CN216192670U - 双开式遮蔽构件及薄膜沉积机台 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种双开式遮蔽构件及薄膜沉积机台，主要包括一第一及一第二遮蔽板、至少一驱动马达及一轴封装置，其中驱动马达通过轴封装置的外管体及轴体分别连接第一及第二遮蔽板，驱动第一及第二遮蔽板朝相反方向摆动，并在一开启状态及一遮蔽状态之间切换。第一及第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，以减少第一及第二遮蔽板的重量，并减轻驱动马达承载及驱动第一及第二遮蔽板的负担。

Description

双开式遮蔽构件及薄膜沉积机台

技术领域

本实用新型有关于一种双开式遮蔽构件，主要于遮板板上设置至少一凹槽，以减少第一及第二遮蔽板的重量，并减轻驱动马达承载及驱动第一及第二遮蔽板的负担。

背景技术

化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)及原子层沉积(ALD)皆是常用的薄膜沉积设备，并普遍被使用在集成电路、发光二极管及显示器等制程中。

沉积设备主要包括一腔体及一晶圆承载盘，其中晶圆承载盘位于腔体内，并用以承载至少一晶圆。以物理气相沉积为例，腔体内需要设置一靶材，其中靶材面对晶圆承载盘上的晶圆。在进行物理气相沉积时，可将惰性气体及/或反应气体输送至腔体内，分别对靶材及晶圆承载盘施加偏压，并通过晶圆承载盘加热承载的晶圆。

腔体内的惰性气体因为高压电场的作用，形成离子化的惰性气体，离子化的惰性气体会受到靶材上的偏压吸引而轰击靶材。从靶材溅出的靶材原子或分子受到晶圆承载盘上的偏压吸引，并沉积在加热的晶圆的表面，以在晶圆的表面形成薄膜。

在经过一段时间的使用后，腔体的内表面会形成沉积薄膜，因此需要周期性的清洁腔体，以避免沉积薄膜在制程中掉落，进而污染晶圆。此外靶材的表面亦可能形成氧化物或其他污染物，因此同样需要周期性的清洁靶材。一般而言，通常会通过预烧(burn-in)制程，以电浆离子撞击腔体内的靶材，以去除靶材表面的氧化物或其他污染物。

在进行上述清洁腔体及靶材时，需要将腔体内的晶圆承载盘及晶圆取出，或者隔离晶圆承载盘，以避免清洁过程中污染晶圆承载盘及晶圆。

实用新型内容

薄膜沉积机台在经过一段时间的使用后，通常需要进行清洁，以去除腔室内沉积的薄膜及靶材上的氧化物或氮化物。在清洁的过程中产生的微粒会污染承载盘，因此需要隔离承载盘及污染物。本实用新型提出一种双开式遮蔽构件及薄膜沉积机台，主要通过驱动装置带动两个遮蔽板朝相反方向摆动，使得两个遮蔽板在开启状态及遮蔽状态之间切换。

在清洁反应腔体时，驱动装置带动两个遮蔽板以摆动的方式相互靠近，使得两个遮蔽板相靠近并遮挡容置空间内的承载盘，以避免清洁过程中使用的电浆或产生的污染接触承载盘及/或其承载的基板。在进行沉积制程时，驱动装置带动两个遮蔽板以摆动的方式相互远离，以对反应腔体内的基板进行薄膜沉积。

本实用新型的一目的，在于提供一种具有双开式遮蔽构件的薄膜沉积机台，主要包括一反应腔体、一承载盘及一双开式遮蔽构件。双开式遮蔽构件包括一驱动装置及两个遮蔽板，其中驱动装置连接并驱动两个遮蔽板分别朝相反方向摆动，使得两个遮蔽板操作在一开启状态及一遮蔽状态。

两个遮蔽板面对承载盘的表面上设置至少一凹槽，可在不影响遮蔽板的遮蔽效果的前提下，减少遮蔽板的重量。通过减少遮蔽板的重量，将有利于减轻驱动装置驱动遮蔽板转动的负担。

