CN216213262U - 面板蚀刻设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种面板蚀刻设备，该面板蚀刻设备包括真空壳体、上电极组件、下电极组件和驱动组件，上电极组件和下电极组件均设在真空壳体内且相对平行设置，驱动组件与下电极组件相连，驱动组件用于驱动下电极组件朝向靠近或者远离上电极组件的方向运动。该面板蚀刻设备能够根据实际需要调整上电极组件和下电极组件之间的间距，较好地满足多种尺寸的面板蚀刻以及不同参数蚀刻要求。

Description

面板蚀刻设备

技术领域

本实用新型涉及面板蚀刻技术领域，尤其涉及一种面板蚀刻设备。

背景技术

干法蚀刻是用等离子体进行薄膜蚀刻的技术。当气体以等离子体形式存在时，它具备两个特点：一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，根据被蚀刻材料的不同，选择合适的气体，就可以更快地与材料进行反应，实现蚀刻去除的目的；另一方面，还可以利用电场对等离子体进行引导和加速，使其具备一定能量，当其轰击被蚀刻物的表面时，会将被蚀刻物材料的原子击出，从而达到利用物理上的能量转移来实现蚀刻的目的。

如图1所示，目前采用干法蚀刻对面板进行蚀刻的面板蚀刻设备包括真空壳体1’、上电极2’和下电极3’。真空壳体1’具有气体入口和气体出口，从而将工艺气体通入真空壳体1’内。现有的面板蚀刻设备的缺陷为：由于上电极2’和下电极3’之间的间距是固定的，上电极2’和下电极3’之间的电场强度只能通过调整电压实现，从而使得面板蚀刻设备的兼容性较差，不能较好地符合多种尺寸的面板蚀刻以及满足不同参数蚀刻要求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种面板蚀刻设备，该面板蚀刻设备能够根据实际需要调整上电极组件和下电极组件之间的间距，较好地满足多种尺寸的面板蚀刻以及不同参数蚀刻要求。

为实现上述技术效果，本实用新型的技术方案如下：

提供一种面板蚀刻设备，包括真空壳体、上电极组件和下电极组件，所述上电极组件和所述下电极组件均设在所述真空壳体内且相对平行设置，所述面板蚀刻设备还包括驱动组件，所述驱动组件与所述下电极组件相连，所述驱动组件用于驱动所述下电极组件朝向靠近或者远离所述上电极组件的方向运动。

作为面板蚀刻设备的一种优选方案，所述驱动组件包括：驱动件，所述驱动件设在所述真空壳体的外侧；传动件，所述传动件的一侧与所述驱动件的输出端相连，所述传动件的另一侧设有多个连接部，所述连接部穿过所述真空壳体与所述下电极组件相连。

作为面板蚀刻设备的一种优选方案，所述驱动件包括电动推杆或者气动推杆。

作为面板蚀刻设备的一种优选方案，所述面板蚀刻设备还包括滑动密封组件，所述滑动密封组件连接在所述真空壳体上且套设在所述连接部上。

作为面板蚀刻设备的一种优选方案，所述真空壳体上设有台阶孔，所述台阶孔包括第一孔和第二孔，所述第一孔的尺寸小于所述第二孔的尺寸；所述滑动密封组件包括：密封套，所述密封套套设在所述连接部上，所述密封套包括止抵部和套筒部，所述止抵部位于所述第二孔内，所述套筒部位于第一孔内；密封圈，所述密封圈套设在所述连接部上，且配合设在所述套筒部内；密封压板，所述密封压板通过固定件连接在所述真空壳体上，且用于压紧所述密封套。

作为面板蚀刻设备的一种优选方案，所述台阶孔还包括第三孔，所述第三孔的尺寸大于所述第二孔，所述密封压板配合在所述第三孔内。

作为面板蚀刻设备的一种优选方案，所述止抵部的朝向所述密封压板的一侧及朝向所述套筒部的一侧均设有密封槽，所述密封槽内设有密封件。

作为面板蚀刻设备的一种优选方案，所述下电极组件包括：绝缘座，所述绝缘座与所述驱动组件相连；冷却盘，所述冷却盘设在所述绝缘座上；下电极板，所述下电极板设在所述冷却盘上，且所述下电极板朝向所述上电极组件的一侧用于放置面板；陶瓷件，所述陶瓷件环绕所述下电极板设置。

