CN217041618U - 晶片抛光剂防聚集过滤装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种晶片抛光剂防聚集过滤装置。它解决了现有技术中抛光剂过滤时容易聚集凝结产生结晶的问题。它包括进液滤筒，进液滤筒一端设有装配筒体，另一端连接有分流结构，进液滤筒周向内侧设有转动式过滤结构，且转动式过滤结构连接有设置装配筒体上且能够驱动转动式过滤结构在进液滤筒内进行周向转动的转动联动机构，进液滤筒内设有液体顶压组件，且液体顶压组件周向两侧与进液滤筒之间设有滑动导向机构，液体顶压组件通过设置在装配筒体内的顶压驱动组件驱动。本实用新型的优点在于：能够有效防止抛光剂在过滤的情况下产生聚集结晶的情况，使用效果好。

Description

晶片抛光剂防聚集过滤装置

技术领域

本实用新型涉及过滤设备技术领域，具体涉及一种晶片抛光剂防聚集过滤装置。

背景技术

蓝宝石是一种氧化铝单晶材料，具有非常高的硬度，是目前 LED行业的普遍采用的衬底材料，用作氮化镓等外延生产的基质以制造蓝光等发光二极管。在进行蓝宝石加工过程中需要利用抛光剂进行抛光处理，以确保蓝宝石晶片的规整性。传统抛光剂分流装置，是通过单一管路的将抛光剂供给至抛光布，抛光剂在抛光布上分布性以及控制性差，影响加工质量，且抛光剂在生产过程中会含有一些杂质，从而导致蓝宝石晶片厚度一致性、平整度、表面质量都比较差；除此之外，在抛光剂进行过滤的过程中，容易产生聚集凝结形成晶体，在进行抛光时容易造成晶片表面粗糙的情况，使用效果不佳。

为了解决现有技术存在的不足，人们进行了长期的探索，提出了各式各样的解决方案。例如，中国专利文献公开了一种抛光液分流装置[CN201920106425.9]，它包括过滤箱体、进液管、拉环、盖板、第一固定板、第二固定板、滤筒、滤孔、电机、转轴、分流管、控制阀、分流板和喷孔；过滤箱体的上端开口处设置有盖板；过滤箱体的顶部侧壁上设置有进料口，进料口处安装有进液管；滤筒位于第一固定板和第二固定板内，并分别与第一固定板和第二固定板转动连接；滤筒的外周面上等间距设置有滤孔；转轴的顶端与滤筒连接，转轴的底端与电机的输出端连接；过滤箱体外周面的底部上均匀设置有多组分流出口；分流管上安装有控制阀；且分流板的底面均匀设置有多组喷孔。

上述方案在一定程度上解决了现有技术中抛光剂的抛光方式不佳而且容易影响抛光质量的问题，但是该方案依然存在着诸多不足，例如：抛光剂进行过滤的过程中，容易产生聚集凝结形成晶体，在进行抛光时容易造成晶片表面粗糙的情况，使用效果不佳。

发明内容

本实用新型的目的是针对上述问题，提供一种设计合理、使用效果好的晶片抛光剂防聚集过滤装置。

为达到上述目的，本实用新型采用了下列技术方案：本晶片抛光剂防聚集过滤装置，包括进液滤筒，进液滤筒一端设有装配筒体，另一端连接有分流结构，进液滤筒周向内侧设有转动式过滤结构，且转动式过滤结构连接有设置装配筒体上且能够驱动转动式过滤结构在进液滤筒内进行周向转动的转动联动机构，进液滤筒内设有液体顶压组件，且液体顶压组件周向两侧与进液滤筒之间设有滑动导向机构，液体顶压组件通过设置在装配筒体内的顶压驱动组件驱动。通过在进液滤筒内设置转动式过滤结构，当进行抛光液过滤时，利用转动联动组件驱动转动式过滤结构进行转动过滤，从而减少抛光剂聚集凝结产生结晶的情况，同时，利用顶压驱动区间驱动液体顶压组件对抛光剂进行顶压过滤，提高过滤速度，优化了过滤效果，延长了滤芯寿命，而且分流结构的设置能够有效减少晶片划伤，使用效果好。