具体而言，驱动装置通过两个连接臂分别连接并承载两个遮蔽板，通过在遮蔽板上设置至少一凹槽，可减少连接臂承载遮蔽板的负担。此外可进一步在连接臂上设置至少一穿孔部，可在不影响连接臂的结构强度的前提下减少连接臂的重量，并有利于驱动装置通过两个连接臂分别驱动两个遮蔽板朝相反方向摆动。

本实用新型的一目的，在于提供一种具有双开式遮蔽构件的薄膜沉积机台，包括一驱动装置、两个遮蔽板、两个连接臂及两个距离感测单元，其中驱动装置通过两个连接臂分别连接两个遮蔽板。遮蔽板的表面上设置少一凹槽，而连接臂上则设置至少一穿孔部，以减少遮蔽板及连接臂的重量。

此外两个连接臂上分别设置一反射面，当两个连接臂操作在遮蔽状态时，两个距离感测单元发出的感测光束会投射在两个连接臂的反射面上，并量测两个连接臂与两个距离感测单元之间的距离，以确定两个连接臂操作在遮蔽状态。

本实用新型的一目的，在于提供一种具有双开式遮蔽构件的薄膜沉积机台，主要包括一反应腔体、一承载盘及一双开式遮蔽构件。双开式遮蔽构件包括一驱动装置及两个遮蔽板，其中驱动装置包括一轴封装置及一驱动马达。

驱动马达分别通过轴封装置的外管体及轴体连接两个驱动板，其中外管体及/或轴体的侧边设置两个感测单元，用以确认外管体及/或轴体转动的角度，并由外管体及/或轴体的角度判断两个遮蔽板操作在遮蔽状态或开启状态。

为了达到上述的目的，本实用新型提出一种薄膜沉积机台，包括：一反应腔体，包括一容置空间；一承载盘，位于容置空间内，并用以承载至少一基板；及一双开式遮蔽构件，包括：一第一遮蔽板，位于容置空间内；一第二遮蔽板，位于容置空间内，其中第一遮蔽板及第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，朝向承载盘的方向；及一驱动装置，包括：一轴封装置，连接第一遮蔽板及第二遮蔽板；至少一驱动马达，连接轴封装置，并经由轴封装置分别驱动第一遮蔽板及第二遮蔽板朝相反的方向摆动，使得第一遮蔽板及第二遮蔽板在一开启状态及一遮蔽状态之间切换，其中操作在开启状态的第一遮蔽板及第二遮蔽板之间会形成一间隔空间，而操作在遮蔽状态的第一遮蔽板及第二遮蔽板会相互靠近，并用以遮挡承载盘。

本实用新型提出一种双开式遮蔽构件，适用于一薄膜沉积机台，包括：一第一遮蔽板；一第二遮蔽板，其中第一遮蔽板及第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，设置在第一遮蔽板及第二遮蔽板的一下表面；及一驱动装置，包括：一轴封装置，连接第一遮蔽板及第二遮蔽板；至少一驱动马达，连接轴封装置，并经由轴封装置分别驱动第一遮蔽板及第二遮蔽板朝相反的方向摆动，使得第一遮蔽板及第二遮蔽板在一开启状态及一遮蔽状态之间切换，其中操作在开启状态的第一遮蔽板及部分第二遮蔽板之间会形成一间隔空间，而操作在遮蔽状态的第一遮蔽板及第二遮蔽板会相互靠近，并形成一遮蔽件。

所述的薄膜沉积机台及双开式遮蔽构件，其中轴封装置包括一外管体及一轴体，外管体包括一空间用以容置轴体，驱动马达通过轴体连接第一遮蔽板，通过外管体连接第二遮蔽板，并同步驱动轴体及外管体朝相反的方向转动。

所述的薄膜沉积机台及双开式遮蔽构件，包括两个感测单元与外管体相邻，两个感测单元之间具有一间距，并分别用以感测外管体转动至一第一位置及一第二位置，其中外管体转动至第一位置时，第二遮蔽板操作在开启状态，而外管体转动至第二位置时，第二遮蔽板操作在遮蔽状态。

