CN216988138U - 喷洒结构及喷洒装置 - Google Patents

Abstract

本申请实施例公开了一种喷洒结构及喷洒装置，用于向待处理样品喷洒流体。喷洒结构包括第一管体以及第二管体，第一管体具有中轴线，第一管体包括第一管侧壁、连接于第一管侧壁一端的第一管端壁，第一管侧壁与第一管端壁围设形成第一腔室，第一管侧壁靠近第一管端壁的一端开设有至少一个第一通孔，第一管端壁开设有至少一个第二通孔，第二管体至少部分位于第一腔室，第二管体的一端与第一管端壁连接。通过该设计，能够有效减少喷洒至待处理样品表面的流体分布不均匀的现象。

Description

喷洒结构及喷洒装置

技术领域

本申请涉及半导体加工设备技术领域，尤其涉及一种喷洒结构及喷洒装置。

背景技术

半导体加工设备在对待处理样品进行加工过程中，常需要通过喷洒结构向待处理样品表面喷洒流体，喷洒结构喷洒至待处理样品表面的流体的均匀性非常重要，直接影响了待处理样品的质量。

实用新型内容

本申请实施例提供一种喷洒结构及喷洒装置，能够有效减少喷洒至待处理样品表面的流体分布不均匀的现象。

第一方面，本申请实施例提供了一种喷洒结构，用于向待处理样品喷洒流体；喷洒结构包括第一管体以及第二管体，第一管体具有中轴线，第一管体包括第一管侧壁、连接于第一管侧壁一端的第一管端壁，第一管侧壁与第一管端壁围设形成第一腔室，第一管侧壁靠近第一管端壁的一端开设有至少一个第一通孔，第一管端壁开设有至少一个第二通孔，第二管体至少部分位于第一腔室，第二管体的一端与第一管端壁连接。

基于本申请实施例的喷洒结构，流体进入第一管体，经由第一管侧壁上的第一通孔以及第一管端壁上的第二通孔喷洒至待处理样品表面，流体进入第二管体，且第一管体与第一管端壁连接，流体经由第一管端壁上的第二通孔喷洒至待处理样品表面，流体通过第一通孔以及第二通孔形成多个分散的流束喷洒至待处理样品表面，增大了流经待处理样品表面的喷洒区域，有效提高了待处理样品表面流体分布的均匀性；通过第一管体以及第二管体的设计，使得流经第一管体的流体与流经第二管体的流体互不干扰，相较于现有技术中仅设有一个管体的设计，有效减少了流体在流动过程中由于流量变化而导致从第一通孔、第二通孔流出的流体的流量不同，从而导致待处理样品表面的流体分布不均匀的现象。

在其中一些实施例中，第一管侧壁包括第一侧壁以及第二侧壁，第一侧壁与第一管端壁连接，第二侧壁与第一侧壁远离第一管端壁的一端连接，其中，第一侧壁过中轴线所在平面的截面包括靠近中轴线的第一边缘线，第一边缘线相对中轴线倾斜，和/或第一侧壁过中轴线所在平面的截面包括远离中轴线的第二边缘线，第二边缘线相对中轴线倾斜。

基于上述实施例，通过把第一边缘线设置成相对中轴线倾斜，和/或，第二边缘线设置成相对中轴线倾斜，且第一侧壁与第一管端面连接，使得第一侧壁与第一管端壁围设形成莲蓬状，增加了第一侧壁可设置第一通孔、第一管端壁可设置第二通孔的空间，使得流体通过第一通孔以及第二通孔可以分散成更多的流束向待处理样品表面喷洒，增加了流束喷洒至待处理样品表面时所形成的接触点的数量，从而有效提高了待处理样品表面的流体的分布均匀性。

在其中一些实施例中，第一侧壁开设有第一通孔，和/或第二侧壁开设有第一通孔。

基于上述实施例，通过在第一侧壁开设第一通孔，和/或，在第二侧壁开设第一通孔，增加了第一通孔的数量，使得流体通过第一管侧壁上的第一通孔可以分散形成更多分散的流束，增大了流经待处理样品表面的喷洒区域，有效减少了待处理样品表面的边缘的流体较少而造成待处理样品表面的流体分布不均匀的现象，进一步提高了待处理样品表面流体分布的均匀性。