在上述的晶片抛光剂防聚集过滤装置中，进液滤筒包括防护外筒体，防护外筒体周向内侧设有过滤内筒体，且过滤内筒体与防护外筒体之间形成导向间隙，过滤内筒体周向内侧形成过滤腔，且防护外筒体设有与过滤腔相互连通的进液管体，进液管体外壁且位于导向间隙内设有第一接近开关，且导向间隙远离进液管体的一端设有第二接近开关。设置第一接近开关和第二接近开关可以对顶压盘体的顶压行程进行限位。

在上述的晶片抛光剂防聚集过滤装置中，转动式过滤结构包括转动搅拌盘体，转动搅拌盘体一侧设有若干呈垂直设置的搅拌管体，且搅拌管体周向设有若干进液口，转动搅拌盘体内腔中设有滤网，且转动搅拌盘体远离滤网的一侧设有若干等距设置的分流漏斗。当进行过滤时，转动搅拌盘体转动并带动搅拌管体同步转动，且从而实现对抛光剂的动态过滤，有效防止聚集。

在上述的晶片抛光剂防聚集过滤装置中，过滤内筒体周向内壁设有环形定位凹槽，转动搅拌盘体周向转动定位于环形定位凹槽内从而将过滤腔分割为增压腔和滤液腔。这样设置可以使转动搅拌盘体在同一位置进行无限转动，并且提高了转动稳定性。

在上述的晶片抛光剂防聚集过滤装置中，转动联动机构包括固定设置装配筒体周向内侧的转动驱动电机，转动驱动电机通过联动杆体与转动搅拌盘体连接，且进液滤筒一端具有密封定位盖体，密封定位盖体中设有可供联动杆体穿过的穿入孔，且穿入孔一侧且位于联动杆体周向外侧设有密封盘体。密封盘体可以防止抛光剂溢出，增强密封效果。

在上述的晶片抛光剂防聚集过滤装置中，液体顶压组件包括顶压盘体，顶压盘体朝向转动式过滤结构的一侧具有顶压槽，且另一端设有与顶压驱动组件输出端连接的连接筒体，顶压盘体中部设有杆体定位通孔，滑动导向机构对称设置在顶压盘体两侧。顶压槽的设置能够有效提高顶压效果。

在上述的晶片抛光剂防聚集过滤装置中，顶压驱动组件包括一端与连接筒体固定连接的联动推杆，联动推杆另一端与设置在装配筒体内的滑动连接环体相连，且滑动连接环体周向两侧通过轴向设置在装配筒体上的滑动联动组件与位于装配筒体远离进液滤筒一端的顶压气缸连接。顶压气缸带动滑动联动组件移动从而使滑动连接环体带动联动推杆同步移动，联动效果好。

在上述的晶片抛光剂防聚集过滤装置中，滑动联动组件包括设置在装配筒体上的滑动连接槽，且滑动连接槽内滑动设有滑动连接块，滑动连接块内壁通过联动块体与滑动连接环体相连，外壁通过连接槽连接有顶压框体，顶压框体与顶压气缸输出端连接。这样设置能够有效提高滑动稳定性。

在上述的晶片抛光剂防聚集过滤装置中，滑动导向机构包括与顶压盘体周向外壁固定连接且位于过滤腔内的内筒体定位块，内筒体定位块通过连接块体连接有位于导向间隙内的外筒体定位块，且内筒体定位块外壁且位于连接块体两侧设有导向内滑块，外筒体定位块内壁两侧设有导向外滑块且外侧设有定位滑块，过滤内筒体内壁设有可供导向内滑块插入的内导向滑槽，且过滤内筒体外壁设有可供导向外滑块插入的外导向滑槽，防护外筒体内壁设有可供定位滑块插入的连接滑槽。滑动导向机构的设置使顶压盘体在移动顶压的过程中能够保持水平状态，防止出现倾斜造成顶压作用力不均匀的情况。