所述的薄膜沉积机台及双开式遮蔽构件，包括一第一连接臂及一第二连接臂，轴体通过第一连接臂连接第一遮蔽板，而外管体则通过第二连接臂连接第二遮蔽板，第一连接臂及第二连接臂上设置至少一穿孔部。

所述的薄膜沉积机台及双开式遮蔽构件，包括一第一距离感测单元及一第二距离感测单元，而第一连接臂具有一第一反射面，第二连接臂则具有一第二反射面，其中第一距离感测单元及第二距离感测单元设置在反应腔体上，并分别用以将一第一感测光束及一第二感测光束投射至第一连接臂的第一反射面及第二连接臂的第二反射面，以确认第一遮蔽板及第二遮蔽板操作在遮蔽状态。

本实用新型的有益效果是：提供一种新颖的双开式遮蔽构件，主要于遮板板上设置至少一凹槽，以减少第一及第二遮蔽板的重量，并减轻驱动马达承载及驱动第一及第二遮蔽板的负担。

附图说明

图1为本实用新型薄膜沉积机台操作在遮蔽状态一实施例的侧面剖面示意图。

图2为本实用新型双开式遮蔽构件的立体分解示意图。

图3为本实用新型双开式遮蔽构件的遮蔽板一实施例的立体示意图及部分剖面示意图。

图4为本实用新型双开式遮蔽构件的连接臂一实施例的俯视图。

图5为本实用新型双开式遮蔽构件的驱动装置一实施例的立体剖面示意图。

图6为本实用新型薄膜沉积机台操作在遮蔽状态一实施例的构造示意图。

图7为本实用新型薄膜沉积机台操作在开启状态一实施例的构造示意图。

附图标记说明：10-薄膜沉积机台；100-双开式遮蔽构件；11-反应腔体；111-挡件；112-开口；113-感测区；12-容置空间；131-感测单元；141-第一连接臂；1411-第一反射面；1413-第一凸出部；142-穿孔部；143-第二连接臂；1431-第二反射面；1433-第二凸出部；144-定位凹部；15-遮蔽件；151-第一遮蔽板；153-第二遮蔽板；154-凹槽；156-定位凸部；161-靶材；163-基板；165-承载盘；17-驱动装置；171-驱动马达；1711-第一驱动马达；1713-第二驱动马达；173-轴封装置；1731-轴体；1733-外管体；1735-传动单元；1737-固定管体；191-第一距离感测单元；193-第二距离感测单元；195-遮蔽板感测单元；L1-第一感测光束；L2-第二感测光束。

具体实施方式

请参阅图1，为本实用新型薄膜沉积机台操作在遮蔽状态一实施例的侧面剖面示意图。如图所示，薄膜沉积机台10主要包括一反应腔体11、一承载盘165及一双开式遮蔽构件100，其中反应腔体11包括一容置空间12用以容置承载盘165及部分的双开式遮蔽构件100。

承载盘165位于反应腔体11的容置空间12内，并用以承载至少一基板163。以薄膜沉积机台10为物理气相沉积腔体为例，反应腔体11内设置一靶材161，其中靶材161面对基板163及承载盘165。例如靶材161可设置在反应腔体11的上表面，并朝向位于容置空间12内的承载盘165及/或基板163。

请配合参阅图2，双开式遮蔽构件100包括一第一遮蔽板151、一第二遮蔽板153及一驱动装置17，其中第一遮蔽板151及第二遮蔽板153位于容置空间12内。驱动装置17连接第一遮蔽板151及第二遮蔽板153，并分别驱动第一遮蔽板151及第二遮蔽板153朝相反方向摆动，使得第一遮蔽板151及第二遮蔽板153在遮蔽状态及开启状态之间切换，例如第一遮蔽板151及第二遮蔽板153以驱动装置17为轴心同步摆动。

