CN216483547U - 一种高稳定性辐射定标源 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种高稳定性辐射定标源,包括机架,所述机架上设置有工作台面,所述工作台面上方设置有吸收黑体,所述吸收黑体上设置有制冷片,所述制冷片与所述吸收黑体相贴合,所述制冷片用于对所述吸收黑体表面的温度进行调节,所述工作台面上方设置有用于调节所述制冷片内电流大小和方向的调节组件,所述制冷片以及所述调节组件均与外界电源电性连接。本申请具有提高定标亮温的稳定性的效果。
Description
技术领域
本申请涉及一种定标源,更具体地说,涉及一种高稳定性辐射定标源。
背景技术
辐射定标是用户需要计算地物的反射光谱率或光谱辐射亮度时,或者需要对不同时间、不同传感器获取的图像进行比较时,都必须将图像的亮度灰度值转换为绝对的辐射亮度,这个过程就是辐射定标。
对于被动辐射计系统,需要通过两个已知亮温的辐射定标源标定来确定目标物的辐射亮温,因此辐射定标亮温的精度和稳定性都非常重要,定标亮温的精度可以通过修正进行弥补,但定标亮温的稳定性很难补偿。
实用新型内容
为了提高定标亮温的稳定性,本申请提供一种高稳定性辐射定标源。
本申请提供的一种高稳定性辐射定标源采用如下的技术方案:
一种高稳定性辐射定标源,包括机架,所述机架上设置有工作台面,所述工作台面上方设置有吸收黑体,所述吸收黑体上设置有制冷片,所述制冷片与所述吸收黑体相贴合,所述制冷片用于对所述吸收黑体表面的温度进行调节,所述工作台面上方设置有用于调节所述制冷片内电流大小和方向的调节组件,所述制冷片以及所述调节组件均与外界电源电性连接。
通过上述技术方案,调节组件对制冷片内的电流方向和大小进行实时调整,通过控制电流的大小来控制制冷片的功率比例,以实现对吸收黑体表面温度的调节,使吸收黑体在不同的环境场景中,保持温度的稳定性,进而提高了定标亮温的稳定性。
进一步的,所述吸收黑体的下表面设置为平面状,所述吸收黑体的上表面设置为角锥状。
通过采用上述技术方案,吸收黑体的下表面为平面状,方便了制冷片与吸收黑体之间的贴合,吸收黑体的上表面设置为角锥状,增大了吸收黑体的辐射面积,提高了辐射效率。
进一步的,所述制冷片设置有若干个,若干个所述制冷片均匀间隔设置在所述吸收黑体上。
通过上述技术方案,若干个制冷片将吸收黑体的表面划分为多个温度区,通过单独的制冷片对吸收黑体上相对应的温度区单独进行温度的调整,可以使制冷片对吸收黑体的温度调节效果更加精确。
进一步的,所述工作台面上方设置有散热器,所述散热器与所述制冷片相贴合。
通过上述技术方案,当吸收黑体的表面温度过高时,需要及时对吸收黑体进行散热,通过散热器与制冷片相配合,可以在更短的时间内实现对吸收黑体表面温度的降低,降低了由于温度升高对吸收黑体造成影响的可能性。
进一步的,所述散热器上设置有若干个散热翅片,若干个所述散热翅片间隔设置在所述散热器上。
通过上述技术方案,若干个散热翅片的设置增大了散热器的散热面积,加快了散热器与外界进行热量交换的速度,进一步缩短了对吸收黑体进行降温时的降温时间。
进一步的,所述散热器下方设置有风扇,所述风扇设置有若干个,若干个所述风扇均匀设置在所述散热器上。
通过上述技术方案,风扇开启后,加快了散热器表面的气体流速,进一步提高了对吸收黑体的降温效果。
进一步的,所述散热器上设置有保温罩,所述保温罩用于罩设所述吸收黑体。
通过上述技术方案,保温罩对吸收黑体进行包裹,使吸收黑体在保温罩内的温度保持相对稳定,降低了外界环境温度对吸收黑体造成的影响。
进一步的,所述调节组件包括温度传感器以及恒温控制板卡,所述温度传感器与所述吸收黑体固定连接,所述恒温控制板卡与所述保温罩固定连接,所述制冷片以及所述温度传感器均与所述恒温控制板卡电性连接,所述温度传感器与所述恒温控制板卡相联动以控制所述制冷片。