作为面板蚀刻设备的一种优选方案，所述下电极组件还包括隔板，所述隔板的一端连接在所述陶瓷件上，另一端朝向靠近所述真空壳体的内侧壁延伸设置，且与所述真空壳体的内侧壁间隔设置。

作为面板蚀刻设备的一种优选方案，所述下电极板上设有避让槽，所述避让槽位于所述面板放置在所述下电极板时的垂直投影之内。

本实用新型的面板蚀刻设备的有益效果：由于下电极组件上连接有驱动组件，在实际工作过程中，驱动组件能够驱动下电极组件朝向靠近或者远离上电极组件的方向运动，使得上电极组件和下电极组件之间的间距发生变化，调整上电极组件和下电极组件之前的电场大小，使得该面板蚀刻设备能够符合不同尺寸以及不同蚀刻参数的蚀刻工艺的要求，提升了面板蚀刻设备的兼容性，拓展了面板蚀刻设备的适用范围。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

图1是现有技术的面板蚀刻设备的结构示意图；

图2是本实用新型实施例的面板蚀刻设备的结构示意图；

图3是图2圈示A处的放大示意图。

附图标记：

图1中：

1’、真空壳体；2’、上电极；3’、下电极；

图2-图3中：

1、真空壳体；11、台阶孔；111、第一孔；112、第二孔；113、第三孔；

2、上电极组件；

3、下电极组件；31、绝缘座；32、冷却盘；33、下电极板；331、避让槽；34、陶瓷件；35、隔板；

4、驱动组件；41、驱动件；42、传动件；421、连接部；

5、滑动密封组件；51、密封套；511、止抵部；5111、密封槽；512、套筒部；52、密封圈；53、密封压板；54、密封件；6、固定件；

7、面板。

具体实施方式

参考下面结合附图详细描述的实施例，本实用新型的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本实用新型不限于以下公开的实施例，而是可以以各种不同的形式来实现，提供本实施例仅仅是为了完成本实用新型的公开并且使本领域技术人员充分地了解本实用新型的范围，并且本实用新型仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。

以下，参照附图2和附图3来详细描述本实用新型。

本实用新型提供一种面板蚀刻设备，如图2所示，该面板蚀刻设备包括真空壳体1、上电极组件2、下电极组件3和驱动组件4，上电极组件2和下电极组件3均设在真空壳体1内且间隔设置，驱动组件4与下电极组件3相连，驱动组件4用于驱动下电极组件3朝向靠近或者远离上电极组件2的方向运动。

可以理解的是，在实际工作过程中，可以根据面板7的尺寸以及蚀刻的要求控制驱动组件4驱动下电极组件3朝向靠近或者远离上电极组件2的方向运动，使得上电极组件2和下电极组件3之间的间距发生变化，调整上电极组件2和下电极组件3之前的电场大小，从而使得本实施例的面板蚀刻设备具有根据面板7尺寸和蚀刻要求调整上电极组件2和下电极组件3间距的功能，使得该面板蚀刻设备能够符合不同尺寸以及不同蚀刻参数的蚀刻工艺的要求，提升了面板蚀刻设备的兼容性，拓展了面板蚀刻设备的适用范围。

在一些实施例中，如图2所示，驱动组件4包括驱动件41和传动件42，驱动件41设在真空壳体1的外侧，传动件42的一侧与驱动件41的输出端相连，传动件42的另一侧设有多个连接部421，连接部421穿过真空壳体1与下电极组件3相连。可以理解的是，在实际设备中，下电极组件3的尺寸一般都较大，如果仅仅采用一个驱动件41直接驱动下电极组件3朝向靠近或者远离上电极组件2的方向运动，那么运动过程中下电极组件3发生歪斜的可能性就会提升。在本实施例中，驱动件41驱动传动件42相连，传动件42上的多个连接部421与下电极组件3相连，这样确保了驱动件41工作时，下电极组件3能够稳定地上下运动，避免了下电极组件3发生歪斜的现象，从而间接地保证了面板7能够保持水平地安放在下电极组件3上。

