CN217104063U - 化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开一种化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置,包括壳体、下电极组件和第一密封件,壳体的底部具有凸起部,凸起部邻近于壳体的外侧壁,下电极组件与壳体连接围成真空腔,下电极组件与壳体的底部之间留有间隙,间隙位于凸起部背离壳体的外侧壁的一侧,第一密封件夹设于凸起部与下电极组件之间。在外界气压的作用下,壳体向真空腔侧倾斜时,通过在下电极组件和壳体底部之间设置的间隙,为壳体提供了倾倒空间,避免了壳体直接挤压到下电极组件,对下电极组件造成破坏。同时多个第一密封件,防止在高温作用下,单个第一密封件失效后,外界空气能够从壳体和下电极组件之间进入真空腔,多个第一密封件的设置,提高了密封性。

Description

化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置
技术领域
本实用新型涉及显示面板技术领域,尤其涉及一种化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置。
背景技术
在显示装置领域,镀膜工艺是一种利用化学反应方式,将反应物生成固态产物,并沉积在基片表面的技术。而镀膜工艺需要利用化学气相沉积装置完成,为保证化学气相沉积装置壳体内的腔室是真空状态,需要对电极和壳体之间进行密封,现有的化学气相沉积装置的密封结构如图1所示,其中壳体1′和下电极组件3′之间通过第一密封件4′密封,壳体1′与上电极2′之间通过第二密封件5′密封。现有技术存在以下缺陷:由于壳体1′内的腔室处于真空状态,在外界气压的作用下,壳体1′容易向真空腔侧倾斜,从而使壳体1′挤压破坏下电极组件3′,同时壳体1′内的腔室还处于高温状态,第一密封件4′在高温下容易失效,单个第一密封件4′的设置,使得第一密封件4′一旦失效,会导致外界空气进入腔室。
实用新型内容
本实用新型的目的在于:提供一种化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置,保证电极与壳体之间的密封性,且避免壳体倾斜破坏电极。
为达上述目的,本实用新型采用以下技术方案:
第一方面,提供一种化学气相沉积装置的密封结构,包括:
壳体,所述壳体的底部具有凸起部,所述凸起部邻近于所述壳体的外侧壁;
下电极组件,所述下电极组件与所述壳体连接围成真空腔,所述下电极组件与所述壳体的底部之间留有间隙,所述间隙位于所述凸起部背离所述壳体的外侧壁的一侧;
多个第一密封件,所述第一密封件夹设于所述凸起部与下电极组件之间。
作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案,相邻两个第一密封件之间设置有连接板,所述连接板具有波纹部。
作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案,还包括上电极,所述上电极连接于所述壳体,所述上电极与所述壳体之间设置有第二密封件。
作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案,所述壳体的内侧壁凸出形成有台阶,所述第二密封件设置在所述台阶上。
作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案,还包括:
扩散器,所述扩散器设置于所述真空腔内,且可拆卸连接于所述上电极。
填充块,所述填充块设置于所述扩散器、所述壳体和所述上电极围成的空间内,所述填充块能够保证真空腔内的密封性。
作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案,所述壳体上设置有支撑板,所述支撑板能够支撑所述填充块。
作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案,所述支撑板的一端与所述壳体的底部之间通过螺栓连接,所述支撑板的另一端朝向所述真空腔的中心延伸,所述填充块的下端与所述支撑板的上表面抵接。
作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案,所述支撑板设置有多块,每块都能转动至间隙内,便于所述填充块的取出。