在上述的晶片抛光剂防聚集过滤装置中，分流结构包括设置在连接套体，连接套体周向内侧设有若干喷管，喷管连接有滤液收集管，且滤液收集管一端设置在滤液腔，另一端通过分流仓与喷管相连。滤液收集管的设置可以多过滤后抛光剂进行集中收集分均匀分配至喷管，提高抛光均匀效果。

与现有的技术相比，本实用新型的优点在于：设计合理、操作简单，使用时，通过在过滤腔内设置转动搅拌盘体，并且在转动搅拌盘体上设置具有进液口的搅拌管体，在进行过滤时，通过转动驱动电机带动转动搅拌盘体及搅拌管体同步周向转动过滤，有效减少抛光剂的聚集，同时，通过顶压气缸推动顶压盘体移动对抛光剂的过滤进行加速，提高喷管压力，优化了过滤效果，延长了滤芯寿命，而且分流结构的设置有效减少了晶片划伤的情况，防护效果好。

附图说明

图1是本实用新型的整体结构剖视图；

图2是图1的A处结构放大图；

图3是本实用新型中的顶压盘体和滑动导向机构连接时的结构示意图；

图4是图3的剖视图；

图5是本实用新型中的进液滤筒结构示意图；

图6是本实用新型中装配筒体结构示意图。

图中，进液滤筒1、装配筒体11、防护外筒体12、过滤内筒体13、导向间隙14、过滤腔15、增压腔151、滤液腔152、进液管体16、第一接近开关17、第二接近开关18、密封定位盖体19、穿入孔191、密封盘体192、分流结构2、连接套体21、喷管22、滤液收集管23、分流仓24、转动式过滤结构3、转动搅拌盘体31、搅拌管体32、进液口33、滤网34、分流漏斗35、环形定位凹槽 36、转动联动机构4、转动驱动电机41、联动杆体42、液体顶压组件5、顶压盘体51、顶压槽52、连接筒体53、杆体定位通孔 54、滑动导向机构6、内筒体定位块61、连接块体62、导向内滑块63、导向外滑块64、定位滑块65、内导向滑槽66、外导向滑槽67、连接滑槽68、外筒体定位块69、顶压驱动组件7、联动推杆71、滑动连接环体72、顶压气缸73、滑动联动组件8、滑动连接槽81、滑动连接块82、联动块体83、连接槽84、顶压框体85。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步详细的说明。

如图1-6所示，本晶片抛光剂防聚集过滤装置，包括进液滤筒1，进液滤筒1一端设有装配筒体11，另一端连接有分流结构 2，进液滤筒1周向内侧设有转动式过滤结构3，且转动式过滤结构3连接有设置装配筒体11上且能够驱动转动式过滤结构3在进液滤筒1内进行周向转动的转动联动机构4，进液滤筒1内设有液体顶压组件5，且液体顶压组件5周向两侧与进液滤筒1之间设有滑动导向机构6，液体顶压组件5通过设置在装配筒体11内的顶压驱动组件7驱动。过滤时，利用转动联动机构4带动转动式过滤结构3对抛光剂进行转动搅拌过滤，并且通过顶压驱动组件7驱动液体顶压组件5对抛光剂进行顶压，加快过滤速度，并且增大分流结构2的抛光压力。

其中，进液滤筒1包括防护外筒体12，防护外筒体12周向内侧设有过滤内筒体13，且过滤内筒体13与防护外筒体12之间形成导向间隙14，过滤内筒体13周向内侧形成过滤腔15，且防护外筒体12设有与过滤腔15相互连通的进液管体16，进液管体 16外壁且位于导向间隙14内设有第一接近开关17，且导向间隙 14远离进液管体16的一端设有第二接近开关18。进液管体16 上设有电磁阀，当顶压盘体51靠近第一接近开关17时，电磁阀开启，进液管体16开始向过滤腔15输送抛光剂，当顶压盘体51 靠近第二接近开关18时，电磁阀开启关闭，切断抛光剂的输入，且第二接近开关18的位置与搅拌管体32端部保持齐平。

