CN215855134U - 碳化硅无压粉酸洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型的碳化硅无压粉酸洗装置包括酸洗罐、搅拌机构、盐酸进料管、浆料进料管、气体处理机构，所述酸洗罐的上端设有盖板，搅拌机构位于盖板的中心位置，且搅拌机构的搅拌端伸入至酸洗罐内，盐酸进料管、浆料进料管的出液口以及气体处理机构的进气口设置在盖板上，所述气体处理机构包括进气总管、第一风机、导气管、第二风机、中和罐，所述进气总管的进气口与酸洗罐的盖板连通，第一风机的进风口与进气总管连通，第一风机的出风口与导气管的第一端连通，导气管的第二端与酸洗罐的底部连通，以将气体导入酸洗罐的底部，导气管上设有控制阀，以控制气体进入酸洗罐，第二风机的进风口与进气总管连通，第二风机的出风口与中和罐连通。
Description
技术领域
本实用新型涉及碳化硅生产技术领域，尤其涉及一种碳化硅无压粉酸洗装置。
背景技术
碳化硅原理以及加工过程中都会带来杂质，因此需要酸洗装置进行除杂。一般情况下，采用盐酸除杂。由于盐酸容易挥发，尤其是碳化硅浆料一般温度较高，加酸过程会存在部分盐酸挥发的情况发生。随着行业对环保要求的提高，现有技术要通过净化装置对挥发的酸气进行净化。常用的方式是酸碱中和。因此酸洗过程会不可避免地多消耗盐酸和碱液。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种减少盐酸和碱液消耗的碳化硅无压粉酸洗装置。
一种碳化硅无压粉酸洗装置包括酸洗罐、搅拌机构、盐酸进料管、浆料进料管、气体处理机构，所述酸洗罐的上端设有盖板，搅拌机构位于盖板的中心位置，且搅拌机构的搅拌端伸入至酸洗罐内，盐酸进料管、浆料进料管的出液口以及气体处理机构的进气口设置在盖板上，所述气体处理机构包括进气总管、第一风机、导气管、第二风机、中和罐，所述进气总管的进气口与酸洗罐的盖板连通，第一风机的进风口与进气总管连通，第一风机的出风口与导气管的第一端连通，导气管的第二端与酸洗罐的底部连通，以将气体导入酸洗罐的底部，导气管上设有控制阀，以控制气体进入酸洗罐，第二风机的进风口与进气总管连通，第二风机的出风口与中和罐连通，以将酸性气体与碱液进行中和。
优选的，所述搅拌机构包括搅拌电机、搅拌杆、搅拌叶片，所述搅拌电机与酸洗罐的盖板固定连接，搅拌电机的转轴与搅拌杆的上端固定连接，搅拌杆的下端与搅拌叶片固定连接，所述搅拌叶片为直板状，搅拌叶片的末端与酸洗罐的内壁相邻，所述搅拌叶片位于导气管的第二端的下方，以防止与导气管发生干涉。
优选的，所述中和罐包括罐体、喷淋管道、碱液泵，排气管道，所述罐体内设有喷淋管道，喷淋管道的进液口与碱液泵通过管道连通，碱液通过碱液泵输向至喷淋管道，排气管道位于罐体的顶部，以将中和后的气体排出，所述罐体的侧壁上设有进气管道，进气管道位于喷淋管道的下方，所述进气管道的出气口朝下，以便与碱液混合地更充分。
优选的，所述喷淋管道设有若干层，进气管道位于最底层的喷淋管道的下方，以便充分吸收气体中的酸气。
优选的，所述搅拌杆以及搅拌叶片的表面设有碳化硅层，以防止发生腐蚀并引入杂质。
有益效果：本实用新型的碳化硅无压粉酸洗装置包括酸洗罐、搅拌机构、盐酸进料管、浆料进料管、气体处理机构，所述酸洗罐的上端设有盖板，搅拌机构位于盖板的中心位置，且搅拌机构的搅拌端伸入至酸洗罐内，盐酸进料管、浆料进料管的出液口以及气体处理机构的进气口设置在盖板上，所述气体处理机构包括进气总管、第一风机、导气管、第二风机、中和罐，所述进气总管的进气口与酸洗罐的盖板连通，第一风机的进风口与进气总管连通，第一风机的出风口与导气管的第一端连通，导气管的第二端与酸洗罐的底部连通，以将气体导入酸洗罐的底部，导气管上设有控制阀，以控制气体进入酸洗罐，第二风机的进风口与进气总管连通，第二风机的出风口与中和罐连通，以将酸性气体与碱液进行中和。工作时，第一风机反复将浆液上方的空气通入到浆液中，如此就能够使酸性气体充分与浆料中的杂质反应，减少了盐酸的浪费。同时，气体还能够起到一定的搅拌作用时，使酸液与浆料接触的更充分。
附图说明
图1为本实用新型的碳化硅无压粉酸洗装置的结构示意图。
图2为图1的局部结构示意图。
图3为本本实用新型的碳化硅无压粉酸洗装置的截面图。
图中：碳化硅无压粉酸洗装置10、酸洗罐20、搅拌机构30、搅拌电机301、搅拌杆302、搅拌叶片303、盐酸进料管40、浆料进料管50、气体处理机构60、进气总管601、第一风机602、导气管603、第二风机604、中和罐605、罐体6051、喷淋管道6052、碱液泵6053，排气管道6054。
具体实施方式
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
