CN216250635U - 一种刻蚀机刻蚀气体进气结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种刻蚀机刻蚀气体进气结构，包括刻蚀气体分流盘，所述刻蚀气体分流盘的上表面中间区域设置有布气内沉台，所述布气内沉台内至少设置有一圈内圈喷孔；所述刻蚀气体分流盘的上表面还设置有一圈布气外凹环，所述布气外凹环内设置有外圈喷孔；所述布气内沉台和布气外凹环间设置有阻隔层。本实用新型能够避免内圈刻蚀气体与外圈刻蚀气体间的相互干扰，提高刻蚀气体进入刻蚀盘内圈和外圈的均匀性，从而保证晶片刻蚀的一致性，可广泛应用于晶片刻蚀加工技术领域。
Description
技术领域
本实用新型涉及衬底刻蚀设备技术领域，尤其是涉及一种刻蚀机刻蚀气体进气结构。
背景技术
刻蚀机作为衬底刻蚀常用的设备，在衬底加工领域广泛使用。其主要有刻蚀盘，位于刻蚀盘上方的刻蚀气体分流盘组成，刻蚀盘有内圈衬底放置区和外圈衬底放置区，多个衬底被放置在刻蚀盘的内圈衬底放置区和外圈衬底放置区上，然后通过上方的刻蚀气体分流盘向刻蚀盘和刻蚀气体分流盘组成的刻蚀腔内通入刻蚀气体。现有气体分流盘上设置有内圈喷孔和外圈喷孔，在气体分流盘的上方设置有盖板，盖板上设置有两个进气管道分别对应向内圈喷孔和外圈喷孔，再由内圈喷孔和外圈喷孔进入刻蚀腔体内对衬底进行刻蚀。在使用中发现，该分流盘(GDP)在加刻蚀气体时，由于气体分流盘上方是平面结构，两个进气管道同时进气时，内外圈气流会相互干扰，从而无法保证内外圈气体分布的均匀性，这就导致了刻蚀的过程中内圈和外圈的刻蚀效率存在差异，使位于内圈和外圈的衬底刻蚀量不一致。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种刻蚀机刻蚀气体进气结构，解决现有分流盘进气易造成刻蚀气体分布不均匀，从而导致衬底刻蚀不均匀的问题。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种刻蚀机刻蚀气体进气结构，包括刻蚀气体分流盘，所述刻蚀气体分流盘的上表面中间区域设置有布气内沉台，所述布气内沉台内至少设置有一圈内圈喷孔；所述刻蚀气体分流盘的上表面还设置有一圈布气外凹环，所述布气外凹环内设置有外圈喷孔；所述布气内沉台和布气外凹环间设置有阻隔层。
为进一步保证刻蚀气体分布的均匀性，所述阻隔层上设置有与布气内沉台连通的内圈进气通道，所述阻隔层上还设置有外圈进气通道及与外圈进气通道连通的外圈主配气凹槽，外圈主配气凹槽与布气外凹环间均匀分布有一组引流槽。
进一步的，所述刻蚀气体分流盘上还设置有盖板，盖板上设置有与内圈进气通道连通的内圈进气管和与外圈进气通道连通的外圈进气管。
本实用新型的有益效果：本实用新型通过对刻蚀气体分流盘的结构进行优化，形成相互隔开的布气内沉台和布气外凹环，并通过内圈进气管和外圈进气管分别对内圈喷孔和外圈喷孔进行配气，从而有效解决了两者间相互干扰的问题，保证进气量的稳定性，提高刻蚀的均匀性。所述内圈喷孔和外圈喷孔隔离采用内沉台和布气外凹环的布置方式，结构简单，加工方便。同时，为提高外圈喷孔进气的均匀性，采用外圈主配气凹槽和引流槽配合的方式对布气外凹环进行进气，能够保证布气外凹环内刻蚀气体分布的均匀性，从而保证每个外圈喷孔进气的均匀性。
以下将结合附图和实施例，对本实用新型进行较为详细的说明。
附图说明
图1为本实用新型的爆炸视图。
图2为本实用新型中刻蚀气体分流盘与刻蚀盘的空间位置关系图。
图3为本实用新型中刻蚀气体分流盘的俯视图。
图4为图3中A-A的剖视图。
具体实施方式