本实用新型实施例所述的第一遮蔽板151及第二遮蔽板153操作在遮蔽状态，可被定义为第一遮蔽板151及第二遮蔽板153相互靠近，并形成一遮蔽件15，以遮挡承载盘165。具体而言，操作在遮蔽状态的第一遮蔽板151及第二遮蔽板153不会直接接触，两者之间的间距小于一门坎值，例如小于1mm，以防止第一遮蔽板151及第二遮蔽板153在接触过程中产生微粒。

请配合参阅图3，第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的表面可设置至少一凹槽154，通过凹槽154的设置可减少第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的重量，同时亦不会影响第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的遮蔽效果。例如第一遮蔽板151及第二遮蔽板153可为钛，凹槽154的深度约为第一遮蔽板151及第二遮蔽板153厚度的30％至70％之间，凹槽154的截面积约为第一遮蔽板151及第二遮蔽板153面积的30％至70％之间。此外凹槽154的底部及侧边之间可设置一圆角或倒角。

具体而言，第一遮蔽板151及第二遮蔽板153可为半圆形的板体，而凹槽154可以是部份环状凹槽，例如二分之一环状凹槽或四分之一环状凹槽，并靠近第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的外侧或径向外侧。此外凹槽154可以对称的方式设置在第一遮蔽板151及第二遮蔽板153上，以避免因为设置凹槽154而改变第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的质量重心。

在本实用新型一实施例中，操作在遮蔽状态的第一遮蔽板151及第二遮蔽板153用以遮蔽承载盘165，其中第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的下表面朝向承载盘165，并将凹槽154设置在第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的下表面，使得凹槽154面对承载盘165。

在本实用新型一实施例中，驱动装置17通过第一连接臂141及一第二连接臂143分别连接并驱动第一遮蔽板151及第二遮蔽板153朝相反方向摆动或转动，例如第一连接臂141及第二连接臂143类似剪刀，其中第一连接臂141及第二连接臂143分别用以承载第一遮蔽板151及第二遮蔽板153。通过减少第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的重量，可降低第一连接臂141及第二连接臂143的负担，以避免第一连接臂141及第二连接臂143变形或断裂。

请配合参阅图4，第一连接臂141及第二连接臂143分别设置至少一穿孔部142，以减少第一连接臂141及第二连接臂143的重量。此外在第一连接臂141及第二连接臂143上设置穿孔部142，亦不会降低第一连接臂141及第二连接臂143的结构强度。

在本实用新型一实施例中，第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的表面亦可设置复数个定位凸部156，其中定位凸部156与凹槽154设置在第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的同一表面上，例如下表面。第一连接臂141及第二连接臂143用以承载第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的表面则设置复数个定位凹部144，通过定位凸部156及定位凹部144的设置，可将第一遮蔽板151及第二遮蔽板153分别放置在第一连接臂141及第二连接臂143的固定位置，并可避免第一遮蔽板151及第二遮蔽板153相对于第一连接臂141及第二连接臂143位移。

上述在第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的下表面设置定位凸部156，并于第一连接臂141及第二连接臂143的上表面设置定位凹部144仅为本实用新型一实施例，而非本实用新型权利范围的限制。

在不同实施例中，亦可于第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的下表面设置定位凹部，并于第一连接臂141及第二连接臂143的上表面设置定位凸部。例如可于第一连接臂141及第二连接臂143上设置复数个螺孔，并将螺丝锁固在螺孔上，以在第一连接臂141及第二连接臂143的上表面形成定位凸部，并通过凸出第一连接臂141及第二连接臂143上表面的螺丝与第一遮蔽板151及第二遮蔽板153下表面的定位凹部对位。

在本实用新型一实施例中，请配合参阅图5，驱动装置17包括一驱动马达171及一轴封装置173，其中驱动马达171通过轴封装置173连接第一遮蔽板151及第二遮蔽板153，并通过轴封装置173分别驱动第一遮蔽板151及第二遮蔽板153朝相反方向摆动，使得第一遮蔽板151及第二遮蔽板153在一开启状态及一遮蔽状态之间切换。

具体而言，轴封装置173包括一外管体1733及一轴体1731，其中外管体1733包括一空间用以容置轴体1731，而驱动马达171则同步驱动外管体1733及轴体1731朝相反方向转动。

