CN216576122U - 用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，该设备能够用于对硅铝靶材管表面进行激光加工处理，用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备包括：支撑座，沿底座的一侧设有第一滑轨；固定件，两个固定件的上端分别相对设有安装部；第二滑轨，形成为条状且与所述第一滑轨间隔开平行相对设置；激光加工单元，设在第二滑轨上且可沿所述第二滑轨滑动和/或锁定，硅铝靶材水温控制器，冷却管道和排水管道。该用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备具有结构完整、产品装卸简单、冷却效果好等优点。

Description

用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备

技术领域

本实用新型属于硅铝靶材再制造技术领域，尤其涉及一种用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备。

背景技术

硅铝靶材是真空磁控溅射镀膜工艺中一种常用的耗材，旋转硅铝靶材通常由中空的圆柱形衬管以及其外周表面的打底层和硅铝层组成，打底层通常设在衬管的表面，硅铝层设在打底层表面，为了使硅铝层的磁场强度达到真空磁控溅射镀膜的磁场要求，一般可采用等离子喷涂工艺制备厚度约为6mm-9mm的硅铝层。

硅铝层在使用过程中作为耗材被不断地消耗，在硅铝层的厚度剩下约4mm左右时，一般会出现靶材表面的污染，即硅铝层表面形成了非导电的化合物或者导电很差的化合物之后，除了放电电压及沉积速率变化之外，还会因为靶面状况的动态变化引起膜成分及结构的变化，影响了形成薄膜的质量。生产过程中，一般将消耗到硅铝层厚度约4mm左右时，旋转硅铝靶材就会报废不再使用。因此，旋转硅铝靶材作为一次性使用的耗材，其使用成本很高。

另外，有些生产企业也试图对使用过且表面无裂纹缺陷的旋转硅铝靶材进行再制造，在残留的硅铝层表面进行激光表面处理，然后在经过激光表面处理后的硅铝靶材表面继续热喷涂硅铝粉末进行再制造加工。但是现有技术中对硅铝靶材的激光表面处理设备设备结构简陋，产品装夹过程复杂，加工效率低，加工后靶材受激光热辐射影响导致基体变形，硅铝层表面开裂脱落等问题。因此，开发出一种用于硅铝靶材再制造的表面处理的结构完整、产品装卸简单、加工效率高、冷却效果好、加工后产品不易变形和开裂的激光表面处理设备已成为本领域技术人员亟待解决的问题。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。

有鉴于此，本实用新型提供一种用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，在对硅铝靶材残留有硅铝层的表面进行激光加工处理时，能够将硅铝靶材管的两端安装在固定件两端的转动轴上，装卸快捷，并通过转动轴带动硅铝靶材管进行旋转便于激光加工头对其表面进行加工，在加工过程中，可通过冷却管道和排水管道向硅铝靶材管内注入循环冷却水，可减少激光加工过程中的高热量对硅铝靶材管的影响，能够防止硅铝靶材管表面温度过高而变形和硅铝层表面开裂现象的发生，从而可提高硅铝层表面激光热处理后的质量。