在其中一些实施例中，第一通孔的数量为多个，多个第一通孔环绕中轴线等间隔分布形成至少一个第一导流圈，多个第一导流圈沿平行于中轴线的方向等间隔排布。

基于上述实施例，多个第一通孔环绕中轴线等间隔分布，多个第一导流圈沿平行于中轴线的方向等间隔排布，使得第一通孔在第一管侧壁上的排布更加均匀，提高了流体经由第一通孔形成的流束的均匀性，从而提高了流体喷洒至待处理样品表面所形成的接触点的分布均匀性，进而提高了喷洒至待处理样品表面的流体的分布均匀性。

在其中一些实施例中，第二通孔的数量为多个，多个第二通孔环绕中轴线等间隔分布形成至少一个第二导流圈，多个第二导流圈在第一管端壁上形成同心圆。

基于上述实施例，第二通孔环绕中轴线等间隔分布形成至少一个第二导流圈，多个第二导流圈在第一管端壁上形成同心圆，使得第二通孔在第一管端壁上的排布更加均匀，提高了流体经由第二通孔形成的流束的均匀性，从而提高了流体喷洒至待处理样品表面所形成的接触点的分布均匀性，进而提高了喷洒至待处理样品表面的流体的分布均匀性。

在其中一些实施例中，第二管体包括围成第二腔室的第二管侧壁，第二管侧壁包括第三侧壁和第四侧壁，第三侧壁与第一管端壁连接，第四侧壁与第三侧壁远离第一管端壁的一端连接，其中，第三侧壁过中轴线所在平面的截面包括靠近中轴线的第三边缘线，第三边缘线相对中轴线倾斜，和/或第三侧壁过中轴线所在平面的截面包括远离中轴线的第四边缘线，第四边缘线相对中轴线倾斜。

基于上述实施例，通过把第三边缘线设置成相对中轴线倾斜，和/或，第四边缘线设置成相对中轴线倾斜，且第三侧壁与第一管端面连接，使得第三侧壁与第一管端壁围设形成莲蓬状，增加了第一管端壁上与第二腔室连通的第二通孔的数量，使得第二腔室内的流体经由第二通孔可形成更多分散的流束，增加了流束喷洒至待处理样品表面时所形成的接触点的数量，有效提高了流体在待处理样品表面的分布均匀性。

在其中一些实施例中，第二管体与第一管端壁一体成型。

基于上述实施例，通过将第二管体与第一管端壁设计成一体式结构，增加了第二管体和第一管端壁之间的连接密封性，减少了第二管体与第一管端壁之间的连接处因有间隙，而使得第一管体里的流体和第二管体的流体经由间隙流通而相互干扰的可能。

第二方面，本申请实施例提供了一种喷洒装置，喷洒装置包括承载台以及上述的喷洒结构，承载台具有承载面，承载面用于承载待处理样品，喷洒结构设置于承载台且可相对承载面转动。

基于本申请实施例中的喷洒装置，通过将喷洒结构设置成可相对承载台的承载面转动，当待处理样品表面的流体分布不均匀时，可根据待处理样品表面的流体的分布规律对应的调整喷洒结构相对承载台的承载面的偏转角度，来提高流体在待处理样品表面的分布均匀性，从而提高待处理样品的合格率。

在其中一些实施例中，喷洒结构的数量为多个，多个喷洒结构沿承载面周向等间隔分布。

基于上述实施例，多个喷洒结构沿承载台的承载面的周向等间隔分布，使得喷洒结构的排布更加均匀，提高了流体经由喷洒结构形成的流束的均匀性，从而提高了流体喷洒至待处理样品表面所形成的接触点的分布均匀性，进而提高了喷洒到待处理样品表面的流体的分布均匀性。

在其中一些实施例中，喷洒装置还包括流体发生器，流体发生器包括第一导流管和第二导流管，第一导流管与第一管体连通，第二导流管与第二管体连通，且流经第一导流管的第一流体的流速与流经第二导流管的第二流体的流速相等。

