CN216054748U - 一种se激光过程通氧装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型属于太阳能电池制备设备技术领域,尤其涉及一种SE激光过程通氧装置,包括喷淋机构、收集机构、气体过滤器和真空泵,所述喷淋机构包括喷淋板和进气管,所述收集机构包括收集板和排气管,所述喷淋板、硅片和收集板从上至下依次设置,所述硅片分别与喷淋板和收集板之间均具有间隙,所述喷淋板靠近硅片的一侧开设有喷气孔,所述收集板靠近硅片的一侧开设有集气孔,所述进气管与喷气孔连通,所述排气管与集气孔连通,所述气体过滤器的进气端与排气管连通,所述气体过滤器的出气端与真空泵的进气端连通。

Description

一种SE激光过程通氧装置
技术领域
本实用新型属于太阳能电池制备设备技术领域,尤其涉及一种SE激光过程通氧装置。
背景技术
在SE-PERC太阳能电池制备过程中,SE激光进行正面重掺杂过程中需通入氧气,可以在正面重掺杂区形成良好的氧化保护层。该保护层能够有效保护激光正面重掺杂区域,在碱抛光过程中不受到破坏,使SE-PERC技术在碱抛光工艺中能发挥更好的优势,克服了SE-PERC技术技术在碱抛光工艺中使用的局限性,从而提高太阳能电池的转换效率。目前氧气直接通入SE激光设备内,氧气不流动,正面重掺杂区的氧气含量较低,导致反应不充分,以及长期运行造成氧气在设备内富集,形成安全隐患。
实用新型内容
为解决现有技术存在的氧气直接通入SE激光设备内,反应不充分,以及氧气在设备内富集的问题,本实用新型提供一种SE激光过程通氧装置。
为解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案如下,一种SE激光过程通氧装置,包括喷淋机构、收集机构、气体过滤器和真空泵,所述喷淋机构包括喷淋板和进气管,所述收集机构包括收集板和排气管,所述喷淋板、硅片和收集板从上至下依次设置,所述硅片分别与喷淋板和收集板之间均具有间隙,所述喷淋板靠近硅片的一侧开设有喷气孔,所述收集板靠近硅片的一侧开设有集气孔,所述进气管与喷气孔连通,所述排气管与集气孔连通,所述气体过滤器的进气端与排气管连通,所述气体过滤器的出气端与真空泵的进气端连通。
作为优选,所述喷气孔的数量为多个,多个所述喷气孔均匀排布在喷淋板上。使进气管通入的氧气通过多个喷气孔均匀的喷洒在硅片正面。
作为优选,所述集气孔的数量为多个,多个所述集气孔均匀排布在收集板上。将使用过的尾气充分的收集,再依次通过排气管、气体过滤器和真空泵排出SE激光设备,避免氧气在SE激光设备内富集产生危险。
进一步地,所述气体过滤器包括过滤壳体和硅粉滤芯,所述硅粉滤芯设置在过滤壳体内。可以将尾气净化,去除里面携带的硅粉,再通过真空泵主体提供的动力,源源不断的及时将尾气排出,一方面可以保护真空泵,另一方面使得尾气排放质量达标。
进一步地,所述喷淋板和收集板设置在SE激光设备的反应室内,所述气体过滤器和真空泵设置在SE激光设备的反应室外。该激光过程通氧装置设置合理可靠,避免对SE激光设备的反应室产生干扰。
有益效果:本实用新型的SE激光过程通氧装置,首先氧气从进气管通入喷淋板内,再从喷气孔持续均匀的喷洒在硅片正面,与硅片充分的接触,形成均匀致密的氧化保护层,同时真空泵持续提供工作动力,将产生的尾气通过集气孔收集至收集板内,再依次通过排气管、气体过滤器和真空泵排出SE激光设备,保证新鲜氧气流量的稳定,避免氧气在SE激光设备内富集产生危险;硅粉滤芯将尾气净化,去除里面携带的硅粉,再通过真空泵主体提供的动力,源源不断的及时将尾气排出,一方面可以保护真空泵,另一方面使得尾气排放质量达标。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域的普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它附图。
图1是本实用新型SE激光过程通氧装置的结构原理示意图;
图中:1、喷淋机构,11、喷淋板,111、喷气孔,12、进气管,2、收集机构,21、收集板,211、集气孔,22、排气管,3、气体过滤器,31、过滤壳体,32、硅粉滤芯,4、真空泵,5、硅片。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的,决不作为对本实用新型及其应用或使用的任何限制。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
实施例1
如图1所示,一种SE激光过程通氧装置,包括喷淋机构1、收集机构2、气体过滤器3和真空泵4,所述喷淋机构1包括喷淋板11和进气管12,所述收集机构2包括收集板21和排气管22,所述喷淋板11、硅片5和收集板21从上至下依次设置,所述硅片5分别与喷淋板11和收集板21之间均具有间隙,所述喷淋板11靠近硅片5的一侧开设有喷气孔111,所述收集板21靠近硅片5的一侧开设有集气孔211,所述进气管12与喷气孔111连通,所述排气管22与集气孔211连通,所述气体过滤器3的进气端与排气管22连通,所述气体过滤器3的出气端与真空泵4的进气端连通。
为了使进气管12通入的氧气通过喷气孔111均匀的喷洒在硅片5正面,在本实施例中,所述喷气孔111的数量为多个,多个所述喷气孔111均匀排布在喷淋板11上。