根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，能够用于对硅铝靶材管表面进行激光加工处理，所述用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备包括：支撑座，所述支撑座包括底座和支撑件，所述底座设在水平面，所述底座的一侧设有第一滑轨，所述支撑件的下端设在所述底座另一侧且与所述第一滑轨平行，所述支撑件的上端朝竖直方向向上延伸；固定件，所述固定件的数量为两个，两个所述固定件沿所述第一滑轨间隔开平行设置，至少一个所述固定件可沿所述第一滑轨滑动和/或锁定，两个所述固定件的上端分别相对设有安装部，每个所述安装部设有轴向与所述第一滑轨长度方向相同的转动轴以将所述硅铝靶材管的两端分别安装在所述转动轴，所述转动轴能够绕其轴带动所述硅铝靶材管旋转，依次穿过所述固定件和与之相连的所述转动轴内部设有冷却管通道；第二滑轨，所述第二滑轨设在所述支撑件朝向所述固定件的一侧，所述第二滑轨与所述第一滑轨间隔开平行设置，所述第二滑轨的高度高于所述安装部的高度；激光加工单元，所述激光加工单元设在所述第二滑轨上且可沿所述第二滑轨滑动和/或锁定，所述激光加工单元的出光口朝向下且位于所述硅铝靶材管的正上方；激光器，所述激光器与所述激光加工单元光纤连接；柱塞，所述柱塞的数量为两个，所述柱塞分别设在所述硅铝靶材管的两端以堵住硅铝靶材管的两端，所述柱塞上设有通孔以使硅铝靶材管内部与外界连通；硅铝靶材水温控制器，所述硅铝靶材水温控制器内设有温度控制器，能够将所述硅铝靶材水温控制器内的水的温度控制在20℃～30℃之间；冷却管道，所述冷却管道的一端与所述硅铝靶材水温控制器相连通，所述冷却管道的另一端能够依次穿过所述底座一侧的所述固定件和所述转动轴内部的所述冷却管通道和所述硅铝靶材管一端的所述通孔伸入所述硅铝靶材管内以向所述硅铝靶材管内注水；排水管道，所述排水管道的一端与所述硅铝靶材水温控制器相连通，所述排水管道的另一端能够依次穿过所述底座另一侧的所述固定件和所述转动轴的冷却管通道和所述硅铝靶材管另一端的所述通孔伸入所述硅铝靶材管另一端以将所述硅铝靶材管内的水抽出。

根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，采用支撑座、固定件、第二滑轨、激光加工单元、激光器、柱塞、硅铝靶材水温控制器、冷却管道和排水管道相结合的结构，在对硅铝靶材残留有硅铝层的表面进行激光加工处理时，能够将硅铝靶材管的两端安装在固定件两端的转动轴上，装卸快捷，并通过转动轴带动硅铝靶材管进行旋转便于激光加工头对其表面进行加工，在加工过程中，激光加工头沿着第二滑轨从硅铝靶材管的一端滑动到另一端进行表面处理，加工方便，可提高加工效率，同时，通过冷却管道和排水管道向硅铝靶材管内持续注入和抽出冷却水，可有效带走硅铝靶材管内的热量，可防止硅铝靶材温度过高而导致变形和硅铝层表面脱落的问题产生，从而可提高加工效率和产品质量。

根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备还可以具有以下附加技术特征：

根据本实用新型的一个实施例，所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备还包括：顶针，所述顶针形成为柱形，所述顶针的一端形成为尖部，所述顶针的另一端设在所述排水管道所在的冷却管通道外，所述顶针的尖部穿过所述冷却管通道伸入到所述硅铝靶材管内，所述顶针朝向下方的一侧设有延其轴向贯通的安装通道，所述排水管道穿过所述安装通道伸入到硅铝靶材管内。

根据本实用新型的一个实施例，所述冷却管道伸入所述硅铝靶材管内的一端端口形成为封闭状态，且端口延伸至所述硅铝靶材管内的另一端，所述端口设有中心孔，所述顶针的尖部伸入所述中心孔配合以支撑所述冷却管道呈水平方向放置，所述冷却管道伸入所述硅铝靶材管内的部分延其长度方向在管壁周向设有多个间隔开分布的出水口。

根据本实用新型的一个实施例，所述固定件形成为卡座，两个所述转动轴分别形成为主动卡盘和从动卡盘，所述卡盘上设有可活动的三个卡爪。

根据本实用新型的一个实施例，所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备还包括：第一安装环，所述第一安装环形成为环形，所述第一安装环插接在顶针一端外壁和冷却管通道朝向硅铝靶材管一端的内壁之间；第二安装环，所述第二安装环形成为环形，所述第二安装环的一端插接在顶针另一端的外壁与所述冷却管通道的另一端的内壁之间，所述第二安装环的另一端形成为延其周向向外延伸的凸起部，所述凸起部位于所述冷却管通道的端口外直抵所述固定件的一侧表面。