基于上述实施例，流经第一导流管的第一流体的流速与流经第二导流管的第二流体的流速相等，而第一导流管与第一管体连通，第二导流管与第二管体连通，使得流经第一管体的第一流体的流速与流经第二管体的第二流体的流速相等，从而使得经由第一管体喷洒的流体的流速与经由第二管体喷洒的流体的流速相等，进而使得单位时间内经由第一管体喷洒到待处理样品表面的流体的流量与单位时间内经由第二管体喷洒到待处理样品表面的流体的流量相等，有效提高了待处理样品表面流体分布的均匀性。

基于本申请实施例的喷洒结构及喷洒装置，流体进入第一管体，经由第一管侧壁上的第一通孔以及第一管端壁上的第二通孔喷洒至待处理样品表面，流体进入第二管体，且第一管体与第一管端壁连接，流体经由第一管端壁上的第二通孔喷洒至待处理样品表面，流体通过第一通孔以及第二通孔形成多个分散的流束喷洒至待处理样品表面，增大了流经待处理样品表面的喷洒区域，有效提高了待处理样品表面流体分布的均匀性；通过第一管体以及第二管体的设计，使得流经第一管体的流体与流经第二管体的流体互不干扰，相较于现有技术中仅设有一个管体的设计，有效减少了流体在流动过程中由于流量变化而导致从第一通孔、第二通孔流出的流体的流量不同，从而导致待处理样品表面的流体分布不均匀的现象。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请一种实施例中喷洒结构的剖视图；

图2为本申请另一种实施例中喷洒结构的剖视图；

图3为本申请又一种实施例中喷洒结构的剖视图；

图4为本申请一种实施例中喷洒结构的正视图；

图5为本申请一种实施例中喷洒结构的仰视图；

图6为本申请又一种实施例中喷洒结构的剖视图；

图7为本申请又一种实施例中喷洒结构的剖视图。

附图标记：10、喷洒结构；11、第一管体；111、第一管侧壁；112、第一管端壁；1121、第二通孔；113、第一腔室；1111、第一侧壁；1112、第二侧壁；1113、第一通孔；11111、第一边缘线；11112、第二边缘线；12、第二管体；121、第二管侧壁；122、第二腔室；1211、第三侧壁；1212、第四侧壁；12111第三边缘线；12112、第四边缘线；13、连接圆；Q1、第一流体；Q2、第二流体。

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

相关技术中，半导体加工设备在对待处理样品进行加工过程中，常需要通过喷洒结构向待处理样品表面喷洒流体，喷洒结构喷洒至待处理样品表面的流体的均匀性非常重要，直接影响了待处理样品的质量，因此，如何提高喷洒结构喷洒至待处理样品表面的流体的均匀性已成为亟待解决的问题。

为了解决上述技术问题，请参照图1-图7所示，本申请的第一方面提出了一种喷洒结构10，能够有效提高喷洒至待处理样品表面的流体的均匀性。

喷洒结构10用于向待处理样品喷洒流体，喷洒结构10包括第一管体11以及第二管体12，第一管体11具有中轴线，第一管体11包括第一管侧壁111、连接于第一管侧壁111一端的第一管端壁112，第一管侧壁111与第一管端壁112围设形成第一腔室113，第一管侧壁111靠近第一管端壁112的一端开设有至少一个第一通孔1113，第一管端壁112开设有至少一个第二通孔1121，第二管体12至少部分位于第一腔室113，第二管体12的一端与第一管端壁112连接。

基于本申请实施例中的喷洒结构10，流体进入第一管体11，经由第一管侧壁111上的第一通孔1113以及第一管端壁112上的第二通孔1121喷洒至待处理样品表面，流体进入第二管体12，且第一管体11与第一管端壁112连接，流体经由第一管端壁112上的第二通孔1121喷洒至待处理样品表面，流体通过第一通孔1113以及第二通孔1121形成多个分散的流束喷洒至待处理样品表面，增大了流经待处理样品表面的喷洒区域，有效提高了待处理样品表面流体分布的均匀性；通过第一管体11以及第二管体12的设计，使得流经第一管体11的流体与流经第二管体12的流体互不干扰，相较于现有技术中仅设有一个管体的设计，有效减少了流体在流动过程中由于流量变化而导致从第一通孔1113、第二通孔1121流出的流体的流量不同，从而导致待处理样品表面的流体分布不均匀的现象。