实施例，如图1至4所示，一种刻蚀机刻蚀气体进气结构，包括设置在刻蚀腔上方对刻蚀腔内的刻蚀盘5吹送刻蚀气体的刻蚀气体分流盘1，用于支撑刻蚀气体分流盘1的支撑圈6，盖在刻蚀气体分流盘1上的盖板2，盖板2通过螺栓固定在支撑圈6上，从而将盖板2压紧。所述支撑圈6的内圈上设置有支撑台阶61，刻蚀气体分流盘1的侧边缘设置有一圈与支撑台阶61相适配的台阶结构11，台阶结构11压在支撑台阶61上，当放置到位后，刻蚀气体分流盘1的上下表面与支撑圈6的上下表面齐平，所述盖板2压在刻蚀气体分流盘1的表面并保持密封。
所述刻蚀盘5中间设置有一个内圈晶片放置区，四周设置有外圈晶片放置区，为保证各晶片放置区的刻蚀气体分布的均匀性，减少进入内圈晶片放置区的刻蚀气体与进入外圈晶片放置区的刻蚀气体相互干扰，保证气体流动的稳定性，所述刻蚀气体分流盘1的上表面中间区域设置有布气内沉台101，所述布气内沉台101内至少设置有一圈内圈喷孔102。所述刻蚀气体分流盘1的上表面还设置有一圈布气外凹环103，所述布气外凹环103内均匀分布有外圈喷孔104；所述布气内沉台101和布气外凹环103间设置有阻隔层105。所述阻隔层105上设置有与布气内沉台101连通的内圈进气通道106，所述盖板2上设置有与内圈进气通道106连通的内圈进气管3，通过内圈进气管3对布气内沉台101进气。所述阻隔层105上还设置有外圈进气通道107及与外圈进气通道107连通的外圈主配气凹槽108，外圈主配气凹槽108为环状结构，外圈主配气凹槽108与布气外凹环103间均匀分布有一组引流槽109。所述盖板2上设置有与外圈进气通道107连通的外圈进气管4，刻蚀气体从外圈进气管4进入外圈进气通道107，再进入外圈主配气凹槽108，在通过引流槽109进入布气外凹环103，该结构能够保证刻蚀气体进入布气外凹环103的均匀性，保证布气外凹环103各处的配气均匀性，从而保证各外圈喷孔104进气量的一致性。
以上结合附图对本实用新型进行了示例性描述。显然，本实用新型具体实现并不受上述方式的限制。只要是采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进；或未经改进，将本实用新型的上述构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种刻蚀机刻蚀气体进气结构，包括刻蚀气体分流盘(1)，其特征在于：所述刻蚀气体分流盘(1)的上表面中间区域设置有布气内沉台(101)，所述布气内沉台(101)内至少设置有一圈内圈喷孔(102)；所述刻蚀气体分流盘(1)的上表面还设置有一圈布气外凹环(103)，所述布气外凹环(103)内设置有外圈喷孔(104)；所述布气内沉台(101)和布气外凹环(103)间设置有阻隔层(105)。
2.如权利要求1所述的刻蚀机刻蚀气体进气结构，其特征在于：所述阻隔层(105)上设置有与布气内沉台(101)连通的内圈进气通道(106)，所述阻隔层(105)上还设置有外圈进气通道(107)及与外圈进气通道(107)连通的外圈主配气凹槽(108)，外圈主配气凹槽(108)与布气外凹环(103)间均匀分布有一组引流槽(109)。
3.如权利要求1所述的刻蚀机刻蚀气体进气结构，其特征在于：所述刻蚀气体分流盘(1)上还设置有盖板(2)，盖板(2)上设置有与内圈进气通道(106)连通的内圈进气管(3)和与外圈进气通道(107)连通的外圈进气管(4)。
Priority Applications (1)
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Country Status (1)
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2021
- 2021-11-16 CN CN202122802888.9U patent/CN216250635U/zh active Active
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