可见地，转动式过滤结构3包括转动搅拌盘体31，转动搅拌盘体31一侧设有若干呈垂直设置的搅拌管体32，且搅拌管体32 周向设有若干进液口33，转动搅拌盘体31内腔中设有滤网34，且转动搅拌盘体31远离滤网34的一侧设有若干等距设置的分流漏斗35。抛光剂通过搅拌管体32上的进液口33进入转动搅拌盘体31内腔，过滤后经过分流漏斗35流入滤液腔152，这样不仅能够减少聚集而且能够进行分流过滤，减少滤网34压力。

进一步地，过滤内筒体13周向内壁设有环形定位凹槽36，转动搅拌盘体31周向转动定位于环形定位凹槽36内从而将过滤腔15分割为增压腔151和滤液腔152。

显然地，转动联动机构4包括固定设置装配筒体11周向内侧的转动驱动电机41，转动驱动电机41通过联动杆体42与转动搅拌盘体31连接，且进液滤筒1一端具有密封定位盖体19，密封定位盖体19中设有可供联动杆体42穿过的穿入孔191，且穿入孔191一侧且位于联动杆体42周向外侧设有密封盘体192。密封盘体192用于保持增压腔151的密封状态。

具体地，液体顶压组件5包括顶压盘体51，顶压盘体51朝向转动式过滤结构3的一侧具有顶压槽52，且另一端设有与顶压驱动组件7输出端连接的连接筒体53，顶压盘体51中部设有杆体定位通孔54，滑动导向机构6对称设置在顶压盘体51两侧。

更进一步地，顶压驱动组件7包括一端与连接筒体53固定连接的联动推杆71，联动推杆71另一端与设置在装配筒体11内的滑动连接环体72相连，且滑动连接环体72周向两侧通过轴向设置在装配筒体11上的滑动联动组件8与位于装配筒体11远离进液滤筒1一端的顶压气缸73连接。滑动连接环体72呈中空状，且内径大于转动驱动电机41的直径，当滑动连接环体72移动时，内壁与转动驱动电机41外壁之间不产生接触。

更具体地，滑动联动组件8包括设置在装配筒体11上的滑动连接槽81，且滑动连接槽81内滑动设有滑动连接块82，滑动连接块82内壁通过联动块体83与滑动连接环体72相连，外壁通过连接槽84连接有顶压框体85，顶压框体85与顶压气缸73输出端连接。

详细地，滑动导向机构6包括与顶压盘体51周向外壁固定连接且位于过滤腔15内的内筒体定位块61，内筒体定位块61通过连接块体62连接有位于导向间隙14内的外筒体定位块69，且内筒体定位块61外壁且位于连接块体62两侧设有导向内滑块63，外筒体定位块69内壁两侧设有导向外滑块64且外侧设有定位滑块65，过滤内筒体13内壁设有可供导向内滑块63插入的内导向滑槽66，且过滤内筒体13外壁设有可供导向外滑块64插入的外导向滑槽67，防护外筒体12内壁设有可供定位滑块65插入的连接滑槽68。导向间隙14内且位于两个导向外滑块64之间填充有密封型材，且导向外滑块64内壁与过滤内筒体13外壁相互接触，外壁与防护外筒体12内壁接触，且密封型材端部分别与导向外滑块64两端抵靠设置，这样可以对增压腔151形成分隔，且防止位于顶压盘体一侧用于进液的腔体内的抛光剂进入顶压盘体51另一侧，形成封闭，即使有少量流入也不影响增压效果。