以下结合图1-图7对喷洒结构进行详细说明。

喷洒结构10用于向待处理样品喷洒流体，其中，待处理样品可以但不仅限于是线路板或晶圆等，流体可以是气体也可以是液体。本申请实施例中的喷洒结构10用于向晶圆喷洒气体，该气体可以是氧气。

如图1所示，喷洒结构10包括第一管体11以及第二管体12。

第一管体11作为喷洒结构10中用于供流体流通的部件，这里对第一管体11的具体材质不做限定，例如，第一管体11的材质可以但不仅限于是塑料、树脂或金属等。关于第一管体11的具体结构将在下文进行展开介绍。

第一管体11包括第一管侧壁111及第一管端壁112，第一管端壁112连接于第一管侧壁111的一端，例如，第一管端壁112可以采用注塑的方式与第一管侧壁111形成一体式结构。第一管侧壁111与第一管端壁112围设形成第一腔室113，其中，第一管体11的中空区域即为第一腔室113。

第一管侧壁111靠近第一管端壁112的一端开设有至少一个第一通孔1113，其中，第一通孔1113可以是圆形孔也可以是矩形孔，这里对第一通孔1113的数量不做限定，设计人员可根据实际需要对第一管侧壁111上的第一通孔1113的具体数量进行合理设计。

第一管端壁112开设有至少一个第二通孔1121，其中，第二通孔1121可以是圆形孔也可以是矩形孔，这里对第二通孔1121的数量不做限定，设计人员可根据实际需要对第一管端壁112上的第二通孔1121的具体数量进行合理设计。

第二管体12作为喷洒结构10中用于供流体流通的部件，这里对第二管体12的具体材质不做限定，例如，第二管体12的材质可以但不仅限于是塑料、树脂或金属等。关于第二管体12的具体结构将在下文进行展开介绍。

第二管体12至少部分位于第一管体11的第一腔室113，例如，第二管体12可以是部分位于第一管体11的第一腔室113内，也可以是整体位于第一管体11的第一腔室113内。

第二管体12的一端与第一管端壁112连接，例如，第二管体12可以采用胶水粘接固定于第一管端壁112上，关于第二管体12与第一管端壁112的具体连接方式将在下文进行展开介绍。

考虑到喷洒结构喷洒至待处理样品表面的流体的分布均匀性会直接影响待处理样品的质量，为提高喷洒结构喷洒至待处理样品表面的流体的分布均匀性以提高待处理样品的合格率，故进一步设计，第一管侧壁111包括第一侧壁1111以及第二侧壁1112，第一侧壁1111与第一管端壁112连接，第二侧壁1112与第一侧壁1111远离第一管端壁112的一端连接，其中，第一侧壁1111过中轴线所在平面的截面包括靠近中轴线的第一边缘线11111，第一边缘线11111相对中轴线倾斜，和/或，第一侧壁1111过中轴线所在平面的截面包括远离中轴线的第二边缘线11112，第二边缘线11112相对中轴线倾斜。其中，“第一边缘线11111相较于中轴线倾斜”应该理解成第一边缘线11111包括平行于中轴线的第一分量、以及垂直于中轴线的第二分量(也即第一边缘线11111与中轴线不平行、且第一边缘线11111与中轴线不垂直)，同理，“第二边缘线11112相较于中轴线倾斜”应该理解成第二边缘线11112包括平行于中轴线的第三分量、以及垂直于中轴线的第四分量(也即第二边缘线11112与中轴线不平行、且第一边缘线11111与中轴线不垂直)。该设计中，通过把第一边缘线11111设置成相对中轴线倾斜，和/或，第二边缘线11112设置成相对中轴线倾斜，且第一侧壁1111与第一管端面连接，使得第一侧壁1111与第一管端壁112围设形成莲蓬状，增加了第一侧壁1111可设置第一通孔1113、第一管端壁112可设置第二通孔1121的空间，使得流体通过第一通孔1113以及第二通孔1121可以分散成更多的流束向待处理样品表面喷洒，增加了流束喷洒至待处理样品表面时所形成的接触点的数量，从而有效提高了待处理样品表面的流体的分布均匀性。