作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案,所述螺栓的螺杆上套设有弹性件,所述弹性件的一端抵接于所述支撑板的下表面,另一端抵接于所述螺栓的头部。
第二方面,提供一种化学气相沉积装置,包括如上所述的化学气相沉积装置的密封结构。
本实用新型的有益效果为:通过在壳体底部邻近于壳体的外侧壁处设置凸起部,将下电极组件与壳体连接时,下电极组件与凸起部背离壳体的外侧壁的一侧之间留有一定的间隙,在外界气压的作用下,壳体向真空腔侧倾斜时,这一间隙为壳体提供了倾倒空间,避免了壳体直接挤压到下电极组件,对下电极组件造成破坏。同时在下电极组件和凸起部的连接处设置多个第一密封件,防止在高温作用下,单个第一密封件失效后,外界空气能够从壳体和下电极组件之间进入真空腔,多个第一密封件的设置,提高了下电极组件和壳体之间的密封性。
附图说明
下面根据附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。
图1为现有的化学气相沉积装置的密封结构示意图。
图2为本实用新型的化学气相沉积装置的结构示意图。
图3为本实用新型的支撑板与壳体的连接结构示意图。
图1中:
1′、壳体;2′、上电极;3′、下电极、4′、第一密封件;5′、第二密封件。
图2-图3中:
1、壳体;11、真空腔;12、凸起部;13、支撑板;131、弹性件;2、上电极;3、下电极组件;4、第一密封件;5、第二密封件;6、扩散器;7、填充块;8、扩散板。
具体实施方式
参考下面结合附图详细描述的实施例,本实用新型的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而,本实用新型不限于以下公开的实施例,而是可以以各种不同的形式来实现,提供本实施例仅仅是为了完成本实用新型的公开并且使本领域技术人员充分地了解本实用新型的范围,并且本实用新型仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。
以下,参照附图来详细描述本实用新型。
如图2所示,本实用新型实施例所提供的化学气相沉积装置的密封结构,包括壳体1、上电极2和下电极组件3,其中壳体1、上电极2和下电极组件3围成真空腔11,具体地,壳体1的底部具有凸起部12,凸起部12邻近于壳体1的外侧壁,下电极组件3与壳体1的凸起部12连接,以使下电极组件3与壳体1的底部之间留有间隙L1,间隙L1位于凸起部12背离壳体1的外侧壁的一侧,在外界气压的作用下,壳体1向真空腔11侧倾斜时,这一间隙L1为壳体1提供了倾倒空间,避免了壳体1直接挤压到下电极组件3,对下电极组件3造成破坏。
为保证真空腔11的密封性,下电极组件3和壳体1的凸起部12之间夹设有多个第一密封件4,防止在高温作用下,单个第一密封件4失效后,外界空气能够从壳体1和下电极组件3之间进入真空腔11,多个第一密封件4的设置,提高了下电极组件3和壳体1之间的密封性。
具体的,本实施例所提供的第一密封件4为O型密封圈,于其他实施例中也可以为其它结构的密封圈,在此不做过多限制,同时本实施例所提供的第一密封件4为两个,于其他实施例中,第一密封件4的数量可以为更多个,以保证下电极组件3和壳体1之间的密封性。进一步地,相邻两个第一密封件4之间设置有连接板,连接板上具有波纹部,连接板的设置使得第一密封件4拿取方便,能够一同安装。
进一步地,上电极2连接于壳体1,为保证上电极2和壳体1之间设置有第二密封件5,第二密封件5的数量也可以设置为多个,保证上电极2和壳体1之间的密封性。具体地,壳体1的内侧壁凸出形成有台阶,第二密封件5设置在台阶上,上电极2的自身重力作用于第二密封件5,能够保证第二密封件5的密封性良好。
本实用新型实施例所提供的化学气相沉积装置的密封结构还包括填充块7,填充块7设置在由扩散器6、壳体1和上电极2之间围成的空间内,填充块7与该空间的结构大小均吻合,可以进一步避免外界气体进入,提高真空腔11的密封性。具体地,如图3所示,壳体1底部设置有支撑板13,支撑板13能够支撑填充块7,具体地,支撑板13的一端与壳体1的底部之间通过螺栓连接,支撑板13的另一端朝向真空腔11的中心延伸,填充块7的下端与支撑板13的上表面抵接,实现支撑板13对填充块7的支撑。
进一步地,本实施例所提供的支撑板13为多块,每块支撑板13均转动连接于壳体1的底部,使得每个支撑板13均能转动至下电极组件3与壳体1的底部的间隙L1中,转动设置的支撑板13方便填充块7的取放。具体地,连接支撑板13和壳体1的螺栓的螺杆上套设有弹性件131,弹性件131的一端抵接于支撑板13的下表面,另一端抵接于螺栓的头部。当需要转动支撑板13时,按压支撑板13的上表面,即可使支撑板13与壳体1分离,将支撑板13旋转至所需位置后,不再对支撑板13的上表面施加压力,此时在弹性件131复位力的作用下,使支撑板13重新抵接于壳体1底部。