根据本实用新型的一个实施例，所述柱塞包括：第一柱段，所述第一柱段的一端与所述卡盘相连并通过所述卡爪固定；第二柱段，所述第二柱段的一端与所述第一柱段的另一端相连，所述第二柱段的外径大于所述第一柱段；第三柱段，所述第三柱段的一端与所述第二柱段的另一端相连，所述第三柱段的外径小于所述第二柱段的外径，所述硅铝靶材管在安装时，所述第三柱段的另一端插接并固定在所述硅铝靶材管的端口内以使所述硅铝靶材管的端口直抵所述第二柱段朝向所述第三柱段的一侧。

根据本实用新型的一个实施例，所述用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备还包括：激光冷水机，所述激光冷水机分别通过管道与所述激光器和所述激光加工单元相连通。

根据本实用新型的一个实施例，所述用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备还包括：电机，所述电机与所述激光加工单元电连接以驱动所述激光加工单元在第二滑轨上活动和/或锁定。

根据本实用新型的一个实施例，所述激光加工单元包括激光加工头、保护气喷嘴、氧气浓度检测模块和光斑温度检测模块。

根据本实用新型的一个实施例，所述用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备还包括：操控处理器，所述操控处理器与所述激光器电连接，所述操控处理器与所述氧气浓度检测模块和所述光斑温度检测模块分别通讯连接。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备的结构示意图；

图2为根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备的局部剖面图；

图3为图2中B区域的放大图；

图4为根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备的局部侧视图；

图5为根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备冷却管道、排水管道和硅铝靶材管装配图；

图6为图5中A区域的放大图；

图7为根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备中转动轴、柱塞、冷却管道和硅铝靶材管的装配图；

图8为根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备中卡盘、卡爪、柱塞和硅铝靶材管的装配图。

附图标记：

用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备200；

支撑座210；底座211；支撑件212；第一滑轨213；

固定件220；转动轴221；卡爪222；

第二滑轨230；

激光加工单元240；激光加工头241；保护气喷嘴242；

激光器250；光纤251；

操控处理器260；

柱塞270；通孔272；第一柱段273；第二柱段274；第三柱段275；

硅铝靶材水温控制器280；冷却管道281；排水管道282；出水口283；冷却管通道284；顶针285；第一安装环286；第二安装环287；凸起部288；

激光冷水机290；稳压器291；

硅铝靶材管100。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

如图1至图8所示，下面首先结合附图具体描述根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备200。

具体而言，如图1所示，支撑座210包括底座211和支撑件212，底座211设在水平面，底座211的一侧设有第一滑轨213，支撑件212的下端设在底座211另一侧且与第一滑轨213平行，支撑件212的上端朝竖直方向向上延伸，固定件220的数量为两个，两个固定件220沿第一滑轨213间隔开平行设置，至少一个固定件220可沿第一滑轨213滑动和/或锁定，两个固定件220的上端分别相对设有安装部，每个安装部设有轴向与第一滑轨213长度方向相同的转动轴221以将硅铝靶材管100的两端分别安装在转动轴221，转动轴221能够绕其轴带动硅铝靶材管100旋转，如图2所示，依次穿过固定件220和与之相连的转动轴221内部设有冷却管通道284，第二滑轨230设在支撑件212朝向固定件220的一侧，第二滑轨230与第一滑轨213间隔开平行设置，第二滑轨230的高度高于安装部的高度，激光加工单元240设在第二滑轨230上且可沿第二滑轨230滑动和/或锁定，激光加工单元240的出光口朝向下且位于硅铝靶材管100的正上方，激光器250与激光加工单元240光纤251连接，柱塞270的数量为两个，分别设在硅铝靶材管100的两端以堵住硅铝靶材管100的两端，柱塞270上设有通孔272以使硅铝靶材管100内部与外界连通，硅铝靶材水温控制器280内设有温度控制器，能够将硅铝靶材水温控制器280内的水的温度控制在20℃～30℃之间，如图5所示至图7所示，冷却管道281的一端与硅铝靶材水温控制器280相连通，另一端能够依次穿过底座211一侧的固定件220和转动轴221内部的冷却管通道284和硅铝靶材管100一端的通孔272伸入硅铝靶材管100内以向硅铝靶材管100内注水，排水管道282的一端与硅铝靶材水温控制器280相连通，排水管道282的另一端能够依次穿过底座211另一侧的固定件220和转动轴221的冷却管通道284和硅铝靶材管100另一端的通孔272伸入硅铝靶材管100另一端以将所述硅铝靶材管100内的水抽出。