具体地，关于第一边缘线11111与中轴线之间的相对倾斜关系、第二边缘线11112与中轴线之间的相对倾斜关系可以但不仅限于以下几种可实施方式。

例如，如图1所示，在第一种实施例中，第一边缘线11111相较于中轴线倾斜，第二边缘线11112也相较于中轴线倾斜。其中，可以理解的是，第一边缘线11111相较于中轴线的倾斜角度(也即第一斜率)与第二边缘线11112相较于中轴线的倾斜角度(也即第二斜率)可以相同也可以不同。

例如，如图2所示，在第二种实施例中，第一边缘线11111相较于中轴线倾斜，第二边缘线11112与中轴线平行。

例如，如图3所示，在第三种实施例中，第一边缘线11111与中轴线平行，第二边缘线11112相较于中轴线倾斜。

更为具体地，第一边缘线11111的线型可以是直线也可以是曲线(如圆弧线或抛物线)，第二边缘线11112的线型可以是直线也可以是曲线。需要注意的是，当第一边缘线11111的线型为曲线时，第一边缘线11111相较于中轴线倾斜应该理解成第一边缘线11111整体相较于中轴线倾斜，同理，当第二边缘线11112的线型为曲线时，第二边缘线11112相较于中轴线倾斜应该理解成第二边缘线11112整体相较于中轴线倾斜。

考虑到喷洒结构10上开设的通孔的位置会影响喷洒结构10向待处理样品表面喷洒流体的喷洒区域，为增加喷洒结构10向待处理样品表面喷洒流体的喷洒区域，故进一步设计，第一侧壁1111开设有第一通孔1113，和/或，第二侧壁1112开设有第一通孔1113。例如，可以是仅在第一侧壁1111开设第一通孔1113，也可以是仅在第二侧壁1112开设第一通孔1113，还可以是第一侧壁1111以及第二侧壁1112上都开设第一通孔1113。该设计中，通过在第一侧壁1111开设第一通孔1113，和/或，在第二侧壁1112开设第一通孔1113，增加了第一通孔1113的数量，使得流体通过第一管侧壁111上的第一通孔1113可以分散形成更多分散的流束，增大了流经待处理样品表面的喷洒区域，有效减少了待处理样品表面的边缘的流体较少而造成待处理样品表面的流体分布不均匀的现象，进一步提高了待处理样品表面流体分布的均匀性。

如图4所示，可以理解的是，第一通孔1113在第一管侧壁111上的数量可以为一个也可以为多个，当第一通孔1113在第一管侧壁111上的数量为多个时，第一通孔1113在第一管侧壁111上的排布可以是不规则的随机排布，也可以是规则的均匀排布，为提高喷洒结构10喷洒到待处理样品表面的流体的分布均匀性，故进一步设计，第一通孔1113的数量为多个，多个第一通孔1113环绕中轴线等间隔分布形成至少一个第一导流圈，多个第一导流圈沿平行于中轴线的方向等间隔排布。其中，多个第一通孔1113环绕中轴线形成的导流圈的数量可以为一个也可以为多个；当多个第一通孔1113环绕中轴线形成的导流圈的数量为一个时，导流圈位于第一管侧壁111靠近第一管端面的一端；当多个第一通孔1113环绕中轴线形成的导流圈的数量为多个时，多个第一导流圈沿平行于中轴线的方向等间隔排布。该设计中，通过多个第一通孔1113环绕中轴线等间隔分布、多个第一导流圈沿平行于中轴线的方向等间隔排布，使得第一通孔1113在第一管侧壁111上的排布更加均匀，提高了流体经由第一通孔1113形成的流束的均匀性，从而提高了流体喷洒至待处理样品表面所形成的接触点的分布均匀性，进而提高了喷洒至待处理样品表面的流体的分布均匀性。