请参看图1至图3，碳化硅无压粉酸洗装置10包括酸洗罐20、搅拌机构30、盐酸进料管40、浆料进料管50、气体处理机构60，所述酸洗罐20的上端设有盖板，搅拌机构30位于盖板的中心位置，且搅拌机构30的搅拌端伸入至酸洗罐20内，盐酸进料管40、浆料进料管50的出液口以及气体处理机构60的进气口设置在盖板上，所述气体处理机构60包括进气总管601、第一风机602、导气管603、第二风机604、中和罐605，所述进气总管601的进气口与酸洗罐20的盖板连通，第一风机602的进风口与进气总管601连通，第一风机602的出风口与导气管603的第一端连通，导气管603的第二端与酸洗罐20的底部连通，以将气体导入酸洗罐20的底部，导气管603上设有控制阀，以控制气体进入酸洗罐20，第二风机604的进风口与进气总管601连通，第二风机604的出风口与中和罐605连通，以将酸性气体与碱液进行中和。
进一步的，所述搅拌机构30包括搅拌电机301、搅拌杆302、搅拌叶片303，所述搅拌电机301与酸洗罐20的盖板固定连接，搅拌电机301的转轴与搅拌杆302的上端固定连接，搅拌杆302的下端与搅拌叶片303固定连接，所述搅拌叶片303为直板状，搅拌叶片303的末端与酸洗罐20的内壁相邻，所述搅拌叶片303位于导气管603的第二端的下方，以防止与导气管603发生干涉。
进一步的，所述中和罐605包括罐体6051、喷淋管道6052、碱液泵6053，排气管道6054，所述罐体6051内设有喷淋管道6052，喷淋管道6052的进液口与碱液泵6053通过管道连通，碱液通过碱液泵6053输向至喷淋管道6052，排气管道6054位于罐体6051的顶部，以将中和后的气体排出，所述罐体6051的侧壁上设有进气管道，进气管道位于喷淋管道6052的下方，所述进气管道的出气口朝下，以便与碱液混合地更充分。
进一步的，所述喷淋管道6052设有若干层，进气管道位于最底层的喷淋管道6052的下方，以便充分吸收气体中的酸气。
进一步的，所述搅拌杆302以及搅拌叶片303的表面设有碳化硅层，以防止发生腐蚀并引入杂质。
本实用新型的碳化硅无压粉酸洗装置10在工作时，随着酸洗的进行，酸洗罐20内的碳化硅浆料的上方会产生酸性气体。通过第一风机602的引流，酸性气体从气体处理机构60的进气总管601进入到出气管，再进一步进入到碳化硅浆料中。碳化硅浆料在气体的作用下，会加强搅拌作用，使酸液与浆料混合的更充分。同时，在搅拌过程中，气体中的氯化氢也会溶于水并与杂质，例如氧化铁或铁单质等发生反应，从而在减少杂质的同时，降低了气体中的氯化氢的含量。反复搅拌多次后，浆料上方的气体中的氯化氢的含量就能够有效降低。在通过中和塔对酸气进行吸收，从而能够有效减少中和的碱液的消耗。
以上所揭露的仅为本实用新型较佳实施例而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本实用新型权利要求所作的等同变化，仍属于实用新型所涵盖的范围。
Claims (5)
1.一种碳化硅无压粉酸洗装置，其特征在于：包括酸洗罐、搅拌机构、盐酸进料管、浆料进料管、气体处理机构，所述酸洗罐的上端设有盖板，搅拌机构位于盖板的中心位置，且搅拌机构的搅拌端伸入至酸洗罐内，盐酸进料管、浆料进料管的出液口以及气体处理机构的进气口设置在盖板上，所述气体处理机构包括进气总管、第一风机、导气管、第二风机、中和罐，所述进气总管的进气口与酸洗罐的盖板连通，第一风机的进风口与进气总管连通，第一风机的出风口与导气管的第一端连通，导气管的第二端与酸洗罐的底部连通，以将气体导入酸洗罐的底部，导气管上设有控制阀，以控制气体进入酸洗罐，第二风机的进风口与进气总管连通，第二风机的出风口与中和罐连通，以将酸性气体与碱液进行中和。
2.如权利要求1所述的碳化硅无压粉酸洗装置，其特征在于：所述搅拌机构包括搅拌电机、搅拌杆、搅拌叶片，所述搅拌电机与酸洗罐的盖板固定连接，搅拌电机的转轴与搅拌杆的上端固定连接，搅拌杆的下端与搅拌叶片固定连接，所述搅拌叶片为直板状，搅拌叶片的末端与酸洗罐的内壁相邻，所述搅拌叶片位于导气管的第二端的下方，以防止与导气管发生干涉。
3.如权利要求1所述的碳化硅无压粉酸洗装置，其特征在于：所述中和罐包括罐体、喷淋管道、碱液泵，排气管道，所述罐体内设有喷淋管道，喷淋管道的进液口与碱液泵通过管道连通，碱液通过碱液泵输向至喷淋管道，排气管道位于罐体的顶部，以将中和后的气体排出，所述罐体的侧壁上设有进气管道，进气管道位于喷淋管道的下方，所述进气管道的出气口朝下，以便与碱液混合地更充分。
4.如权利要求3所述的碳化硅无压粉酸洗装置，其特征在于：所述喷淋管道设有若干层，进气管道位于最底层的喷淋管道的下方，以便充分吸收气体中的酸气。
5.如权利要求2所述的碳化硅无压粉酸洗装置，其特征在于：所述搅拌杆以及搅拌叶片的表面设有碳化硅层，以防止发生腐蚀并引入杂质。
Priority Applications (1)
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