通过采用上述技术方案,温度传感器对吸收黑体的表面温度进行实时监测,并根据温度通过恒温控制板卡对制冷片内的电流大小和方向进行调节,通过控制电流的方向来实现制冷和制热的转换,满足不同场景的应用要求。
综上所述,本申请包括以下至少一个有益技术效果:
(1)调节组件对制冷片内的电流方向和大小进行实时调整,通过控制电流的大小来控制制冷片的功率比例,以实现对吸收黑体表面温度的调节,使吸收黑体在不同的环境场景中,保持温度的稳定性,进而提高了定标亮温的稳定性;
(2)吸收黑体的下表面为平面状,方便了制冷片与吸收黑体之间的贴合,吸收黑体的上表面设置为角锥状,增大了吸收黑体的辐射面积,提高了辐射效率;
(3)吸收黑体的表面温度过高时,需要及时对吸收黑体进行散热,通过散热器与制冷片相配合,可以在更短的时间内实现对吸收黑体表面温度的降低,降低了由于温度升高对吸收黑体造成影响的可能性。
附图说明
图1为本申请的整体结构示意图;
图2为本申请的整体结构爆炸示意图。
图中标号说明:
1、机架;2、工作台面;21、安装口;3、吸收黑体;4、制冷片;5、保温罩;6、调节组件;61、温度传感器;62、恒温控制板卡;7、散热组件;71、散热器;72、散热翅片;73、风扇。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述;显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例,基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”、“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
以下结合附图1-2对本申请作进一步详细说明。
本申请实施例公开一种高稳定性辐射定标源,请参阅图1和图2,包括机架1,机架1上端固定连接有水平设置的工作台面2,工作台面2上方设置有吸收黑体3,吸收黑体3为块状,吸收黑体3的下表面为平面状,吸收黑体3的上表面为均匀的角锥状,吸收黑体3由金属材料表面加吸波涂层、碳化硅或铁氧体制成,吸收黑体3的底壁上均匀设置有若干个制冷片4,制冷片4的长度方向与吸收黑体3的宽度方向一致,若干个制冷片4沿吸收黑体3的长度方向间隔设置,制冷片4的冷面与吸收黑体3的下表面相贴合,工作台面2上方设置有保温罩5,保温罩5将吸收黑体3罩设在内,吸收黑体3的下方设置有散热组件7,散热组件7上方设置有调节组件6。
参照图2,吸收黑体3的上表面为角锥状增大了吸收黑体3的辐射面积,提高了辐射效率,保温罩5对吸收黑体3进行包裹,使吸收黑体3在保温罩5内的温度保持相对稳定,降低了外界环境温度对吸收黑体3造成的影响,调节组件6可以根据吸收黑体3的表面温度对制冷片4内的电流大小和方向进行调节,以对吸收黑体3的温度进行调节,满足了不同的使用场景,当吸收黑体3的表面温度过高时,散热组件7配合制冷片4对吸收黑体3进行散热,缩短了对吸收黑体3的散热时间。
参照图2,散热组件7包括散热器71,制冷片4的热面与散热器71的上表面相互贴合固定,散热器71的下表面上均匀设置有若干个散热翅片72,散热翅片72竖直设置,若干个散热翅片72相互平行且沿散热器71的长度方向等距间隔设置,散热翅片72与工作台面2固定连接,工作台面2上开设有若干个安装口21,本实施例中的安装口21开设有两个,两个安装口21沿工作台面2的长度方向间隔设置,安装口21中固定连接有风扇73,风扇73位于散热翅片72下方。