为了将使用过的尾气充分的收集排出,在本实施例中,所述集气孔211的数量为多个,多个所述集气孔211均匀排布在收集板21上,通过集气孔211、排气管22、气体过滤器3和真空泵4充分排出SE激光设备,避免氧气在SE激光设备内富集产生危险。
为了有效保护真空泵4,以及使得尾气排放质量达标,在本实施例中,所述气体过滤器3包括过滤壳体31和硅粉滤芯32,所述硅粉滤芯32设置在过滤壳体31内。
具体地,在本实施例中,所述喷淋板11和收集板21设置在SE激光设备的反应室内,所述气体过滤器3和真空泵4设置在SE激光设备的反应室外,避免对SE激光设备的反应室产生干扰。
工作原理如下:
首先氧气从进气管12通入喷淋板11内,再从多个喷气孔111持续均匀的喷洒在硅片5正面,与硅片5充分的接触,形成均匀致密的氧化保护层,同时真空泵4持续提供工作动力,将产生的尾气通过多个集气孔211收集至收集板21内,再依次通过排气管22、气体过滤器3和真空泵4排出SE激光设备,保证新鲜氧气流量的稳定,避免氧气在SE激光设备内富集产生危险,其中气体过滤器3去除尾气里面携带的硅粉,净化尾气。
需要注意的是,这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式,而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式也意图包括复数形式,此外,还应当理解的是,当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时,其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本实用新型的范围。同时,应当明白,为了便于描述,附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中,任何具体值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,在未作相反说明的情况下,这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制;方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。
为了便于描述,在这里可以使用空间相对术语,如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等,用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其它器件或特征的空间位置关系。应当理解的是,空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如,如果附图中的器件被倒置,则描述为“在其它器件或构造上方”或“在其它器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其它器件或构造下方”或“在其它器件或构造之下”。因而,示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其它不同方式定位(旋转90度或处于其它方位),并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
此外,需要说明的是,使用“第一”、“第二”等词语来限定零部件,仅仅是为了便于对相应零部件进行区别,如没有另行声明,上述词语并没有特殊含义,因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制。
以上,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种SE激光过程通氧装置,其特征在于:包括喷淋机构(1)、收集机构(2)、气体过滤器(3)和真空泵(4),所述喷淋机构(1)包括喷淋板(11)和进气管(12),所述收集机构(2)包括收集板(21)和排气管(22),所述喷淋板(11)、硅片(5)和收集板(21)从上至下依次设置,所述硅片(5)分别与喷淋板(11)和收集板(21)之间均具有间隙,所述喷淋板(11)靠近硅片(5)的一侧开设有喷气孔(111),所述收集板(21)靠近硅片(5)的一侧开设有集气孔(211),所述进气管(12)与喷气孔(111)连通,所述排气管(22)与集气孔(211)连通,所述气体过滤器(3)的进气端与排气管(22)连通,所述气体过滤器(3)的出气端与真空泵(4)的进气端连通。
2.根据权利要求1所述的SE激光过程通氧装置,其特征在于:所述喷气孔(111)的数量为多个,多个所述喷气孔(111)均匀排布在喷淋板(11)上。
3.根据权利要求1或2所述的SE激光过程通氧装置,其特征在于:所述集气孔(211)的数量为多个,多个所述集气孔(211)均匀排布在收集板(21)上。
4.根据权利要求3所述的SE激光过程通氧装置,其特征在于:所述气体过滤器(3)包括过滤壳体(31)和硅粉滤芯(32),所述硅粉滤芯(32)设置在过滤壳体(31)内。
5.根据权利要求1所述的SE激光过程通氧装置,其特征在于:所述喷淋板(11)和收集板(21)设置在SE激光设备的反应室内,所述气体过滤器(3)和真空泵(4)设置在SE激光设备的反应室外。
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