CN217162023U - 清洁基座及清洁基站 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种清洁基座及清洁基站。该清洁基座包括基座本体和挡液结构，所述基座本体上设有清洗槽；挡液结构包括围设于所述清洗槽的槽口周侧的挡液件，所述挡液件用于将从所述清洗槽的槽口溅出的液体回挡至所述清洗槽内。本实用新型通过挡水结构围设于清洁槽的槽口的周侧，从而可阻挡从清洗槽的槽口溅出的液体肆意流动，并通过挡液件可将从清洗槽中溅出的液体回挡至清洗槽内，使得液体不易流淌至地面或是基站内部，可有效保护用户地板，以及保护清洁基站本身，延长清洁基站的使用寿命。

Description

清洁基座及清洁基站

技术领域

本实用新型涉及清洁工具的技术领域，具体涉及一种清洁基座及清洁基站。

背景技术

清洁基站是一种用于对清洁设备上的清洁件实现自动清洗的设备，在清洁基站上设有清洗槽，将清洁设备上的清洁件容设于清洗槽中，可对清洁件进行清洗。但传统的清洁基站在清洁的过程中，清洗槽中的液体容易从清洗槽的槽口处甩出，甩出的液体积聚成水流，会附着在清洁基站内部，造成内部进水风险；或者甩出的液体会流至地板上，造成地面湿滑，甚至出现泡地板的风险。

实用新型内容

因此，本实用新型所要解决的技术问题是传统的清洁基站在清洗清洁件的过程中，液体容易从清洗槽中甩出，造成清洁基站损坏，或者造成用户地面湿滑，甚至泡地板的风险。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种清洁基座，包括：

基座本体，所述基座本体上设有清洗槽；

挡液结构，包括围设于所述清洗槽的槽口周侧的挡液件，所述挡液件用于将从所述清洗槽的槽口溅出的液体回挡至所述清洗槽内。

可选地，上述的清洁基座，所述挡液件包括挡液筋，所述挡液筋至少部分凸出于所述清洗槽的槽口。

可选地，上述的清洁基座，所述挡液筋呈环状围设于所述清洗槽的槽口周侧、且与所述清洗槽的槽口的形状相适配。

可选地，上述的清洁基座，还包括导引槽，所述导引槽设于所述清洗槽的槽口上、且与所述清洗槽相连通。

可选地，上述的清洁基座，所述基座本体具有导向面，所述清洗槽的槽口位于所述导向面上，所述导向面沿所述基座本体呈倾斜设置，以形成有呈相对设置的高位端和低位端，所述清洗槽位于所述导向面的高位端，所述导引槽位于所述高位端和所述低位端之间。

可选地，上述的清洁基座，所述导向面的低位端以形成进入侧，所述挡液件呈环状围设于所述清洗槽的槽口周侧、且对应所述进入侧的一侧呈敞开设置，所述导引槽位于所述敞开处。

可选地，上述的清洁基座，所述导向面沿所述基座本体的横向倾斜设置，所述导引槽沿所述基座本体的纵向延伸设置、且至少一端与所述清洗槽连通。

可选地，上述的清洁基座，所述导引槽设置有多个，多个导引槽沿所述清洗槽的周向布设于所述清洁槽的槽口上。

可选地，上述的清洁基座，各所述导引槽的至少部分自所述清洗槽的槽口处沿所述清洗槽的径向朝向所述挡液件的方向延伸设置。

本实用新型还提供一种清洁基站，包括所述的清洁基座。

本实用新型提供的技术方案，具有以下优点：

本实用新型提供的清洁基座，包括有基座本体及挡液结构，基座本体上形成有清洗槽，清洗槽可供清洁设备的清洁件容设于其中进行清洗；通过挡液结构围设于清洁槽的槽口的周侧，从而可阻挡从清洗槽的槽口溅出的液体肆意流动，并通过挡液件可将从清洗槽中溅出的液体回挡至清洗槽内，使得液体不易流淌至地面或是基站内部，可有效保护用户地板，以及保护清洁基站本身，延长清洁基站的使用寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型提供的一种清洁基座的一实施例的结构示意图；

图2为图1中细节A的放大结构示意图；

图3为图1中细节B的放大结构示意图。

附图标记说明：

100-清洁基座；1-基座本体；11-清洗槽；12-导向面；2-挡液结构；21-挡液件；211-挡液筋；3-导引槽。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。下文中将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

