CN216145070U - 一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃 - Google Patents
一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型为一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，通过设置有滤光片基体、设置于滤光片基体上表面的上膜层及设置于滤光片基体下表面的下膜层，所述上膜层上设置有上膜Nb2O5层和上膜SiO2层，所述下膜层上设置有下膜Nb2O5层和下膜SiO2层，所述上膜层及下膜层的总层数分别设置为50～60层，所述上膜层的总厚度为2500～3100nm，所述下膜层的总厚度为2500～3100nm。该投影仪专用高透光镀膜光学玻璃主要采用磁控溅射的镀膜技术镀制而成，有效提高了光学穿透区的透过、控制镀膜光谱飘移量及降低非透过区的穿透率。
Description
技术领域
本实用新型涉及滤光片相关技术领域，特别涉及一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃。
背景技术
目前投影仪市场对于亮度与分辨率的要求不断地提高，使用的光源也渐渐由原本的灯泡换成激光光源，因此对于光学组件的规格也越来越高，特别是激光光源对于复合透镜的要求。
实用新型内容
本实用新型的主要目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，用来解决用来解决现有技术中的问题。
为实现上述目的，按照本实用新型提供的技术方案是：所述投影仪专用高透光镀膜光学玻璃包括滤光片基体、设置于滤光片基体上表面的上膜层及设置于滤光片基体下表面的下膜层，所述上膜层上设置有上膜Nb2O5层和上膜SiO2层，所述下膜层上设置有下膜Nb2O5层和下膜SiO2层，所述上膜层及下膜层的总层数分别设置为50～60层，所述上膜层的总厚度为2500～3100nm，所述下膜层的总厚度为2500～3100nm。
作为本实用新型进一步的方案，其特征在于：所述上膜层包括设置为交替堆叠的上膜Nb2O5层和上膜SiO2层。
作为本实用新型进一步的方案，其特征在于：所述上膜层包括设置为依次堆叠的上膜Nb2O5层和上膜SiO2层。
作为本实用新型进一步的方案，其特征在于：所述下膜层包括设置为交替堆叠的下膜Nb2O5层和下膜SiO2层。
作为本实用新型进一步的方案，其特征在于：所述下膜层包括设置为依次堆叠的下膜Nb2O5层和下膜SiO2层。
作为本实用新型进一步的方案，其特征在于：所述上膜层完全地覆盖所述滤光片基体的上表面。
作为本实用新型进一步的方案，其特征在于：所述下膜层完全地覆盖所述滤光片基体的下表面。
作为本实用新型进一步的方案，其特征在于：所述滤光片基体设置为Borofloat玻璃。
作为本实用新型进一步的方案，其特征在于：所述上膜层的总厚度为2800nm。
作为本实用新型进一步的方案，其特征在于：所述下膜层的总厚度为2800nm。
与现有技术相比，本实用新型有益效果：
本投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，通过设置有滤光片基体、设置于滤光片基体上表面的上膜层及设置于滤光片基体下表面的下膜层，所述上膜层上设置有上膜Nb2O5层和上膜SiO2层，所述下膜层上设置有下膜Nb2O5层和下膜SiO2层，所述上膜层及下膜层的总层数分别设置为50～60层，所述上膜层的总厚度为2500～3100nm，所述下膜层的总厚度为2500～3100nm。该投影仪专用高透光镀膜光学玻璃到达了有效提高光学穿透区的透过、控制镀膜光谱飘移量及降低非透过区的穿透率的有益效果。
附图说明
图1为本实用新型一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃的剖面示意图；
图2为本实用新型一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃之上膜层的局部剖面示意图之一；
图3为本实用新型一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃之上膜层的局部剖面示意图之二；
图4为本实用新型一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃之上膜层的局部剖面示意图之三；
图5为本实用新型一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃之下膜层的局部剖面示意图之一；
图6为本实用新型一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃之下膜层的局部剖面示意图之二；
图7为本实用新型一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃之下膜层的局部剖面示意图之三；
图8为本实用新型一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃中三个测试点的折射特性曲线图。
图例中元件说明：1-滤光片基体；2-上膜层；3-下膜层；21-上膜Nb2O5层；22-上膜SiO2层；31-下膜Nb2O5层；32-下膜SiO2层。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参看图1-7，本实用新型实施例中，一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，包括滤光片基体1、设置于滤光片基体1上表面的上膜层2及设置于滤光片基体1下表面的下膜层3，所述上膜层2上设置有上膜Nb2O5层21和上膜SiO2层22，所述下膜层3上设置有下膜Nb2O5层31和下膜SiO2层32，所述上膜层2及下膜层3的总层数分别设置为50～60层，所述上膜层2的总厚度为2500～3100nm，所述下膜层3的总厚度为2500～3100nm。该投影仪专用高透光镀膜光学玻璃主要采用磁控溅射的镀膜技术镀制而成，有效提高光学穿透区的透过率、控制镀膜光谱飘移量及降低非透过区的穿透率。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述上膜层2包括设置为交替堆叠的上膜Nb2O5层21和上膜SiO2层22。例如，上膜层2包括总数为50～60层的上膜Nb2O5层21和上膜SiO2层22，这些上膜Nb2O5层21和上膜SiO2层22交替且重复堆叠。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述上膜层2包括设置为依次堆叠的上膜Nb2O5层21和上膜SiO2层22。例如，上膜层2包括总数为50～60层的上膜Nb2O5层21和上膜SiO2层22，这些上膜Nb2O5层21和上膜SiO2层22依次且重复堆叠。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述下膜层3包括设置为交替堆叠的下膜Nb2O5层31和下膜SiO2层32。例如，下膜层3包括总数为50～60层的下膜Nb2O5层31和下膜SiO2层32，这些下膜Nb2O5层31和下膜SiO2层32交替且重复堆叠。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述下膜层3包括设置为依次堆叠的下膜Nb2O5层31和下膜SiO2层32。例如，下膜层3包括总数为50～60层的下膜Nb2O5层31和下膜SiO2层32，这些下膜Nb2O5层31和下膜SiO2层32依次且重复堆叠。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述上膜层2完全地覆盖所述滤光片基体1的上表面。有效提高该投影仪专用高透光镀膜光学玻璃的整体透光率。