换言之，根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备200，底座211可安装在水平面，沿底座211的一侧设有第一滑轨213，支撑件212可设在底座211的另一侧，支撑件212设在竖直方向，固定件220的数量为两个且间隔开设在第一滑轨213的两端，至少一个固定件220可沿第一滑轨213滑动和/或锁定。两个固定件220相对的一侧分别设有安装部，两个安装部可分别设有相对且同轴的转动轴221，在加工时，硅铝靶材管100的两端可分别安装在转动轴221上，并可随着转动轴221延其轴进行旋转。第二滑轨230离底座211的高度可大于转动轴221离底座211的高度，在激光加工单元240可向下安装在第二滑轨230上，便于激光加工单元240的出光口朝向下且位于硅铝靶材管100的正上方，可防止激光光束朝其他方向射伤设备或人体。

进一步的，依次穿过固定件220、转动轴221设有冷却管通道284，如图5和图7所示，硅铝靶材管100的两端可设有柱塞270，柱塞270上可设有通孔272，硅铝靶材水温控制器280内可设有温度控制器，能够将硅铝靶材水温控制器280内的水的温度控制在20℃～30℃之间，即可检测并控制硅铝靶材水温控制器280内的水温，当水温过高或过低时，水温控制器能够控制硅铝靶材水温控制器自动降温或自动加热升温，可防止流入硅铝靶材管100内的水温过高或过低而引起硅铝靶材表面开裂的问题发生。冷却管道281的一端与硅铝靶材水温控制器280相连通，另一端依次穿过一冷却管通道284和通孔272伸入到硅铝靶材管100的一端内，并在激光加工过程中向硅铝靶材管100内注水，排水管道282的一端与硅铝靶材水温控制器280相连通，另一端可依次穿过另一冷却管通道284和通孔272伸入到硅铝靶材管100的一端内，并在激光加工过程中将硅铝靶材管100内的水抽出至硅铝靶材水温控制器280。该冷却结构便于硅铝靶材管100内的冷却水及时进行循环，并将热量即使带出，可防止硅铝靶材管100内的冷却水温度过高而影响冷却效果。

由此，根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备200，通过支撑座210、固定件220、第二滑轨230、激光加工单元240、激光器250、柱塞270、硅铝靶材水温控制器280、冷却管道281和排水管道282相结合的结构，在对硅铝靶材残留有硅铝层的表面进行激光加工处理时，能够将硅铝靶材管100的两端安装在固定件220两端的转动轴221上，装卸快捷，并通过转动轴221带动硅铝靶材管100进行旋转便于激光加工头241对其表面进行加工，在加工过程中，激光加工头241沿着第二滑轨230从硅铝靶材管100的一端滑动到另一端进行表面处理，加工方便，可提高加工效率，同时，通过冷却管道281和排水管道282向硅铝靶材管100内持续注入和抽出冷却水，可有效带走硅铝靶材管100内的热量，可防止硅铝靶材温度过高而导致变形和硅铝层表面脱落的问题产生，从而可提高加工效率和产品质量。

根据本实用新型的一个实施例，如图2和图3所示，用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备200还可包括顶针285，顶针285可形成为柱形，顶针285的一端可形成为尖部，顶针285的另一端可设在排水管道282所在的冷却管通281道外，顶针285的尖部可穿过冷却管通道282伸入到硅铝靶材管100内，顶针285朝向下方的一侧设有延其轴向贯通的安装通道，排水管道282可穿过安装通道伸入到硅铝靶材管100内，排水管道282位于顶针285的下方，可便于排水管道282伸入到硅铝靶材管100内下方的水里进行抽水。