如图5所示，可以理解的是，第二通孔1121在第一管端壁112上的数量可以为一个也可以为多个，当第二通孔1121在第一管端壁112上的数量为多个时，第二通孔1121在第一管端壁112上的排布可以是不规则的随机排布，也可以是规则的均匀排布，为提高喷洒结构10喷洒到待处理样品表面的流体的分布均匀性，故进一步设计，第二通孔1121的数量为多个，多个第二通孔1121环绕中轴线等间隔分布形成至少一个第二导流圈，多个第二导流圈在第一管端壁112上形成同心圆。其中，多个第二通孔1121环绕中轴线等间隔分布形成的第二导流圈的数量可以是一个也可以是多个；当多个第二通孔1121环绕中轴线等间隔分布形成的第二导流圈的数量为一个时，第二导流圈上的任意一个第二通孔1121的圆心到中轴线的距离为任意数值。当多个第二通孔1121环绕中轴线等间隔分布形成的第二导流圈的数量为多个时，多个第二导流圈在第一管端壁112上形成同心圆。需要注意的是，位于同一第二导流圈的第二通孔1121的圆心的连线形成一个连接圆13，多个不同第二导流圈形成多个连接圆13，多个连接圆13间隔分布构成上述同心圆。该设计中，通过第二通孔1121环绕中轴线等间隔分布形成至少一个第二导流圈、多个第二导流圈在第一管端壁112上形成同心圆，使得第二通孔1121在第一管端壁112上的排布更加均匀，提高了流体经由第二通孔1121形成的流束的均匀性，从而提高了流体喷洒至待处理样品表面所形成的接触点的分布均匀性，进而提高了喷洒至待处理样品表面的流体的分布均匀性。

考虑到第二管体12与第一管端壁112连接用来给第一管端壁112上的第二通孔1121提供流体，为增加与第二管体12连通的第二通孔1121的数量，故进一步设计，在一些实施例中，第二管体12包括围成第二腔室122的第二管侧壁121，第二管侧壁121包括第三侧壁1211和第四侧壁1212，第三侧壁1211与第一管端壁112连接，第四侧壁1212与第三侧壁1211远离第一管端壁112的一端连接，其中，第三侧壁1211过中轴线所在平面的截面包括靠近中轴线的第三边缘线12111，第三边缘线12111相对中轴线倾斜，和/或，第三侧壁1211过中轴线所在平面的截面包括远离中轴线的第三边缘线12112，第三边缘线12112相对中轴线倾斜。其中，“第三边缘线12111相较于中轴线倾斜”应该理解成第三边缘线12111包括平行于中轴线的第五分量、以及垂直于中轴线的第六分量(也即第三边缘线12111与中轴线不平行、且第三边缘线12111与中轴线不垂直)，同理，“第三边缘线12112相较于中轴线倾斜”应该理解成第三边缘线12112包括平行于中轴线的第七分量、以及垂直于中轴线的第八分量(也即第三边缘线12112与中轴线不平行、且第三边缘线12112与中轴线不垂直)。该设计中，通过把第三边缘线12111设置成相对中轴线倾斜，和/或，第三边缘线12112设置成相对中轴线倾斜，且第三侧壁1211与第一管端面连接，使得第三侧壁1211与第一管端壁112围设形成莲蓬状，增加了第三侧壁1211与第一管端壁112连接形成的连接面的面积，从而增加了第一管端壁112上与第二腔室122连通的第二通孔1121的数量，使得第二腔室122内的流体经由第二通孔1121可形成更多分散的流束，增加了流束喷洒至待处理样品表面时所形成的接触点的数量，有效提高了待处理样品表面的流体的分布均匀性。

具体地，关于第三边缘线12111与中轴线之间的相对倾斜关系、第四边缘线12112与中轴线之间的相对倾斜关系可以但不仅限于以下几种可实施方式。

例如，如图1所示，在第一种实施例中，第三边缘线12111相较于中轴线倾斜，第三边缘线12111也相较于中轴线倾斜。其中，可以理解的是，第三边缘线12111相较于中轴线的倾斜角度(也即第三斜率)与第四边缘线12112相较于中轴线的倾斜角度(也即第四斜率)可以相同也可以不同。