优选地，分流结构2包括设置在连接套体21，连接套体21 周向内侧设有若干喷管22，喷管22连接有滤液收集管23，且滤液收集管23一端设置在滤液腔152，另一端通过分流仓24与喷管22相连。

综上所述，本实施例的原理在于：使用时，顶压盘体51位于第一接近开关17出，此时，电磁阀处于开启状态，通过进液管体 16向增压腔151内输送抛光剂，由于抛光剂的逐渐增多产生的顶压作用力使顶压盘体51朝向第二接近开关18靠近，当顶压盘体 51到达第二接近开关18时，电磁阀关闭，停止抛光剂的输送，此时，通过转动驱动电机41带动转动搅拌盘体31及搅拌管体32 进行转动搅拌和分流过滤，减少抛光剂的聚集结晶，并通过顶压气缸73推动顶压盘体51朝向搅拌管体32方向移动对抛光剂进行顶压，进一步防止抛光剂堆积形成凝结，过滤后的抛光剂经过分流结构2进行分流后排出至外部；当顶压盘体51到达第一接近开关17时，电磁阀开启，开始输送抛光剂，周而复始。

本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。

尽管本文较多地使用了进液滤筒1、装配筒体11、防护外筒体12、过滤内筒体13、导向间隙14、过滤腔15、增压腔151、滤液腔152、进液管体16、第一接近开关17、第二接近开关18、密封定位盖体19、穿入孔191、密封盘体192、分流结构2、连接套体21、喷管22、滤液收集管23、分流仓24、转动式过滤结构 3、转动搅拌盘体31、搅拌管体32、进液口33、滤网34、分流漏斗35、环形定位凹槽36、转动联动机构4、转动驱动电机41、联动杆体42、液体顶压组件5、顶压盘体51、顶压槽52、连接筒体 53、杆体定位通孔54、滑动导向机构6、内筒体定位块61、连接块体62、导向内滑块63、导向外滑块64、定位滑块65、内导向滑槽66、外导向滑槽67、连接滑槽68、外筒体定位块69、顶压驱动组件7、联动推杆71、滑动连接环体72、顶压气缸73、滑动联动组件8、滑动连接槽81、滑动连接块82、联动块体83、连接槽84、顶压框体85等术语，但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便地描述和解释本实用新型的本质；把它们解释成任何一种附加的限制都是与本实用新型精神相违背的。

Claims (10)

1.一种晶片抛光剂防聚集过滤装置，包括进液滤筒(1)，所述的进液滤筒(1)一端设有装配筒体(11)，另一端连接有分流结构(2)，其特征在于，所述的进液滤筒(1)周向内侧设有转动式过滤结构(3)，且转动式过滤结构(3)连接有设置装配筒体(11)上且能够驱动转动式过滤结构(3)在进液滤筒(1)内进行周向转动的转动联动机构(4)，所述的进液滤筒(1)内设有液体顶压组件(5)，且液体顶压组件(5)周向两侧与进液滤筒(1)之间设有滑动导向机构(6)，所述的液体顶压组件(5)通过设置在装配筒体(11)内的顶压驱动组件(7)驱动。

2.根据权利要求1所述的晶片抛光剂防聚集过滤装置，其特征在于，所述的进液滤筒(1)包括防护外筒体(12)，所述的防护外筒体(12)周向内侧设有过滤内筒体(13)，且过滤内筒体(13)与防护外筒体(12)之间形成导向间隙(14)，所述的过滤内筒体(13)周向内侧形成过滤腔(15)，且防护外筒体(12)设有与过滤腔(15)相互连通的进液管体(16)，所述的进液管体(16)外壁且位于导向间隙(14)内设有第一接近开关(17)，且导向间隙(14)远离进液管体(16)的一端设有第二接近开关(18)。

