CN216794953U - 小型化的ipd带通滤波器 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及带通滤波器技术领域,具体涉及一种小型化的IPD带通滤波器。该IPD带通滤波器包括输入端、输出端、大面积金属地、电容介质层、衬底基板、带通滤波器电路;其中带通滤波器电路由三个LC并联谐振器和三个LC串联谐振器构成,电感采用之形电感,电感线圈分布在衬底基板的上表面,通过通孔连接形成之形垂直螺旋之形电感,电容采用MIM电容。本实用新型具有低插损,高抑制,小尺寸,高稳定性,适合于批量加工,多次谐波抑制等优点。

Description

小型化的IPD带通滤波器
技术领域
本实用新型涉及带通滤波器技术领域,具体涉及一种小型化的IPD带通滤波器。
背景技术
带通滤波器是一个允许特定频段的波通过同时屏蔽其他频段的设备。一个理想的滤波器应该有一个完全平坦的通带,例如在通带内没有增益或者衰减,并且在通带之外所有频率都被完全衰减掉,另外,通带外的转换在极小的频率范围完成。实际上,并不存在理想的带通滤波器,特别是随着电子整机系统向小型化、轻型化方向发展的今天。
传统的带通滤波器,占用的芯片面积太大,不能满足射频前端对器件小型化的需求,为了满足通讯设备器件小型化的需要,最初寻找高介电常数、高品质因数和低的频率温度系数的微波介质材料,来减少滤波器的尺寸,从而获得较小的单个微波器件,现在半导体集成无源器件(IPD)工艺,非常适合滤波器小型化的设计,但是由于半导体工艺的限制,品质因数较小,带通滤波器的插入损耗较大,不适合通信系统小型化低功耗的需求。
实用新型内容
本实用新型针对现有技术的不足,提供一种性能可靠的小型化的IPD带通滤波器,满足通信系统小型化低功耗的需求。
本实用新型的技术方案是这样实现的:一种小型化的IPD带通滤波器,包括由上至下设置的衬底基板、电容介质层和金属大地面,所述衬底基板上设有带通滤波器电路以及相互导通的输入端、输出端和若干接地端口,所述带通滤波器电路包括连接在输入端和输出端之间的三个LC串联谐振器和三个LC并联谐振器。
所述LC串联谐振器包括第一LC串联谐振器、第二LC串联谐振器和第三LC 串联谐振器,各LC串联谐振器均由电感和两个电容串联而成,所述第一LC串联谐振器与第二LC串联谐振器串联在输入端和输出端之间,所述第三LC串联谐振器连接在第一LC串联谐振器和第二LC串联谐振器之间。
所述LC并联谐振器包括第一LC并联谐振器、第二LC并联谐振器和第三LC 并联谐振器,各并联谐振器均由电感和两个电容并联而成,所述第一LC并联谐振器一端与输入端连接,另一端通过通孔连接于衬底基板下表面的金属大地面;所述第二LC并联谐振器一端与输出端连接,另一端通过通孔连接于衬底基板下表面的金属大地面。
所述第三LC串联谐振器与第三LC并联谐振器的一端连接,所述第三LC并联谐振器的另一端通过通孔连接衬底基板下表面的金属大地面。
所述电容均采用MIM电容。
所述电容介质层为氮化硅材料。
所述衬底基板为玻璃、硅、氧化铝、砷化镓、氮化镓等半导体材料。
本实用新型解决了背景技术中存在的缺陷,具有以下有益效果:
本实用新型的一种小型化的IPD带通滤波器具有带内低插入损耗,带外高抑制,多次谐波抑制,小尺寸,高稳定性,批量一致性好等优点,适合于批量加工,多次谐波抑制。该滤波器封装尺寸仅为(1.6mm×0.8mm)。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为小型化的IPD带通滤波器的电路图;
图2为小型化的IPD带通滤波器的整体示意图;
图3为小型化的IPD带通滤波器三维平面示意图;
图4为小型化的IPD带通滤波器基板下表面电路示意图;
图5为小型化的IPD带通滤波器基板上表面电路示意图;
图6为小型化的IPD带通滤波器电容上极板电路示意图;
图7为小型化的IPD带通滤波器的S参数仿真结果。
图中:1-带通滤波器电路,11-第一LC串联谐振器,12-第二LC串联谐振器,13-第三LC串联谐振器,14-第一LC并联谐振器,15-第二LC并联谐振器,16-第三LC并联谐振器,2-电容介质层,3-衬底基板,4-金属大地面,5-输入端,6-输出端,L1-第一电感,L2-第二电感,L3-第三电感,L4-第四电感,L5- 第五电感,L6-第六电感,C1-第一电容,C2-第二电容,C3-第三电容,C4-第四电容,C5-第五电容,C6-第六电容。
具体实施方式