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述下膜层3完全地覆盖所述滤光片基体1的下表面。有效提高该投影仪专用高透光镀膜光学玻璃的整体透光率。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述滤光片基体1设置为Borofloat玻璃。采用Borofloat玻璃制作的投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，其热膨胀系数低，有良好的耐高低温冲击的能力。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述上膜层2的总层数分别设置为50层。该层数适中，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述上膜层2的总层数分别设置为55层。该层数适中，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述上膜层2的总层数分别设置为60层。该层数适中，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述下膜层3的总层数分别设置为50层。该层数适中，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述下膜层3的总层数分别设置为55层。该层数适中，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述下膜层3的总层数分别设置为60层。该层数适中，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述上膜层2的总厚度为2500nm。使形成的膜层非常薄，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述上膜层2的总厚度为2800nm。使形成的膜层非常薄，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述上膜层2的总厚度为3100nm。使形成的膜层非常薄，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述下膜层3的总厚度为2500nm。使形成的膜层非常薄，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述下膜层3的总厚度为2800nm。使形成的膜层非常薄，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述下膜层3的总厚度为3100nm。使形成的膜层非常薄，满足高透光性的同时又不影响其外观及安装。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述上膜Nb2O5层21的厚度设置为541nm，所述上膜Nb2O5层21的折射率为2.314。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述下膜Nb2O5层31的厚度设置为541nm，所述下膜Nb2O5层31的折射率为2.314。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述和上膜SiO2层22的厚度设置为528nm，所述上膜SiO2层22的折射率为1.479。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述和下膜SiO2层32的厚度设置为528nm，所述下膜SiO2层32的折射率为1.479。
优选的，上述的一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，所述上膜层2及下膜层3主要采用磁控溅射的镀膜技术镀制而成。
请参看图8，由图中的折射特性曲线可以看出，T>90％@434-700nm，T<1％@300-429nm，即当波长大于434nm时，T一定大于90，当波长小于429nm时，T一定小于1％，该投影仪专用高透光镀膜光学玻璃具有非常高的透光性能。
工作原理：本投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，通过设置有滤光片基体1、设置于滤光片基体1上表面的上膜层2及设置于滤光片基体1下表面的下膜层3，所述上膜层2上设置有上膜Nb2O5层21和上膜SiO2层22，所述下膜层3上设置有下膜Nb2O5层31和下膜SiO2层32，所述上膜层2及下膜层3的总层数分别设置为50～60层，所述上膜层2的总厚度为2500～3100nm，所述下膜层3的总厚度为2500～3100nm。该投影仪专用高透光镀膜光学玻璃主要采用磁控溅射的镀膜技术镀制而成，有效提高了光学穿透区的透过、控制镀膜光谱飘移量及降低非透过区的穿透率。
以上详细说明针对本实用新型之一可行实施例之具体说明，惟实施例并非用以限制本实用新型的专利范围，凡未脱离本实用新型技艺精神所为之等效实施或变更，均应包含于本案之专利范围中。
Claims (10)
1.一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，其特征在于：包括滤光片基体(1)、设置于滤光片基体(1)上表面的上膜层(2)及设置于滤光片基体(1)下表面的下膜层(3)，所述上膜层(2)上设置有上膜Nb2O5层(21)和上膜SiO2层(22)，所述下膜层(3)上设置有下膜Nb2O5层(31)和下膜SiO2层(32)，所述上膜层(2)及下膜层(3)的总层数分别设置为50～60层，所述上膜层(2)的总厚度为2500～3100nm，所述下膜层(3)的总厚度为2500～3100nm。
2.一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，其特征在于：所述上膜层(2)包括设置为交替堆叠的上膜Nb2O5层(21)和上膜SiO2层(22)。
3.一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，其特征在于：所述上膜层(2)包括设置为依次堆叠的上膜Nb2O5层(21)和上膜SiO2层(22)。
4.一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，其特征在于：所述下膜层(3)包括设置为交替堆叠的下膜Nb2O5层(31)和下膜SiO2层(32)。
5.一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，其特征在于：所述下膜层(3)包括设置为依次堆叠的下膜Nb2O5层(31)和下膜SiO2层(32)。
6.一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，其特征在于：所述上膜层(2)完全地覆盖所述滤光片基体(1)的上表面。
7.一种投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，其特征在于：所述下膜层(3)完全地覆盖所述滤光片基体(1)的下表面。
8.根据权利要求1所述的投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，其特征在于：所述滤光片基体(1)设置为Borofloat玻璃。
9.根据权利要求1所述的投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，其特征在于：所述上膜层(2)的总厚度为2800nm。
10.根据权利要求1所述的投影仪专用高透光镀膜光学玻璃，其特征在于：所述下膜层(3)的总厚度为2800nm。
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