根据本实用新型的一个实施例，如图1和图2所示，支撑件212可形成为冂字形，支撑件212的上端形成为水平的支撑杆，支撑杆离底座211的高度大于转动轴221离底座211的高度，第二滑轨230可安装支撑杆朝向转动轴221的一侧。

可选的，一个固定件220可固定安装在底座211的一端，另一个固定件220可沿第一滑轨213滑动和/或锁定，可便于将不同长度的硅铝靶材管100安装在两个固定件220之间。

进一步的，支撑件212形成为一体成型件，便于生产加工。

根据本实用新型的一个实施例，如图5至图7所示，冷却管道281伸入硅铝靶材管100内的一端端口形成为封闭状态，且端口延伸至硅铝靶材管100内的另一端，端口处可设有中心孔，顶针285的尖部可伸入中心孔并与中心孔配合以支撑和固定冷却管道281，使冷却管道281呈水平方向放置，由于冷却管道281伸入硅铝靶材管100内的长度较长，顶针285结构可防止冷却管道281下坠，便于冷却管道281内的水通过出水口283较均匀地射到硅铝靶材管100内壁面，从而提高冷却效果。冷却管道281伸入硅铝靶材管100内的部分延其长度方向在管壁周向设有多个间隔开分布的出水口283，在向冷却管道281通水时，在水压的作用下，管内的冷却水可通过多个分布的出水口283射向硅铝靶材管100的整个内壁，便于快速降低硅铝靶材管100内壁的温度，提高散入效果，可有效防止硅铝靶材温度过高。

根据本实用新型的一个实施例，如图8所示，固定件220形成为卡座，便于安装，两个转动轴221分别形成为主动卡盘和从动卡盘，在激光加工过程中，提高主动盘的旋转带动从动盘进行旋转，从而带动硅铝靶材管100旋转加工，卡盘上设有可活动的三个卡爪222，便于安装和固定硅铝靶材管100。

优选的，用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备200还可包括第一安装环286和第二安装环287，第一安装环286可形成为环形，第一安装环286可插接在顶针285一端外壁和冷却管通道282朝向硅铝靶材管一端的内壁之间，第二安装环287可形成为环形，第二安装环287的一端插接在顶针285另一端的外壁与冷却管通道282的另一端的内壁之间，第二安装环287的另一端形成为延其周向向外延伸的凸起部288，凸起部288位于冷却管通道282的端口外直抵固定件220的一侧表面，可便于固定顶针285和排水管道282，可防止激光加工过程中顶针285在冷却管通道284内滑动而导致顶尖脱离冷却管道281而导致冷却管道281下坠，从而影响冷却效果。

在本实用新型的一些具体实施方式中，如图7和图8所示，柱塞270可包括第一柱段273、第二柱段274和第三柱段275，第一柱段273的一端与卡盘相连并通过卡爪222固定在卡盘上，第二柱段274的一端与第一柱段273的另一端相连，第二柱段274的外径大于第一柱段273，第三柱段275的一端与第二柱段274的另一端相连，第三柱段275的外径小于第二柱段274的外径，硅铝靶材管100在安装时，第三柱段275的另一端插接并固定在硅铝靶材管100的端口内以使所述硅铝靶材管100的端口直抵第二柱段274朝向第三柱段275的一侧，便于硅铝靶材管100的安装固定。

可选的，第一柱段273、第二柱段274、第三柱段275和通孔272同轴设置，通孔272尺寸大于所述冷却管道281和/或排水管道282的尺寸，便于管道伸入硅铝靶材管100内。

根据本实用新型的一个实施例，用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备200还可包括激光冷水机290，激光冷水机290可分别通过管道与激光器250和激光加工单元240相连通，可冷却加工过程中激光器250和激光加工单元240处激光加工头241的温度。

根据本实用新型的一个实施例，用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备200还可包括电机，电机与激光加工单元240电连接以驱动激光加工单元240在第二滑轨230上活动和/或锁定。