优选的，连接部421为多排多列分布。多排多列分布的连接部421能够提升下电极组件3的稳定性，从而确保驱动件41工作时下电极组件3能够稳定地朝向靠近或者远离上电极组件2的方向运动。

需要补充说明的是，在本实用新型连接部421的个数和实际排布方式可以根据实际需要选择，在此不对连接部421的个数以及实际排布方式做出限定。

在一些具体的实施例中，驱动件41包括电动推杆或者气动推杆。可以理解的是，采用电动推杆或者气动推杆作为驱动件41无需配备其他连接结构，例如丝杠螺母等连接结构，从而简化了整个驱动组件4的结构。

在一些实施例中，如图2所示，面板蚀刻设备还包括滑动密封组件5，滑动密封组件5连接在真空壳体1上且套设在连接部421上。可以理解的是，由于连接部421需要穿过真空壳体1，如果连接部421和真空壳体1之间的密封性不好就会使得外部的空气从连接部421和真空壳体1的缝隙进入真空壳体1。而在本实施例中，增设的滑动密封组件5能够确保连接部421与真空壳体1之间的连接密封性，从而避免外部空气从连接部421和真空壳体1的缝隙进入真空壳体1，确保蚀刻稳步进行。

在一些具体的实施例中，如图3所示，真空壳体1上设有台阶孔11，台阶孔11包括第一孔111和第二孔112，第一孔111的尺寸小于第二孔112的尺寸；滑动密封组件5包括密封套51、密封圈52和密封压板53，密封套51套设在连接部421上，且包括止抵部511和套筒部512，止抵部511位于第二孔112内，套筒部512位于第一孔111内，密封圈52套设在连接部421上，且配合在套筒部512内，密封压板53通过固定件6连接在真空壳体1上，且用于压紧密封套51。可以理解的是，密封圈52配合在连接部421上，在不影响连接部421的上下运动的前提下，能够提升连接部421与密封套51的连接密封性，而密封套51坐落在真空壳体1的台阶孔11上，连接部421与密封套51的连接密封性件较好，就意味着连接部421与真空壳体1在保持能够相对运动的前提下，具有较好地密封性。此外，密封压板53能够提升密封套51与真空壳体1的连接稳定性，从而间接地保证了连接部421与密封套51之间的连接稳定性。

有利地，密封圈52为间隔设置的多个。由此，能够进一步提升连接部421和密封套51的连接密封性。

需要补充说明的是，在本实用新型的实施例中，固定件6可以根据实际需要选择螺钉、销钉或者其他连接件，在此不对固定件6的具体类型进行限定。

在一些更具体的实施例中，台阶孔11还包括第三孔113，第三孔113的尺寸大于第二孔112，密封压板53配合在第三孔113内。由此，能够避免密封压板53凸出真空壳体1，提升了面板蚀刻设备的美观程度。

在一些实施例中，止抵部511的朝向密封压板53的一侧及朝向套筒部512的一侧均设有密封槽5111，密封槽5111内设有密封件54。可以理解的是，止抵部511和密封压板53之间以及止抵部511和第二孔112的底壁之间均设有密封件54，增设的密封件54能够提升密封套51和密封压板53，以及密封套51和真空壳体1之间的连接密封性，从而避免外部空气进入真空壳体1的现象发生。

在一些实施例中，下电极组件3包括绝缘座31、冷却盘32、下电极板33和陶瓷件34，绝缘座31与驱动组件4相连，冷却盘32设在绝缘座31上，下电极板33设在冷却盘32上，且下电极板33朝向上电极组件2的一侧用于放置面板7，陶瓷件34环绕下电极板33设置。可以理解的是，冷却盘32能够降低下电极板33的温度，从而避免工作过程中出现电极板33的温度过低的现象。绝缘座31能够将下电极板33和真空壳体1隔开，避免真空壳体1带电的现象发生，陶瓷件34能够较好地保护下电极板33，从而延长下电极板33的使用寿命。