外管体1733及轴体1731同轴设置，且外管体1733及轴体1731可相对转动。驱动马达171通过轴体1731连接第一连接臂141，并经由第一连接臂141连接并带动第一遮蔽板151摆动。驱动马达171通过外管体1733连接第二连接臂143，并经由第二连接臂143连接并带动第二遮蔽板153摆动。

轴封装置173可以是一般常见的轴封，主要用以隔离反应腔体11的容置空间12与外部的空间，以维持容置空间12的真空。例如外管体1733位于一固定管体1737内，并通过复数个轴承连接一固定管体1737，而轴体1731则通过复数个轴承连接外管体1733。在本实用新型另一实施例中，轴封装置173可以是磁流体轴封，并包括复数个轴承、至少一永久磁铁、至少一磁极片及至少一磁性流体。

驱动马达171的数量可为一个，如图2所示，其中驱动马达171通过一连动机构同时带动轴体1731及外管体1733朝相反方向转动。在本实用新型另一实施例中，如图5所示，驱动马达171的数量可为两个，分别为第一驱动马达1711及第二驱动马达1713。第一驱动马达1711连接并带动轴体1731转动，并经由轴体1731及第一连接臂141带动第一遮蔽板151摆动。第二驱动马达1713通过一传动单元1735带动外管体1733转动，例如传动单元1735可为传动带，并经由外管体1733及第二连接臂143带动第二遮蔽板153摆动。

一般而言，可通过第一驱动马达1711转动的角度得知轴体1731转动的角度或位置，并通过第二驱动马达1713转动的角度得知外管体1733转动的角度或位置。然而第二驱动马达1713在驱动外管体1733转动的过程中，传动单元1735有可能会相对于第二驱动马达1713及外管体1733滑动。如此一来便无法以第二驱动马达1713转动的角度，正确的判断外管体1733是否转动到默认的角度或位置，当然亦无法判断外管体1733连接及驱动的第二遮蔽板153是否正确的操作在遮蔽状态或开启状态。

为此，可于轴封装置173的外管体1733侧边分别设置两个感测单元131，其中两个感测单元131之间具有一间距。例如两个感测单元131与外管体1733的轴心形成一夹角，并分别用以感测外管体1733转动到一第一位置(或第一角度)及一第二位置(或第二角度)。

具体而言，当外管体1733转动第一位置时，会带动第二遮蔽板153转动至开启状态，而当外管体1733转动到第二位置时，则会带动第二遮蔽板153转动至遮蔽状态。外管体1733与第二遮蔽板153之间基本上不会相对转动，因此可通过两个感测单元131感测到外管体1733转动到第一位置或第二位置，确认第二遮蔽板153是否确实操作在开启状态或遮蔽状态。

在本实用新型另一实施例中，轴封装置173的轴体1731的侧边亦可设两个感测单元131，其中两个感测单元131之间具有一间距，并分别用以感测轴体1731转动到一第三位置(或第三角度)及一第四位置(或第四角度)。

当轴体1731转动第三位置时，会带动第一遮蔽板151转动至开启状态，而当轴体1731转动到第四位置时，则会带动第一遮蔽板151转动至遮蔽状态。因此可通过两个感测单元131感测到轴体1731转动到第三位置或第四位置，确认第一遮蔽板151是否确实转动到开启状态或遮蔽状态。

此外为了进一步确认第一遮蔽板151及第二遮蔽板153是否操作在遮蔽状态，如图2、图4及图6所示，本实用新型进一步在第一连接臂141及第二连接臂143上分别设置一第一反射面1411及一第二反射面1431，并于反应腔体11上设置一第一距离感测单元191及一第二距离感测单元193，例如第一距离感测单元191及第二距离感测单元193可以是光学测距仪。

具体而言，第一连接臂141及第二连接臂143分别包括一第一凸出部1413及一第二凸出部1433，并将第一反射面1411及第二反射面1431分别设置在第一凸出部1413及第二凸出部1433上。例如第一凸出部1413及第二凸出部1433分别沿着第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的径向凸出第一连接臂141及第二连接臂143。

