反应的成分,蚀刻液与玻璃反应产生的白色粉末状沉淀容易沉积粘附在玻璃基板的下端,进而造成玻璃基板下端凹凸不平,影响产品质量。本实施例中采用设置通孔/沟槽410的方法解决上述问题,由于蚀刻液从上到下流动,流至玻璃基板底端,即承托盘400表面的是蚀刻液和反应产物的混合物,通过设置合适形状的通孔/沟槽410,引导所述混合物流出薄化装置。例如,通孔/沟槽410可设为与限位件210的位置相对应的多个依次排列的通孔,也可以是与玻璃基板在承托盘400的表面上的延伸方向不同的多个平行排布的沟槽。应当理解的是,通孔/ 沟槽410的形状、大小和排布方式由待处理的玻璃基板决定,本实用新型不对此做出具体限定。
在本实用新型的一些实施例中,承托盘400通过驱动单元实现竖直方向上移动,具体来说,驱动单元例如可以是气动泵,也可以是其他液压器件或凸轮。驱动单元提供动力,带动第一传动杆运动,第一传动杆带动承托盘400上下移动。例如,在一些实施例中,承托盘400与若干气动泵连接。为了保证承托盘400在移动过程中保持水平,上述驱动单元相对于承托盘400均匀分布。此外,为了防止上述蚀刻液对驱动单元造成影响,特别地,驱动单元设在容置筐200的外侧。
在玻璃基板的薄化过程中,可以理解的是,对于不同的玻璃基板的薄化程度可能不同,因此,在本实用新型的一些实施例中,承托盘400 包括多个,每个承托盘400能够独立调节其在竖直方向上的移动。每个承托盘400与至少一个待处理板100相对应,实现对不同的待处理板100 的独立处理。
图3示出了本实用新型薄化装置的第二实施例的三维视图,如图3 所示,本实施例的容置筐200设有底盘300,显然,所述底盘300上也设有通孔/沟槽310,用于流通蚀刻液。底盘300用于承托待处理板100。在本实施例中,待处理板100相对于底盘300静止,限位件210上下移动。应当理解的是,限位件210的移动方式由横向连杆240决定。具体来说,多个横向连杆240可以整体同步移动,也可以两侧交替移动或者同层限位件交替移动。
在本实用新型的一些实施例中,横向连杆240与纵向设置的第二传动杆220连接。第二传动杆220带动横向连杆240在竖直方向上移动。
在本实用新型的一些实施例中,本实用新型的薄化装置还包括立柱 230,具体来说,立柱230固定设在底盘300的边缘,第二传动杆220 和立柱230成嵌套结构。第二传动杆220和立柱230之间可以在竖直方向上相对运动。由上文可以理解,待处理板100和底盘300的相对位置固定,因此,第二传动杆220可相对于待处理板100在竖直方向上移动。例如,在图3所示出的实施例的薄化装置中,立柱230环绕第二传动杆 220设置,第二传动杆220可在竖直方向上移动。
为了实现限位件210相对于所述待处理板100移动,在第二传动杆 220之间设横向连杆240作为容置筐200的侧壁,同时,在横向连杆240 上设限位件210,使限位件210能够相对于待处理板100运动。同时,横向连杆240将若干第二传动杆220连接为一个整体,使多个限位件210 能够同步移动。此外,在一些实施例中,若干立柱230之间还设有固定杆250,用于提高容置筐200强度。例如,在图3所示出的实施例的薄化装置中,第二传动杆220之间设横向连杆240,立柱230之间设固定杆250。
为了保证横向连杆240能够在竖直方向上自由移动,在立柱230的侧壁上设有在竖直方向上延伸的轨道231,轨道231的深度贯穿立柱230 的侧壁厚度。
在本实用新型的一些实施例中,蚀刻液是从上到下流过玻璃基板表面的,因此,不同高度的玻璃基板表面的蚀刻情况可能不尽相同。为了改善这一情况,上述可相对于待处理板运动的第二传动杆分节设置,每一节之间设有至少一个横向连杆,从而使不同高度的限位件实现独立调控,提高了产品质量。
依照本实用新型的实施例如上文,这些实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该实用新型仅为的具体实施例。显然,根据以上描述,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本实用新型的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本实用新型以及在本实用新型基础上的修改使用。本实用新型的保护范围应当以本实用新型权利要求及其等效物所界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种薄化装置,其特征在于,包括:
容置筐,用于放置待处理板;
限位件,所述限位件设有多个,多个所述限位件设在所述容置筐相对的两侧壁内,用于限定所述待处理板为竖直状态;
其中,所述限位件和所述待处理板的承载面中的至少一者可沿竖直方向移动,所述限位件和所述承载面的移动非同步,使所述限位件和所述待处理板之间可沿竖直方向发生相对运动。
2.根据权利要求1所述的薄化装置,其特征在于,所述容置筐包括多个横向连杆,多个所述横向连杆设在不同高度,多个所述限位件设在多个所述横向连杆上,多个所述限位件分层设置。
3.根据权利要求2所述的薄化装置,其特征在于,多个所述限位件沿竖直方向移动的方式为整体同步移动、相对的两侧交替移动和各层限位件交替移动中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的薄化装置,其特征在于,还包括承托盘,所述承托盘设在所述容置筐的底部,可相对于所述容置筐在竖直方向上移动。
5.根据权利要求4所述的薄化装置,其特征在于,所述承托盘上设有通孔和/或沟槽,所述沟槽的延伸方向与所述待处理板呈预设夹角。
6.根据权利要求4所述的薄化装置,其特征在于,还包括驱动单元,用于控制所述限位件和所述待处理板的承载面中的至少一者可沿竖直方向移动,所述驱动单元包括气动、液压、凸轮中的至少一种。
7.根据权利要求6所述的薄化装置,其特征在于,还包括第一传动杆,所述第一传动杆分别与所述承托盘和所述驱动单元连接。
8.根据权利要求2所述的薄化装置,其特征在于,还包括第二传动杆,所述第二传动杆纵向设置,与多个所述横向连杆连接。
9.根据权利要求8所述的薄化装置,其特征在于,所述第二传动杆与所述容置筐的立柱呈嵌套结构。
10.根据权利要求9所述的薄化装置,其特征在于,所述容置筐的立柱上设有轨道,所述横向连杆可沿所述轨道移动。
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