根据本实用新型的一个实施例，用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备200还可包括稳压器291，稳压器291可与激光器250电连接以保证激光器250的电压，便于激光器250以正常功率运行，提高设备的运行稳定性。

优选的，激光加工单元240可包括激光加工头241、保护气喷嘴242、氧气浓度检测模块和光斑温度检测模块。

根据本实用新型的一个实施例，用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备200还可包括操控处理器260，操控处理器260与激光器250电连接，操控处理器260与氧气浓度检测模块和光斑温度检测模块分别通讯连接。

在激光加工过程中，保护气喷嘴242可设在激光加工头241的出光口的一侧，在激光加工前，先将惰性气体作为保护气通过保护气喷嘴242喷出，设在喷嘴处的氧气检测模块可检测出光口处气体中的氧气的浓度，当氧气的体积分数小于1％时，氧气浓度检测模块将此信息反馈给操控处理器260，操控处理器260操控激光器250启动加工程序，当氧气的体积分数大于2％时，氧气浓度检测模块将此信息反馈给操控处理器260，操控处理器260将自动停止激光器250运行。

进一步的，激光加工头241发出的光束打到硅铝靶材表面时，光斑检测模块可检测到硅铝靶材表面光斑的温度，并将温度信息反馈给操控处理器260，当光斑温度低于900℃时，操作处理器反馈给激光器250并增加激光输出功率，当光斑温度高于1200℃时，操作处理器反馈给激光器250并减小激光输出功率。该结构可保证激光加工过程中的低氧环境和稳定的加工功率，从而可提高激光表面处理后硅铝靶材的表面质量，防止表面裂纹的产生，便于硅铝靶材后续再制造加工。

总而言之，由于根据本实用新型实施例的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备200，通过支撑座210、固定件220、第二滑轨230、激光加工单元240、激光器250、柱塞270、硅铝靶材水温控制器280、冷却管道281和排水管道282相结合的结构，在对硅铝靶材残留有硅铝层的表面进行激光加工处理时，能够将硅铝靶材管100的两端安装在固定件220两端的转动轴221上，装卸快捷，并通过转动轴221带动硅铝靶材管100进行旋转便于激光加工头241对其表面进行加工，在加工过程中，激光加工头241沿着第二滑轨230从硅铝靶材管100的一端滑动到另一端进行表面处理，加工方便，可提高加工效率，同时，通过冷却管道281和排水管道282向硅铝靶材管100内持续注入和抽出冷却水，可有效带走硅铝靶材管100内的热量，可防止硅铝靶材温度过高而导致变形和硅铝层表面脱落的问题产生，从而可提高加工效率和产品质量。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.一种用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，能够用于对硅铝靶材管表面进行激光加工处理，其特征在于，所述用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备包括：

支撑座，所述支撑座包括底座和支撑件，所述底座设在水平面，所述底座的一侧设有第一滑轨，所述支撑件的下端设在所述底座另一侧且与所述第一滑轨平行，所述支撑件的上端朝竖直方向向上延伸；

固定件，所述固定件的数量为两个，两个所述固定件沿所述第一滑轨间隔开平行设置，至少一个所述固定件可沿所述第一滑轨滑动和/或锁定，两个所述固定件的上端分别相对设有安装部，每个所述安装部设有轴向与所述第一滑轨长度方向相同的转动轴以将所述硅铝靶材管的两端分别安装在所述转动轴，所述转动轴能够绕其轴带动所述硅铝靶材管旋转，依次穿过所述固定件和与之相连的所述转动轴内部设有冷却管通道；