需要说明的是，本实用新型的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。

在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的，或者是针对部件本身在竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本实用新型。

实施例1

本实施例提供一种清洁基座100，请参阅图1，该清洁基座100包括有基座本体1和挡液结构2，基座本体1可包括有座体、以及与座体可拆卸连接的托盘，在基座本体1上设有清洗槽11，优选地，清洗槽11呈内凹状设于托盘的上表面，在清洁基座100正常工作时，托盘的上表面用于供清洁设备放置，清洗槽11用于供清洁设备的清洁件容设其中，如抹布、毛刷等容设于其中进行清洗，清洁件在清洗的过程中，清洗槽11内会喷射有清洁液，且清洗槽11内还可设置有清洁部，清洁部可设置为带有凸包的清洁筋条，清洁件与清洁部接触，且清洁件会相对于清洗槽11转动，以增加清洁件与清洁部之间的摩擦力，使得清洁件的清洗更干净。清洁件在转动的过程中，至少有部分清洁液会从清洗槽11的槽口溅出，为避免溅出的液体肆意流动，设置有挡液结构2，通过挡液结构2的挡液件21围挡于清洗槽11的槽口周侧，从而可阻挡从清洗槽11的槽口溅出的液体肆意流动，并通过挡液件21将从清洗槽11中溅出的液体回挡至清洗槽11内，使得液体不易流淌至地面或是基站内部，可有效保护用户地板，以及保护清洁基站本身，延长清洁基站的使用寿命。

优选地，如图2中所示，挡液件21包括有挡液筋211，挡液筋211至少部分凸出于清洗槽11的槽口，使得挡液筋211高出于清洗槽11的槽口设置，从而清洗槽11的槽口处溅出的液体可被挡液筋211阻挡，避免液体洒落至用户地板上。挡液筋211的高度可根据清洁基座100的尺寸进行合理设置，显然越高挡液效果更好。

进一步地，挡液筋211呈环状围设于清洗槽11的槽口的周侧，且挡液筋211的形状与清洗槽11的槽口的形状相适配，使得清洗槽11的槽口各侧均可被挡液筋211围挡，挡液效果更好，而且连续的环状挡液筋211也可使得挡液筋211的强度更好。

当然，挡液筋211也可设置有多层，多层挡液筋211由内向外呈间隔层叠设置，即从清洗槽11的槽口处朝向基座本体1的边缘的方向，依次设置有多层挡液筋211，挡液效果更好，而且相邻的两层挡液筋211之间可形成导流槽，将导流槽与清洗槽11连通，从而使得溅出的液体可回流至清洗槽11内，避免液体肆意流动。

在另一实施方式中，结合图1和图3所示，该清洁基座100还包括有导引槽3，导引槽3设于清洗槽11的槽口上，且与清洗槽11相连通，通过导引槽3将溅落至清洗槽11的槽口周侧的液体回导至清洗槽11内。

具体地，在基座本体1上具有导向面12，该导向面12可为托盘的上表面，清洗槽11的槽口位于导向面12上，优选地，将导向面12沿基座本体1呈倾卸设置，以形成有呈相对设置的高位端和低位端，清洗槽11位于高位端，使得从清洗槽11溅出的液体可沿着导向面12从高位端朝向低位端的方向流动，导引槽3则位于高位端和低位端之间，以拦截从高位端流下的液体，同时避免液体从低位端流出清洁基座100，通过导引槽3将从清洗槽11溅出的液体进行聚集，以回导至清洗槽11内。

设定清洁基座100正常工作时，基座本体1的前端为低位端，清洁槽位于导向面12的高位端，即位于基座本体1的后端，导向面12的低位端以形成进入侧，本实用新型中关于方位的描述可均以此方位为参照。清洁设备在清洁完毕后，可自基座本体1的低位端进入清洁基座100上，从而更方便的将清洁件移动至清洗槽11内，挡液件21呈环状围设于清洗槽11的槽口周侧、且对应进入侧的一侧呈敞开设置，导引槽3位于敞开处，同时，清洗槽11的槽口也呈倾斜设置，则导引槽3位于清洗槽的槽口周侧的最低处，以更便于收集液体。清洗槽11的槽口通过挡液件21和导引槽3共同围设，其中一部分液体在挡液件21的作用下回挡至导向面12上，并沿着导向面12流动，以进入导引槽3内，对导向面12上的液体进行导向流动，防止液体肆意流动，进入基座内部，影响清洁基座100正常工作。