3.根据权利要求2所述的晶片抛光剂防聚集过滤装置，其特征在于，所述的转动式过滤结构(3)包括转动搅拌盘体(31)，所述的转动搅拌盘体(31)一侧设有若干呈垂直设置的搅拌管体(32)，且搅拌管体(32)周向设有若干进液口(33)，所述的转动搅拌盘体(31)内腔中设有滤网(34)，且转动搅拌盘体(31)远离滤网(34)的一侧设有若干等距设置的分流漏斗(35)。

4.根据权利要求3所述的晶片抛光剂防聚集过滤装置，其特征在于，所述的过滤内筒体(13)周向内壁设有环形定位凹槽(36)，所述的转动搅拌盘体(31)周向转动定位于环形定位凹槽(36)内从而将过滤腔(15)分割为增压腔(151)和滤液腔(152)。

5.根据权利要求4所述的晶片抛光剂防聚集过滤装置，其特征在于，所述的转动联动机构(4)包括固定设置装配筒体(11)周向内侧的转动驱动电机(41)，所述的转动驱动电机(41)通过联动杆体(42)与转动搅拌盘体(31)连接，且进液滤筒(1)一端具有密封定位盖体(19)，所述的密封定位盖体(19)中设有可供联动杆体(42)穿过的穿入孔(191)，且穿入孔(191)一侧且位于联动杆体(42)周向外侧设有密封盘体(192)。

6.根据权利要求2所述的晶片抛光剂防聚集过滤装置，其特征在于，所述的液体顶压组件(5)包括顶压盘体(51)，所述的顶压盘体(51)朝向转动式过滤结构(3)的一侧具有顶压槽(52)，且另一端设有与顶压驱动组件(7)输出端连接的连接筒体(53)，所述的顶压盘体(51)中部设有杆体定位通孔(54)，所述的滑动导向机构(6)对称设置在顶压盘体(51)两侧。

7.根据权利要求6所述的晶片抛光剂防聚集过滤装置，其特征在于，所述的顶压驱动组件(7)包括一端与连接筒体(53)固定连接的联动推杆(71)，所述的联动推杆(71)另一端与设置在装配筒体(11)内的滑动连接环体(72)相连，且滑动连接环体(72)周向两侧通过轴向设置在装配筒体(11)上的滑动联动组件(8)与位于装配筒体(11)远离进液滤筒(1)一端的顶压气缸(73)连接。

8.根据权利要求7所述的晶片抛光剂防聚集过滤装置，其特征在于，所述的滑动联动组件(8)包括设置在装配筒体(11)上的滑动连接槽(81)，且滑动连接槽(81)内滑动设有滑动连接块(82)，所述的滑动连接块(82)内壁通过联动块体(83)与滑动连接环体(72)相连，外壁通过连接槽(84)连接有顶压框体(85)，所述的顶压框体(85)与顶压气缸(73)输出端连接。

9.根据权利要求6所述的晶片抛光剂防聚集过滤装置，其特征在于，所述的滑动导向机构(6)包括与顶压盘体(51)周向外壁固定连接且位于过滤腔(15)内的内筒体定位块(61)，所述的内筒体定位块(61)通过连接块体(62)连接有位于导向间隙(14)内的外筒体定位块(69)，且内筒体定位块(61)外壁且位于连接块体(62)两侧设有导向内滑块(63)，所述的外筒体定位块(69)内壁两侧设有导向外滑块(64)且外侧设有定位滑块(65)，所述的过滤内筒体(13)内壁设有可供导向内滑块(63)插入的内导向滑槽(66)，且过滤内筒体(13)外壁设有可供导向外滑块(64)插入的外导向滑槽(67)，所述的防护外筒体(12)内壁设有可供定位滑块(65)插入的连接滑槽(68)。

10.根据权利要求1所述的晶片抛光剂防聚集过滤装置，其特征在于，所述的分流结构(2)包括设置在连接套体(21)，所述的连接套体(21)周向内侧设有若干喷管(22)，所述的喷管(22)连接有滤液收集管(23)，且滤液收集管(23)一端设置在滤液腔(152)，另一端通过分流仓(24)与喷管(22)相连。

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