CN216558771U - 非接触测高装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种非接触测高装置，包括：安装架；设于所述安装架上的基座，所述基座上安装有光纤传感模块；驱动模块，所述驱动模块包括固定于所述安装架上的旋转气缸以及与所述旋转气缸连接的连杆，所述连杆包括第一杆部以及与所述第一杆部垂直连接的第二杆部，所述第一杆部的一端与所述旋转气缸连接，所述第一杆部的另一端与所述第二杆部的一端连接；设于所述第二杆部的另一端的第一保护罩；设于所述第二杆部两端之间的缓冲模块，当所述旋转气缸驱动所述连杆朝向所述基座翻转时，带动所述缓冲模块一起翻转以使所述缓冲模块与所述基座接触，促使所述第一保护罩缓慢盖合于所述基座上。本实用新型的非接触测高装置能保护光纤传感模块。

Description

非接触测高装置

技术领域

本实用新型涉及划片机技术领域，特别是涉及一种非接触式测高装置。

背景技术

划片机是一种以高速旋转的砂轮强力磨削为主要原理的精密加工设备。划片机划片时的加工精度受设备自身的精度和工艺参数影响外，一个重要的因素就是刀片的磨损以及破损程度。刀片的磨损对切割效果以及精度都会受到很大影响，甚至对设备或者加工对象都造成损坏。同时由于切割过程中刀片与被加工器件会产生大量的热，刀片易磨损。且如果刀片位置保持不变的话，刀片磨损后相应的切割深度会慢慢变浅，因此对刀片进行测高从而保持加工时刀片与材料的相对位置不变，就变的至关重要。

现有的针对带槽的划片刀的测高检测方法主要是以接触式测高为主，即将工件盘取出后通过刀片与工作台接触来测量刀片的磨损情况，刀片与工作台接触易磨损刀片，且很容易切坏工作台，同时工作台上有水时会导致测量结果不稳定。

鉴于此，本领域的技术人员亟需一种新的非接触测高装置，以解决现有技术存在的技术问题。

发明内容

基于此，本实用新型提供一种非接触测高装置，以检测刀片的磨损情况。

本实用新型的非接触测高装置，包括：

安装架；

设于所述安装架上的基座，所述基座上安装有光纤传感模块；

设于所述安装架上的驱动模块，所述驱动模块包括固定于所述安装架上的旋转气缸以及与所述旋转气缸连接的连杆，所述连杆包括第一杆部以及与所述第一杆部垂直连接的第二杆部，所述第一杆部的一端与所述旋转气缸连接，所述第一杆部的另一端与所述第二杆部的一端连接；

设于所述第二杆部的另一端且用于盖合所述基座的第一保护罩；

设于所述第二杆部两端之间的缓冲模块，当所述旋转气缸驱动所述连杆朝向所述基座翻转时，带动所述缓冲模块一起翻转以使所述缓冲模块与所述基座接触，促使所述第一保护罩缓慢盖合于所述基座上。

优选地，所述缓冲模块为油压缓冲器或弹簧缓冲器。

优选地，所述基座包括与所述安装架连接的第一连接部和设于所述第一连接部上的安装部，所述光纤传感模块设于所述安装部上。

优选地，所述光纤传感模块包括相对设置的第一光纤传感组件和第二光纤传感组件。

优选地，所述第一光纤传感组件和所述第二光纤传感组件上分别盖设有第二保护罩，所述第二保护罩上设有光学玻璃。

优选地，所述安装部上还设有用于清洁所述光纤传感模块的清洁模块，所述清洁模块包括与所述第一光纤传感组件对应设置的第一清洁组件和与所述第二光纤传感组件对应设置的第二清洁组件。

优选地，所述第一清洁组件包括用于对所述第一光纤传感组件进行清洁的第一出水弯管和第一出气弯管，所述第二清洁组件包括用于对所述第二光纤传感组件进行清洁的第二出水弯管和第二出气弯管。

优选地，所述基座上还设有进水口和进气口，所述进水口与所述第一出水弯管和所述第二出水弯管连通，所述进气口与所述第一出气弯管和所述第二出气弯管连通。

优选地，所述基座还包括与所述第一连接部固定连接的第二连接部和设于所述第二连接部上的光纤放大器，所述光纤放大器用于放大光纤信号。

优选地，所述安装架包括安装立板，所述旋转气缸与所述第二连接部设于所述安装立板的外侧，所述连杆、所述第一保护罩以及所述第一连接部设于所述安装立板的内侧。

本实用新型的有益效果在于：本实用新型实施例的非接触测高装置结构简单，通过在安装架上设置驱动模块，驱动模块驱动第一保护罩实现第一保护罩的开合，能有效地保护光纤传感模块，减少加工时切削液、粉尘及水雾对传感器的影响，使光纤传感模块能更长久有效的运行，从而保证非接触测高的精度及准度；同时在第二杆部上设置缓冲模块，防止第一保护罩在盖合基座时速度过快，对基座和光纤传感模块造成损坏。