其中，导引槽3的设置形式较多。在一实施方式，设定导向面12沿基座本体1的横向倾斜设置(即沿基座本体1的前后方向倾斜设置)，导引槽3沿基座本体1的纵向延伸设置、且至少一端与清洗槽11连通，液体在导向面12上从基座本体1的后端朝向前端的方向流动，导引槽3大致呈左右方向延伸设置，对导向面12上的液体的流动形成阻拦，使得液体可全部进入导引槽3内，避免液体流出基座本体1的前端，再通过在导引槽3的一侧设置有与清洗槽11连通的连通通道，连通通道可呈前后方向延伸设置，且沿便于液体流回至清洗槽11的方向倾斜设置，使得液体回流至清洗槽11内更顺畅。

在另一实施方式中，导引槽3可设置有多个，多个导引槽3沿清洗槽11的周向布设于清洁槽的槽口上，显然更多地导引槽3可更利于溅出的液体的回流。

各导引槽3的至少部分自清洗槽11的槽口处沿清洗槽11的径向朝向挡液件21的方向延伸设置，使得从清洗槽11溅出的液体至少一部分可直接落入各导引槽3内，以直接回流至清洗槽11内，而另一部分溅出的液体则可在挡液件21的阻挡下进入导引槽3和/或清洗槽11内，清洁基座100在清洁清洁件的过程中，可更好的保持周侧地板和环境的干燥，也可更好的保护清洁基座100本身。

实施例2

本实施例提供一种清洁基站，该清洁基站包括上述的清洁基座100、以及喷水机构(未在附图中示出)，当清洁设备的清洁件容设于清洁基座100的清洗槽11内后，喷水机构朝向清洗件喷洒清洁液，同时清洁设备可开启工作，使得清洁件可相对于清洗槽11转动，使得清洁液可充分浸湿清洁件，清洁件的清洗效果更好，而且在清洁基座100的挡液结构2的作用下，可使得清洁件在清洗的过程中，保持清洁基站周侧的干燥，用户使用体验感更好。

显然，上述所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，可以做出其它不同形式的变化或变动，都应当属于本实用新型保护的范围。

Claims (10)

1.一种清洁基座，其特征在于，包括：

基座本体，所述基座本体上设有清洗槽；

挡液结构，包括围设于所述清洗槽的槽口周侧的挡液件，所述挡液件用于将从所述清洗槽的槽口溅出的液体回挡至所述清洗槽内。

2.如权利要求1所述的清洁基座，其特征在于，所述挡液件包括挡液筋，所述挡液筋至少部分凸出于所述清洗槽的槽口。

3.如权利要求2所述的清洁基座，其特征在于，所述挡液筋呈环状围设于所述清洗槽的槽口周侧、且与所述清洗槽的槽口的形状相适配。

4.如权利要求1至3中任意一项所述的清洁基座，其特征在于，还包括导引槽，所述导引槽设于所述清洗槽的槽口上、且与所述清洗槽相连通。

5.如权利要求4所述的清洁基座，其特征在于，所述基座本体具有导向面，所述清洗槽槽口位于所述导向面上，所述导向面沿所述基座本体呈倾斜设置，以形成有呈相对设置的高位端和低位端，所述清洗槽位于所述导向面的高位端，所述导引槽位于所述高位端和所述低位端之间。

6.如权利要求5所述的清洁基座，其特征在于，所述导向面的低位端以形成进入侧，所述挡液件呈环状围设于所述清洗槽的槽口周侧、且对应所述进入侧的一侧呈敞开设置，所述导引槽位于所述敞开处。

7.如权利要求6所述的清洁基座，其特征在于，所述导向面沿所述基座本体的横向倾斜设置，所述导引槽沿所述基座本体的纵向延伸设置、且至少一端与所述清洗槽连通。

8.如权利要求4所述的清洁基座，其特征在于，所述导引槽设置有多个，多个导引槽沿所述清洗槽的周向布设于所述清洗槽的槽口上。

9.如权利要求8所述的清洁基座，其特征在于，各所述导引槽的至少部分自所述清洗槽的槽口处沿所述清洗槽的径向朝向所述挡液件的方向延伸设置。

10.一种清洁基站，其特征在于，包括如权利要求1至9中任意一项所述的清洁基座。

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