第一距离感测单元191与第一连接臂141及第一遮蔽板151设置在反应腔体11的同一侧，其中第一距离感测单元191用以将一第一感测光束L1投射至第一连接臂141。在实际应用时可调整第一距离感测单元191的设置位置，使得第一遮蔽板151操作在遮蔽状态时，第一距离感测单元191产生的第一感测光束L1投射在第一连接臂141的第一反射面1411。此时第一感测光束L1会与第一反射面1411垂直，使得第一距离感测单元191接收到第一反射面1411反射的第一感测光束L1。第一距离感测单元191可由反射的第一感测光束L1量测出第一连接臂141与第一距离感测单元191之间的距离，并由量测的距离判断第一遮蔽板151是否确实操作在遮蔽状态。

第二距离感测单元193与第二连接臂143及第二遮蔽板153设置在反应腔体11的同一侧，其中第二距离感测单元193用以将一第二感测光束L2投射至第二连接臂143。当第二遮蔽板153操作在遮蔽状态时，第二距离感测单元193产生的第二感测光束L2会投射在第二连接臂143的第二反射面1431，其中第二感测光束L2与第二反射面1431垂直，使得第二距离感测单元193可接收到反射的第二感测光束L2，以量测出第二连接臂143与第二距离感测单元193之间的距离，并由量测的距离判断第二遮蔽板153是否确实操作在遮蔽状态。

在本实用新型一实施例中，如图6及图7所示，反应腔体11上分别设置两个感测区113，其中两个感测区113凸出反应腔体11，而第一距离感测单元191及第二距离感测单元193分别设置在两个感测区113。

此外，可进一步在两个感测区113上分别设置一遮蔽板感测单元195，其中两个遮蔽板感测单元195分别用以感测进入两个感测区113的第一遮蔽板151及第二遮蔽板153。当两个遮蔽板感测单元195感测到第一遮蔽板151及第二遮蔽板153时，可判断第一遮蔽板151及第二遮蔽板153操作在开启状态，如图7所示。操作在开启状态时第一遮蔽板151及第二遮蔽板153会相互远离，其中第一遮蔽板151及第二遮蔽板153之间会形成一间隔空间152，使得第一遮蔽板151及第二遮蔽板153不会遮蔽承载盘165。

在本实用新型一实施例中，如图1所示，反应腔体11的容置空间12可设置一挡件111，其中挡件111的一端连接反应腔体11，而挡件111的另一端则形成一开口112。承载盘165朝靶材161靠近时，会进入或接触挡件111形成的开口112。反应腔体11、承载盘165及挡件111会在容置空间12内区隔出一反应空间，并在反应空间内的基板163表面沉积薄膜，可防止在反应空间外的反应腔体11及承载盘165的表面形成沉积薄膜。

本实用新型优点：

提供一种新颖的双开式遮蔽构件，主要于遮板板上设置至少一凹槽，以减少第一及第二遮蔽板的重量，并减轻驱动马达承载及驱动第一及第二遮蔽板的负担。

以上所述，仅为本实用新型的一较佳实施例而已，并非用来限定本实用新型实施的范围，即凡依本实用新型申请专利范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰，均应包括于本实用新型的申请专利范围内。

Claims (10)

1.一种薄膜沉积机台，其特征在于，包括：

一反应腔体，包括一容置空间；

一承载盘，位于该容置空间内，并用以承载至少一基板；

一靶材，位于该反应腔体的该容置空间内，并面对该承载盘；及

一双开式遮蔽构件，包括：

一第一遮蔽板，位于该容置空间内；

一第二遮蔽板，位于该容置空间内，其中该第一遮蔽板及该第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，朝向该承载盘的方向；及

一驱动装置，包括：

一轴封装置，连接该第一遮蔽板及该第二遮蔽板；

至少一驱动马达，连接该轴封装置，并经由该轴封装置分别驱动该第一遮蔽板及该第二遮蔽板朝相反的方向摆动，使得该第一遮蔽板及该第二遮蔽板在一开启状态及一遮蔽状态之间切换，其中操作在该开启状态的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板之间会形成一间隔空间，而操作在该遮蔽状态的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板会相互靠近，并用以遮挡该承载盘。