附图说明

图1为本实用新型实施例的非接触测高装置在测高时的立体结构图；

图2为图1的A处的放大结构示意图；

图3为本实用新型实施例的非接触测高装置的立体结构图；

图4为本实用新型实施例的非接触测高装置另一角度的立体结构图；

图5本实用新型实施例的非接触测高装置的俯视图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。

请参见图1-图5，本实用新型实施例的非接触测高装置100用于对划片机200的刀片201进行磨损检测。非接触测高装置100包括安装架10、固定设于安装架10上的基座20、安装于基座20上设光纤传感模块30、设于安装架10上的驱动模块40、与驱动模块40连接的第一保护罩50、缓冲模块60。

安装架10作为非接触测高装置100的支撑部件，可以理解的是，安装架10也可以是一个大的支撑部件，其上安装有多个非接触测高装置100。具体地，安装架10包括安装立板11，基座20包括第一连接部21、第二连接部22以及安装部23，第一连接部21与第二连接部22固定连接，第一连接部21和第二连接部22分别设于安装立板11内侧和外侧，安装部23设于第一连接部21上，光纤传感模块30设于安装部23上。驱动模块40包括与第二连接部22同侧设置的旋转气缸41以及与旋转气缸41连接的连杆42，连杆42与第一连接部21同侧设置，旋转气缸41的输出轴贯穿安装立板11与连杆42连接。连杆42包括与旋转气缸41连接的第一杆部421和与第一杆部421垂直连接的第二杆部422。具体地，第一杆部421的一端与旋转气缸41连接，第一杆部421的另一端与第二杆部422的一端连接，第二杆部422的第二端与第一保护罩50连接，第一保护罩50与连杆42同侧设置，第一保护罩50用于盖合基座20，在非接触测高装置100不工作时保护光纤传感模块30，同时能使光纤传感模块30保持干净。具体地，第一保护罩50的开口所在的平面与第二杆部422垂直设置。缓冲模块60设置在第二杆部422的两端之间，用于缓冲第一保护罩50盖合时对基座20和光纤传感模块30的冲击。需要说明的是，本实施例的非接触测高装置100的驱动模块40采用的是旋转气缸41，在其他实施例中，可以使用旋转电机等代替旋转气缸41。

具体地，光纤传感模块30设置在安装部23朝上的一面。当非接触测高装置100不测高时，旋转气缸41驱动连杆42朝向基座20翻转，带动缓冲模块60一起翻转以使缓冲模块60与基座20接触，促使第一保护罩50缓慢盖合在基座20上；此时第一保护罩50的开口向下，光纤传感模块30收容于第一保护罩50内，第一杆部421处于与水平面平行的状态，第二杆部422处于与水平面垂直的状态。当非接触测高装置100需要进行测高时，旋转气缸41驱动连杆42朝向反方向翻转，第一保护罩50打开；此时第一杆部421处于与水平面垂直的状态，第二杆部422则处于与水平面平行的状态，第一保护罩50的开口也处于与水平面垂直的状态；光纤传感模块30开始对射；将刀片201移动至光纤传感模块30上方，将刀片201缓慢下移，使刀片201的遮光面积到达预设值；停止下移，记录此时划片机200和刀片201的高度，测高完成。

本实用新型实施例的非接触测高装置100结构简单，通过在安装架10上设置驱动模块40，驱动模块40驱动第一保护罩50实现第一保护罩50的开合，能有效地保护光纤传感模块30，减少加工时切削液、粉尘及水雾对光纤传感模块30的影响，使光纤传感模块30能更长久有效的运行，从而保证非接触测高的精度及准度；同时在第二杆部422上设置缓冲模块60，防止第一保护罩50在盖合时速度过快，对基座20和光纤传感模块30造成损坏。

进一步地，缓冲模块60为油压缓冲器或弹簧缓冲器。

进一步地，请参见图3-图5，光纤传感模块30包括第一光纤传感组件31和第二光纤传感组件32，第一光纤传感组件31和第二光纤传感组件32相对设置以完成光纤对射。进行检测时，刀片201下移至第一光纤传感组件31和第二光纤传感组件32之间。