如图1所示,本实用新型电路原理图,滤波器电路结构包括三个LC串联谐振器和三个LC并联谐振器。其中,第一LC串联谐振器11为电感L1和两个电容C1串联谐振器;第二LC串联谐振器12为电感L2和两个电容C2串联谐振器;第三LC串联谐振器13为电感L6和两个电容C6串联谐振器。第一LC并联谐振器14为电感L3和两个电容C3并联谐振器;第二LC并联谐振器15为电感L4 和两个电容C4并联谐振器;第三LC并联谐振器16为电感L5和两个电容C5并联谐振器。电路的连接方式为:输入端5连接第一LC串联谐振器11(电感L1、电容C1),第一LC串联谐振器11连接第二LC串联谐振器12(电感L2、电容 C2),第二LC串联谐振器12连接输出端6;第一LC并联谐振器14(电感L3、电容C3)一端连接在输入端5和第一LC串联谐振器11之间,另一端接地;第三LC串联谐振器13(电感L6、电容C6)一端连接在第一LC串联谐振器11和第二LC串联谐振器12之间,第三LC串联谐振器13另一端连接第三LC并联谐振器16(电感L5、电容C5),第三LC并联谐振器16另一端接地;第二LC并联谐振器15(电感L6、电容C6)一端连接在第二LC串联谐振器12和输出端之间,另一端接地。其中电容均采用两个电容串联方式实现。
如图2所示,本实用新型小型化高性能的IPD带通滤波器包括输入端5、输出端6、金属大地面4、电容介质层2、衬底基板3、带通滤波器电路1。
如图3-6所示,本实用新型小型化高性能的IPD带通滤波器,带通滤波器电路1由三个LC并联谐振器和三个LC串联谐振器构成,输入端5连接第一LC 串联谐振器11,第一LC串联谐振器11连接第二LC串联谐振器12,第二LC串联谐振器12连接输出端6;输入端5连接第一LC并联谐振器14,第一LC并联谐振器14的另一端通过通孔连接衬底基板3下表面的金属大地面4;输入端5 连接第二LC并联谐振器15,第二LC并联谐振器15的另一端通过通孔连接衬底基板3下表面的金属大地面4;第一LC串联谐振器11和第二LC串联谐振器12 之间连接第三串联谐振器13,第三串联谐振器13的另一端连接第三LC并联谐振器16,第三LC并联谐振器16的另一端通过通孔连接衬底基板3下表面的金属大地面4;电感均采用之形电感,其电感线圈分布在衬底基板的上表面,通过通孔连接形成之形垂直螺旋电感;电容均采用MIM(金属-介质-金属)电容。
如图7所示,本实用新型的一个实施案例,其典型尺寸为1.6mm×0.8mm,设计工作于N77频段的带通滤波器,中心频率为3750MHz,工作带宽3300~ 4200MHz,通带内驻波优于18dB,通带内插入损耗≤1.8dB,DC~2000MHz阻带抑制大于40dB,2000MHz~28000MHz阻带抑制大于35dB,5000MHz~11000MHz阻带抑制大于35dB。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种小型化的IPD带通滤波器,其特征在于,包括由上至下设置的衬底基板(3)、电容介质层(2)和金属大地面(4),所述衬底基板(3)上设有带通滤波器电路(1)以及相互导通的输入端(5)、输出端(6)和若干接地端口,所述带通滤波器电路(1)包括连接在输入端(5)和输出端(6)之间的三个LC串联谐振器和三个LC并联谐振器。
2.根据权利要求1所述的小型化的IPD带通滤波器,其特征在于:所述LC串联谐振器包括第一LC串联谐振器(11)、第二LC串联谐振器(12)和第三LC串联谐振器(13),各LC串联谐振器均由电感和两个电容串联而成,所述第一LC串联谐振器(11)与第二LC串联谐振器(12)串联在输入端(5)和输出端(6)之间,所述第三LC串联谐振器(13)连接在第一LC串联谐振器(11)和第二LC串联谐振器(12)之间。
3.根据权利要求2所述的小型化的IPD带通滤波器,其特征在于:所述LC并联谐振器包括第一LC并联谐振器(14)、第二LC并联谐振器(15)和第三LC并联谐振器(16),各并联谐振器均由电感和两个电容并联而成,所述第一LC并联谐振器(14)一端与输入端(5)连接,另一端通过通孔连接于衬底基板(3)下表面的金属大地面(4);所述第二LC并联谐振器(15)一端与输出端(6)连接,另一端通过通孔连接于衬底基板(3)下表面的金属大地面(4)。
4.根据权利要求3所述的小型化的IPD带通滤波器,其特征在于:所述第三LC串联谐振器(13)与第三LC并联谐振器(16)的一端连接,所述第三LC并联谐振器(16)的另一端通过通孔连接衬底基板(3)下表面的金属大地面(4)。
5.根据权利要求4所述的小型化的IPD带通滤波器,其特征在于:所述电容均采用MIM电容。
6.根据权利要求1所述的小型化的IPD带通滤波器,其特征在于:所述电容介质层(2)为氮化硅材料。
7.根据权利要求1所述的小型化的IPD带通滤波器,其特征在于:所述衬底基板(3)为玻璃、硅、氧化铝、砷化镓或氮化镓半导体材料。
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