例如，如图6所示，在第二种实施例中，第三边缘线12111相较于中轴线倾斜，第四边缘线12112与中轴线平行。

例如，如图7所示，在第三种实施例中，第三边缘线12111与中轴线平行，第四边缘线12112相较于中轴线倾斜。

更为具体地，第三边缘线12111的线型可以是直线也可以是曲线(如圆弧线或抛物线)，第四边缘线12112的线型可以是直线也可以是曲线。需要注意的是，当第三边缘线12111的线型为曲线时，第三边缘线12111相较于中轴线倾斜应该理解成第三边缘线12111整体相较于中轴线倾斜，同理，当第四边缘线12112的线型为曲线时，第四边缘线12112相较于中轴线倾斜应该理解成第四边缘线11112整体相较于中轴线倾斜。

可以理解的是，第二管体12与第一管端壁112之间的具体连接方式可以有很多，例如，第二管体12可以采用胶水粘接固定于第一管端壁112上，为提高第二管体12与第一管端面的连接紧密性，故进一步设计，第二管体12与第一管端壁112一体成型。例如，第二管体12和第一管端壁112可以通过3D打印的方式形成一体式结构，也可以在生产制造时采用浇注的方式形成一体式结构。该设计中，通过将第二管体12与第一管端壁112设计成一体式结构，增加了第二管体12和第一管端壁112之间的连接密封性，减少了第二管体12与第一管端壁112之间的连接处因有间隙，而使得第一管体11里的流体和第二管体12的流体经由间隙流通而相互干扰的可能。

本申请的第二方面提出了一种喷洒装置，喷洒装置包括承载台以及上述喷洒结构10，承载台具有承载面，承载面用于承载待处理样品，喷洒结构10设置于承载台且可相对承载面转动。该设计中，通过将喷洒结构10设置成可相对承载台的承载面转动，当待处理样品表面的流体分布不均匀时，可根据待处理样品表面的流体的分布规律对应的调整喷洒结构10相对承载台的承载面的偏转角度，来提高流体在待处理样品表面的分布均匀性，从而提高待处理样品的合格率。

具体的，喷洒装置还可以包括驱动件和调节件，调节件与第一管体11远离第一管端壁112的一端连接，驱动件配置成驱动调节件转动以带动与调节件连接的第一管体11转动，从而改变第一管体11相对承载台的承载面的角度，其中，驱动件可以是驱动电机，调节件可以是空心管体，空心管体与第一管侧壁111远离第一管端壁112的一端连接，驱动电机的输出轴与空心管体远离第一管侧壁111的一端连接。

可以理解的是，喷洒结构10的数量可以为一个，也可以为多个，为提高喷洒装置喷洒到待处理样品表面的流体的分布均匀性，故进一步设计，喷洒结构10的数量为多个，多个喷洒结构10沿承载面周向等间隔分布。该设计中，多个喷洒结构10沿承载台的承载面的周向等间隔分布，使得喷洒结构10的排布更加均匀，提高了流体经由喷洒结构10形成的流束的均匀性，从而提高了流体喷洒至待处理样品表面所形成的接触点的分布均匀性，进而提高了喷洒到待处理样品表面的流体的分布均匀性。