在一些实施例中，下电极组件3还包括隔板35，隔板35的一端连接在陶瓷件34上，另一端朝向靠近真空壳体1的内侧壁延伸设置，且与真空壳体1的内侧壁间隔设置。

可以理解的是，由于面板7位于下电极组件3和上电极组件2之间，在实际工作过程中需要将工艺气体尽可能地保持在下电极组件3和上电极组件2之间，本实施例增设的隔板35能够降低工艺气体朝向下电极组件3和真空壳体1的底壁之间的空间扩散，从而确保工艺气体尽可能地保持在下电极组件3和上电极组件2之间。此外，由于隔板35的另一端与真空壳体1的内侧壁间隔设置，避免了整个下电极组件3升降过程中出现隔板35剐蹭下电极组件3的现象发生。

在一些具体的实施例中，下电极板33上设有避让槽331，避让槽331位于面板7放置在下电极板33时的垂直投影之内。可以理解的是，下电极板33与面板7的接触面积越大，下电极板33和面板7之间就容易堆积蚀刻异物，本实施例中，下电极板33上设有避让槽331，在确保下电极板33能够稳定地支撑面板7的前提下，降低了下电极板33和面板7之间的接触面积，从而避免电极板和面板7之间就堆积蚀刻异物的现象发生。

尽管上面已经参考附图描述了本实用新型的实施例，但是本实用新型不限于以上实施例，而是可以以各种形式制造，并且本领域技术人员将理解，在不改变本实用新型的技术精神或基本特征的情况下，可以以其他特定形式来实施本实用新型。因此，应该理解，上述实施例在所有方面都是示例性的而不是限制性的。

Claims (10)

1.一种面板蚀刻设备，包括真空壳体、上电极组件和下电极组件，所述上电极组件和所述下电极组件均设在所述真空壳体内且相对平行设置，其特征在于，所述面板蚀刻设备还包括驱动组件，所述驱动组件与所述下电极组件相连，所述驱动组件用于驱动所述下电极组件朝向靠近或者远离所述上电极组件的方向运动。

2.根据权利要求1所述的面板蚀刻设备，其特征在于，所述驱动组件包括：

驱动件，所述驱动件设在所述真空壳体的外侧；

传动件，所述传动件的一侧与所述驱动件的输出端相连，所述传动件的另一侧设有多个连接部，所述连接部穿过所述真空壳体与所述下电极组件相连。

3.根据权利要求2所述的面板蚀刻设备，其特征在于，所述驱动件包括电动推杆或者气动推杆。

4.根据权利要求2所述面板蚀刻设备，其特征在于，所述面板蚀刻设备还包括滑动密封组件，所述滑动密封组件连接在所述真空壳体上且套设在所述连接部上。

5.根据权利要求4所述的面板蚀刻设备，其特征在于，所述真空壳体上设有台阶孔，所述台阶孔包括第一孔和第二孔，所述第一孔的尺寸小于所述第二孔的尺寸；所述滑动密封组件包括：

密封套，所述密封套套设在所述连接部上，且所述密封套包括止抵部和套筒部，所述止抵部位于所述第二孔内，所述套筒部位于所述第一孔内；

密封圈，所述密封圈套设在所述连接部上，且配合设在所述套筒部内；

密封压板，所述密封压板通过固定件连接在所述真空壳体上，且用于压紧所述密封套。

6.根据权利要求5所述的面板蚀刻设备，其特征在于，所述台阶孔还包括第三孔，所述第三孔的尺寸大于所述第二孔，所述密封压板配合在所述第三孔内。

7.根据权利要求5所述的面板蚀刻设备，其特征在于，所述止抵部的朝向所述密封压板的一侧及朝向所述套筒部的一侧均设有密封槽，所述密封槽内设有密封件。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的面板蚀刻设备，其特征在于，所述下电极组件包括：

绝缘座，所述绝缘座与所述驱动组件相连；

冷却盘，所述冷却盘设在所述绝缘座上；

下电极板，所述下电极板设在所述冷却盘上，且所述下电极板朝向所述上电极组件的一侧用于放置面板；

陶瓷件，所述陶瓷件环绕所述下电极板设置。

9.根据权利要求8所述的面板蚀刻设备，其特征在于，所述下电极组件还包括隔板，所述隔板的一端连接在所述陶瓷件上，另一端朝向靠近所述真空壳体的内侧壁延伸设置，且与所述真空壳体的内侧壁间隔设置。

10.根据权利要求8所述的面板蚀刻设备，其特征在于，所述下电极板上设有避让槽，所述避让槽位于所述面板放置在所述下电极板时的垂直投影之内。

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