2.根据权利要求1所述的薄膜沉积机台，其特征在于，其中该轴封装置包括一外管体及一轴体，该外管体包括一空间用以容置该轴体，该驱动马达通过该轴体连接该第一遮蔽板，通过该外管体连接该第二遮蔽板，并同步驱动该轴体及该外管体朝相反的方向转动。

3.根据权利要求2所述的薄膜沉积机台，其特征在于，包括两个感测单元与该外管体相邻，该两个感测单元之间具有一间距，并分别用以感测该外管体转动至一第一位置及一第二位置，其中该外管体转动至该第一位置时，该第二遮蔽板操作在该开启状态，而该外管体转动至该第二位置时，该第二遮蔽板操作在该遮蔽状态。

4.根据权利要求2所述的薄膜沉积机台，其特征在于，包括一第一连接臂及一第二连接臂，该轴体通过该第一连接臂连接该第一遮蔽板，而该外管体则通过该第二连接臂连接该第二遮蔽板，该第一连接臂及该第二连接臂上设置至少一穿孔部。

5.根据权利要求4所述的薄膜沉积机台，其特征在于，包括一第一距离感测单元及一第二距离感测单元，而该第一连接臂具有一第一反射面，该第二连接臂则具有一第二反射面，其中该第一距离感测单元及该第二距离感测单元设置在该反应腔体上，并分别用以将一第一感测光束及一第二感测光束投射至该第一连接臂的该第一反射面及该第二连接臂的该第二反射面，以确认该第一遮蔽板及该第二遮蔽板操作在该遮蔽状态。

6.一种双开式遮蔽构件，其特征在于，适用于一薄膜沉积机台，包括：

一第一遮蔽板；

一第二遮蔽板，其中该第一遮蔽板及该第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，设置在该第一遮蔽板及该第二遮蔽板的一下表面，其中该第一遮蔽板上的该凹槽的截面积为该第一遮蔽板面积的30％至70％之间，而该第二遮蔽板上的该凹槽的截面积为该第二遮蔽板面积的30％至70％之间；及

一驱动装置，包括：

一轴封装置，连接该第一遮蔽板及该第二遮蔽板；

至少一驱动马达，连接该轴封装置，并经由该轴封装置分别驱动该第一遮蔽板及该第二遮蔽板朝相反的方向摆动，使得该第一遮蔽板及该第二遮蔽板在一开启状态及一遮蔽状态之间切换，其中操作在该开启状态的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板之间会形成一间隔空间，而操作在该遮蔽状态的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板会相互靠近，并形成一遮蔽件。

7.根据权利要求6所述的双开式遮蔽构件，其特征在于，其中该轴封装置包括一外管体及一轴体，该外管体包括一空间用以容置该轴体，该驱动马达通过该轴体连接该第一遮蔽板，通过该外管体连接该第二遮蔽板，并同步驱动该轴体及该外管体朝相反的方向转动。

8.根据权利要求7所述的双开式遮蔽构件，其特征在于，包括两个感测单元与该外管体相邻，该两个感测单元之间具有一间距，并分别用以感测该外管体转动至一第一位置及一第二位置，其中该外管体转动至该第一位置时，该第二遮蔽板操作在该开启状态，而该外管体转动至该第二位置时，该第二遮蔽板操作在该遮蔽状态。

9.根据权利要求7所述的双开式遮蔽构件，其特征在于，包括一第一连接臂及一第二连接臂，该轴体通过该第一连接臂连接该第一遮蔽板，而该外管体则通过该第二连接臂连接该第二遮蔽板，该第一连接臂及该第二连接臂上设置至少一穿孔部。

10.根据权利要求9所述的双开式遮蔽构件，其特征在于，其中该第一连接臂具有一第一凸出部，该第一凸出部包括一第一反射面，该第二连接臂则具有一第二凸出部，该第二凸出部包括一第二反射面。

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