进一步地，第一光纤传感组件31和第二光纤传感组件32上分别盖设有第二保护罩33，第二保护罩33上设有光学玻璃331。通过第二保护罩33的设置，能进一步地保护光纤传感模块30，且在第二保护罩33上设置有光学玻璃331以免影响光纤传感模块30发射光纤和接收光纤信号。

进一步地，请参见图3-图5，安装部23上还设有清洁模块70，清洁模块70用于清洁光纤传感模块30。清洁模块70邻近光纤传感模块30设置。清洁模块70包括与第一光纤传感组件31对应设置的第一清洁组件71和与所述第二光纤传感组件32对应设置的第二清洁组件72。其中，第一清洁组件71包括用于对第一光纤传感组件31进行清洁的第一出水弯管711和第一出气弯管712，第二清洁组件72包括用于对第二光纤传感组件32进行清洁的第二出水弯管721和第二出气弯管722。进一步地，基座20上还设有进水口73和进气口74，进水口73与第一出水弯管711和第二出水弯管721连通，进气口74与第一出气弯管712和第二出气弯管722连通。具体地，进水口73和进气口74设于基座20靠近安装立板11的侧面，进水口73和进气口74平行设置。在进行测高前，控制第一出水弯管711和第二出水弯管721喷水，将光纤传感模块30和光学玻璃331上的粉尘、污水等冲洗干净；控制第一出气弯管712和第二出气弯管722喷气，将光学玻璃331上的水吹干。通过清洗模块的设置，将使光纤传感模块30保持清洁，防止光学玻璃331上有粉尘等影响光纤对射，确保检测结果的准确度。

进一步地，请参见图4和图5，为了使光纤传感模块30发射和接收到的光纤信号更加容易被检测，第二连接部22上设有光纤放大器80，光纤放大器80用于放大光纤信号。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上实施例仅表达了本实用新型的优选的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种非接触测高装置，其特征在于，包括：

安装架；

设于所述安装架上的基座，所述基座上安装有光纤传感模块；

设于所述安装架上的驱动模块，所述驱动模块包括固定于所述安装架上的旋转气缸以及与所述旋转气缸连接的连杆，所述连杆包括第一杆部以及与所述第一杆部垂直连接的第二杆部，所述第一杆部的一端与所述旋转气缸连接，所述第一杆部的另一端与所述第二杆部的一端连接；

设于所述第二杆部的另一端且用于盖合所述基座的第一保护罩；

设于所述第二杆部两端之间的缓冲模块，当所述旋转气缸驱动所述连杆朝向所述基座翻转时，带动所述缓冲模块一起翻转以使所述缓冲模块与所述基座接触，促使所述第一保护罩缓慢盖合于所述基座上。

2.根据权利要求1所述的非接触测高装置，其特征在于，所述缓冲模块为油压缓冲器或弹簧缓冲器。

3.根据权利要求1所述的非接触测高装置，其特征在于，所述基座包括与所述安装架连接的第一连接部和设于所述第一连接部上的安装部，所述光纤传感模块设于所述安装部上。

4.根据权利要求3所述的非接触测高装置，其特征在于，所述光纤传感模块包括相对设置的第一光纤传感组件和第二光纤传感组件。

5.根据权利要求4所述的非接触测高装置，其特征在于，所述第一光纤传感组件和所述第二光纤传感组件上分别盖设有第二保护罩，所述第二保护罩上设有光学玻璃。

6.根据权利要求5所述的非接触测高装置，其特征在于，所述安装部上还设有用于清洁所述光纤传感模块的清洁模块，所述清洁模块包括与所述第一光纤传感组件对应设置的第一清洁组件和与所述第二光纤传感组件对应设置的第二清洁组件。

7.根据权利要求6所述的非接触测高装置，其特征在于，所述第一清洁组件包括用于对所述第一光纤传感组件进行清洁的第一出水弯管和第一出气弯管，所述第二清洁组件包括用于对所述第二光纤传感组件进行清洁的第二出水弯管和第二出气弯管。

8.根据权利要求7所述的非接触测高装置，其特征在于，所述基座上还设有进水口和进气口，所述进水口与所述第一出水弯管和所述第二出水弯管连通，所述进气口与所述第一出气弯管和所述第二出气弯管连通。

9.根据权利要求3所述的非接触测高装置，其特征在于，所述基座还包括与所述第一连接部固定连接的第二连接部和设于所述第二连接部上的光纤放大器，所述光纤放大器用于放大光纤信号。

10.根据权利要求9所述的非接触测高装置，其特征在于，所述安装架包括安装立板，所述旋转气缸与所述第二连接部设于所述安装立板的外侧，所述连杆、所述第一保护罩以及所述第一连接部设于所述安装立板的内侧。

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