考虑到第一管体11内的流体经由第一通孔1113喷洒至待处理样品表面，第二管体12内的流体经由第二通孔1121喷洒至待处理样品表面，流经第一管体11内的流体的流速与流经第二管体12内的流体的流速可以不相等，为提高待处理样品表面的流体的分布均匀性，故进一步设计，喷洒装置还包括流体发生器，流体发生器包括第一导流管和第二导流管，第一导流管与第一管体11连通，第二导流管与第二管体12连通，且流经第一导流管的第一流体Q1的流速与流经第二导流管的第二流体Q2的流速相等。其中，第一流体Q1与第二流体Q2可以是同一种流体，也可以是不同的流体。该设计中，通过该设计，流经第一导流管的第一流体Q1的流速与流经第二导流管的第二流体Q2的流速相等，而第一导流管与第一管体11连通，第二导流管与第二管体12连通，使得流经第一管体11的第一流体Q1的流速与流经第二管体12的第二流体Q2的流速相等，从而使得经由第一管体11喷洒的流体的流速与经由第二管体12喷洒的流体的流速相等，进而使得单位时间内经由第一管体11喷洒到待处理样品表面的流体的流量与单位时间内经由第二管体12喷洒到待处理样品表面的流体的流量相等，有效提高了待处理样品表面流体分布的均匀性。

本实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件；在本申请的描述中，需要理解的是，若有术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。

以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种喷洒结构，用于向待处理样品喷洒流体，其特征在于，包括：

第一管体，具有中轴线，所述第一管体包括第一管侧壁、连接于所述第一管侧壁一端的第一管端壁，所述第一管侧壁与所述第一管端壁围设形成第一腔室，所述第一管侧壁靠近所述第一管端壁的一端开设有至少一个第一通孔，所述第一管端壁开设有至少一个第二通孔；

第二管体，至少部分位于所述第一腔室，所述第二管体的一端与所述第一管端壁连接。

2.如权利要求1所述的喷洒结构，其特征在于，所述第一管侧壁包括：

第一侧壁，与所述第一管端壁连接；

第二侧壁，与第一侧壁远离所述第一管端壁的一端连接；

其中，所述第一侧壁过所述中轴线所在平面的截面包括靠近所述中轴线的第一边缘线，所述第一边缘线相对所述中轴线倾斜；和/或

所述第一侧壁过所述中轴线所在平面的截面包括远离所述中轴线的第二边缘线，所述第二边缘线相对所述中轴线倾斜。

3.如权利要求2所述的喷洒结构，其特征在于，

所述第一侧壁开设有所述第一通孔；和/或

所述第二侧壁开设有所述第一通孔。

4.如权利要求1-3中任一项所述的喷洒结构，其特征在于，所述第一通孔的数量为多个，多个所述第一通孔环绕所述中轴线等间隔分布形成至少一个第一导流圈，多个所述第一导流圈沿平行于所述中轴线的方向等间隔排布。

5.如权利要求1-3中任一项所述的喷洒结构，其特征在于，所述第二通孔的数量为多个，多个所述第二通孔环绕所述中轴线等间隔分布形成至少一个第二导流圈，多个所述第二导流圈在所述第一管端壁上形成同心圆。

6.如权利要求1-3中任一项所述的喷洒结构，其特征在于，所述第二管体包括围成第二腔室的第二管侧壁；

所述第二管侧壁包括：

第三侧壁，与所述第一管端壁连接；

第四侧壁，与第三侧壁远离所述第一管端壁的一端连接；

其中，所述第三侧壁过所述中轴线所在平面的截面包括靠近所述中轴线的第三边缘线，所述第三边缘线相对所述中轴线倾斜；和/或

所述第三侧壁过所述中轴线所在平面的截面包括远离所述中轴线的第三边缘线，所述第三边缘线相对所述中轴线倾斜。

7.如权利要求1所述的喷洒结构，其特征在于，所述第二管体与所述第一管端壁一体成型。

8.一种喷洒装置，其特征在于，所述喷洒装置包括：

如权利要求1-7中任一项所述的喷洒结构；

承载台，具有承载面，所述承载面用于承载所述待处理样品，所述喷洒结构设置于所述承载台且可相对所述承载面转动。

9.如权利要求8所述的喷洒装置，其特征在于，所述喷洒结构的数量为多个，多个所述喷洒结构沿所述承载面周向等间隔分布。

10.如权利要求8或9所述的喷洒装置，其特征在于，所述喷洒装置还包括流体发生器，所述流体发生器包括第一导流管和第二导流管，所述第一导流管与所述第一管体连通，所述第二导流管与所述第二管体连通，且流经所述第一导流管的第一流体的流速与流经所述第二导流管的第二流体的流速相等。

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