本实施例还提供了一种化学气相沉积装置,包括如上述的化学气相沉积装置的密封结构,还包括扩散器6和扩散板8,其中扩散器6具有安装翻边,安装翻边上开设有安装通孔,上电极2对应安装通孔的位置开设有安装槽,垫片夹设于扩散器6的安装翻边和上电极2之间,且垫片上正对安装通孔和安装槽的位置开设有避让孔,连接件能够依次穿过安装通孔、避让孔连接至安装槽,以使扩散器6连接于上电极2。避免了扩散器6和上电极2直接接触,防止扩散器6热膨胀后,扩散器6和上电极2发生相对位移,保证扩散器6与上电极2之间不会产生研磨异物,提高了镀膜质量。
进一步地,由于真空腔11为高温状态,所以垫片除了需要具备耐磨的特性外,还需要具备耐高温的特性,因此,垫片由耐高温、耐磨且硬度低的材料制成。具体地,本实施例所提供的垫片为四氟乙烯(PTFE)垫片,四氟乙烯结合了耐热性、化学惰性、优异的绝缘稳定性以及低摩擦性,具有极大的优势,可以满足本实施例中对垫片的所有性能要求,当然,于其他实施例中,也可以选择聚氯三氟乙烯(PCTFE)、聚偏二氟乙烯(PVDF)等其他具有耐高温、耐磨且硬度低这些特性的材料制成垫片,在此不作过多限制。
扩散板8设置于扩散器6和上电极2围成的腔室中,并且扩散板8与上电极2可拆卸连接,扩散板8为多孔结构,能够先将真空腔11中的反应物扩散均匀。具体地,扩散板8和上电极2螺栓连接,更具体地,扩散板8上开设有连接通孔,螺栓能够通过连接通孔将扩散板8连接于上电极2,同样地,本实施例中的连接通孔设置有多个,多个连接通孔的设置保证扩散板8与上电极2之间连接的稳定性。
尽管上面已经参考附图描述了本实用新型的实施例,但是本实用新型不限于以上实施例,而是可以以各种形式制造,并且本领域技术人员将理解,在不改变本实用新型的技术精神或基本特征的情况下,可以以其他特定形式来实施本实用新型。因此,应该理解,上述实施例在所有方面都是示例性的而不是限制性的。

Claims (10)

1.一种化学气相沉积装置的密封结构,其特征在于,包括:
壳体,所述壳体的底部具有凸起部,所述凸起部邻近于所述壳体的外侧壁;
下电极组件,所述下电极组件与所述壳体连接围成真空腔,所述下电极组件与所述壳体的底部之间留有间隙,所述间隙位于所述凸起部背离所述壳体的外侧壁的一侧;
多个第一密封件,所述第一密封件夹设于所述凸起部与下电极组件之间。
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置的密封结构,其特征在于,相邻两个第一密封件之间设置有连接板,所述连接板具有波纹部。
3.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置的密封结构,其特征在于,还包括上电极,所述上电极连接于所述壳体,所述上电极与所述壳体之间设置有第二密封件。
4.根据权利要求3所述的化学气相沉积装置的密封结构,其特征在于,所述壳体的内侧壁凸出形成有台阶,所述第二密封件设置在所述台阶上。
5.根据权利要求3所述的化学气相沉积装置的密封结构,其特征在于,还包括:
扩散器,所述扩散器设置于所述真空腔内,且可拆卸连接于所述上电极;
填充块,所述填充块设置于所述扩散器、所述壳体和所述上电极围成的空间内,所述填充块能够保证真空腔内的密封性。
6.根据权利要求5所述的化学气相沉积装置的密封结构,其特征在于,所述壳体上设置有支撑板,所述支撑板能够支撑所述填充块。
7.根据权利要求6所述的化学气相沉积装置的密封结构,其特征在于,所述支撑板的一端与所述壳体的底部之间通过螺栓连接,所述支撑板的另一端朝向所述真空腔的中心延伸,所述填充块的下端与所述支撑板的上表面抵接。
8.根据权利要求6所述的化学气相沉积装置的密封结构,其特征在于,所述支撑板设置有多块,每块所述支撑板都能转动至所述间隙内,便于所述填充块的取出。
9.根据权利要求7所述的化学气相沉积装置的密封结构,其特征在于,所述螺栓的螺杆上套设有弹性件,所述弹性件的一端抵接于所述支撑板的下表面,另一端抵接于所述螺栓的头部。
10.一种化学气相沉积装置,其特征在于,包括如权利要求1-9任一项所述的化学气相沉积装置的密封结构。
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