参照图2,当吸收黑体3的表面温度过高时,需要及时对吸收黑体3进行散热,通过散热器71与制冷片4相配合,可以在更短的时间内实现对吸收黑体3表面温度的降低,降低了由于温度升高对吸收黑体3造成影响的可能性,若干个散热翅片72的设置增大了散热器71的散热面积,加快了散热器71与外界进行热量交换的速度,进一步缩短了对吸收黑体3进行降温时的降温时间,风扇73开启后,加快了散热器71表面的气体流速,进一步提高了对吸收黑体3的降温效果。
参照图2,调节组件6包括温度传感器61,温度传感器61的数量与制冷片4的数量相对应,温度传感器61设置在吸收黑体3与制冷片4相对应的位置处,温度传感器61与吸收黑体3固定连接,保温罩5的顶壁上固定连接有恒温控制板卡62,温度传感器61以及制冷片4均与恒温控制板卡62电性连接。
参照图2,温度传感器61对吸收黑体3的表面温度进行实时监测,并根据温度通过恒温控制板卡62对制冷片4内的电流大小和方向进行调节,通过控制电流的方向来实现制冷和制热的转换,满足不同场景的应用要求。
本申请实施例一种高稳定性辐射定标源的实施原理为:吸收黑体3在作业过程中,温度传感器61对吸收黑体3的表面温度进行检测,当温度传感器61检测到吸收黑体3的表面温度降低时,与恒温控制板卡62进行信号传输,恒温控制板卡62改变制冷片4内的电流大小和方向,对吸收黑体3进行加温;同理,当吸收黑体3的表面温度过高时,散热器71及风扇73对吸收黑体3的表面进行降温。
以上均为本申请的较佳实施例,并非依此限制本申请的保护范围,故:凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本申请的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种高稳定性辐射定标源,其特征在于:包括机架(1),所述机架(1)上设置有工作台面(2),所述工作台面(2)上方设置有吸收黑体(3),所述吸收黑体(3)上设置有制冷片(4),所述制冷片(4)与所述吸收黑体(3)相贴合,所述制冷片(4)用于对所述吸收黑体(3)表面的温度进行调节,所述工作台面(2)上方设置有用于调节所述制冷片(4)内电流大小和方向的调节组件(6),所述制冷片(4)以及所述调节组件(6)均与外界电源电性连接。
2.根据权利要求1所述的一种高稳定性辐射定标源,其特征在于:所述吸收黑体(3)的下表面设置为平面状,所述吸收黑体(3)的上表面设置为角锥状。
3.根据权利要求2所述的一种高稳定性辐射定标源,其特征在于:所述制冷片(4)设置有若干个,若干个所述制冷片(4)均匀间隔设置在所述吸收黑体(3)上。
4.根据权利要求3所述的一种高稳定性辐射定标源,其特征在于:所述工作台面(2)上方设置有散热器(71),所述散热器(71)与所述制冷片(4)相贴合。
5.根据权利要求4所述的一种高稳定性辐射定标源,其特征在于:所述散热器(71)上设置有若干个散热翅片(72),若干个所述散热翅片(72)间隔设置在所述散热器(71)上。
6.根据权利要求5所述的一种高稳定性辐射定标源,其特征在于:所述散热器(71)下方设置有风扇(73),所述风扇(73)设置有若干个,若干个所述风扇(73)均匀设置在所述散热器(71)上。
7.根据权利要求6所述的一种高稳定性辐射定标源,其特征在于:所述散热器(71)上设置有保温罩(5),所述保温罩(5)用于罩设所述吸收黑体(3)。
8.根据权利要求7所述的一种高稳定性辐射定标源,其特征在于:所述调节组件(6)包括温度传感器(61)以及恒温控制板卡(62),所述温度传感器(61)与所述吸收黑体(3)固定连接,所述恒温控制板卡(62)与所述保温罩(5)固定连接,所述制冷片(4)以及所述温度传感器(61)均与所述恒温控制板卡(62)电性连接,所述温度传感器(61)与所述恒温控制板卡(62)相联动以控制所述制冷片(4)。
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