第二滑轨，所述第二滑轨设在所述支撑件朝向所述固定件的一侧，所述第二滑轨与所述第一滑轨间隔开平行设置，所述第二滑轨的高度高于所述安装部的高度；

激光加工单元，所述激光加工单元设在所述第二滑轨上且可沿所述第二滑轨滑动和/或锁定，所述激光加工单元的出光口朝向下且位于所述硅铝靶材管的正上方；

激光器，所述激光器与所述激光加工单元光纤连接；

柱塞，所述柱塞的数量为两个，所述柱塞分别设在所述硅铝靶材管的两端以堵住硅铝靶材管的两端，所述柱塞上设有通孔以使硅铝靶材管内部与外界连通；

硅铝靶材水温控制器，所述硅铝靶材水温控制器内设有温度控制器，能够将所述硅铝靶材水温控制器内的水的温度控制在20℃～30℃之间；

冷却管道，所述冷却管道的一端与所述硅铝靶材水温控制器相连通，所述冷却管道的另一端能够依次穿过所述底座一侧的所述固定件和所述转动轴内部的所述冷却管通和所述硅铝靶材管一端的所述通孔伸入所述硅铝靶材管内以向所述硅铝靶材管内注水；

排水管道，所述排水管道的一端与所述硅铝靶材水温控制器相连通，所述排水管道的另一端能够依次穿过所述底座另一侧的所述固定件和所述转动轴的冷却管通道和所述硅铝靶材管另一端的所述通孔伸入所述硅铝靶材管另一端以将所述硅铝靶材管内的水抽出。

2.根据权利要求1所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，还包括：

顶针，所述顶针形成为柱形，所述顶针的一端形成为尖部，所述顶针的另一端设在所述排水管道所在的冷却管通道外，所述顶针的尖部穿过所述冷却管通道伸入到所述硅铝靶材管内，所述顶针朝向下方的一侧设有延其轴向贯通的安装通道，所述排水管道穿过所述安装通道伸入到硅铝靶材管内。

3.根据权利要求2所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，所述冷却管道伸入所述硅铝靶材管内的一端端口形成为封闭状态，且端口延伸至所述硅铝靶材管内的另一端，所述端口设有中心孔，所述顶针的尖部伸入所述中心孔配合以支撑所述冷却管道呈水平方向放置，所述冷却管道伸入所述硅铝靶材管内的部分延其长度方向在管壁周向设有多个间隔开分布的出水口。

4.根据权利要求3所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，所述固定件形成为卡座，两个所述转动轴分别形成为主动卡盘和从动卡盘，所述卡盘上设有可活动的三个卡爪。

5.根据权利要求4所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，还包括：

第一安装环，所述第一安装环形成为环形，所述第一安装环插接在顶针一端外壁和冷却管通道朝向硅铝靶材管一端的内壁之间；

第二安装环，所述第二安装环形成为环形，所述第二安装环的一端插接在顶针另一端的外壁与所述冷却管通道的另一端的内壁之间，所述第二安装环的另一端形成为延其周向向外延伸的凸起部，所述凸起部位于所述冷却管通道的端口外直抵所述固定件的一侧表面。

6.根据权利要求5所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，所述柱塞包括：

第一柱段，所述第一柱段的一端与所述卡盘相连并通过所述卡爪固定；

第二柱段，所述第二柱段的一端与所述第一柱段的另一端相连，所述第二柱段的外径大于所述第一柱段；

第三柱段，所述第三柱段的一端与所述第二柱段的另一端相连，所述第三柱段的外径小于所述第二柱段的外径，所述硅铝靶材管在安装时，所述第三柱段的另一端插接并固定在所述硅铝靶材管的端口内以使所述硅铝靶材管的端口直抵所述第二柱段朝向所述第三柱段的一侧。

7.根据权利要求6所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，还包括：

激光冷水机，所述激光冷水机分别通过管道与所述激光器和所述激光加工单元相连通。

8.根据权利要求7所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，还包括：

电机，所述电机与所述激光加工单元电连接以驱动所述激光加工单元在第二滑轨上活动和/或锁定。

9.根据权利要求8所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，所述激光加工单元包括激光加工头、保护气喷嘴、氧气浓度检测模块和光斑温度检测模块。

10.根据权利要求9所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，还包括：

操控处理器，所述操控处理器与所述激光器电连接，所述操控处理器与所述氧气浓度检测模块和所述光斑温度检测模块分别通讯连接。

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