CN215799205U - 自动上釉线 - Google Patents

Abstract

一种自动上釉线，其包括机架及设置于机架上的上料输送装置、对位装置、前转移装置、沾水槽、沾蜡装置、浸釉装置、后转移装置、釉水擦拭装置及下料输送装置。坯体自上料输送装置输送至对位装置前侧，对位装置对坯体进行对位；前转移装置将对位后坯体转移至沾水槽内坯底沾水，再将沾水后的坯体转移至粘蜡装置上进行底部粘蜡，沾蜡后的坯体再转移至浸釉装置上，浸釉装置带动坯体旋转浸釉，后转移装置将浸釉后的坯体转移至釉水擦拭装置上将坯体底部的釉水去除，再将坯体转移至下料输送装置上。本实用新型的自动化程度高，产品质量稳定性好；大大提高了生产效率、降低了生产成本；减轻了人工劳动强度及降低了安全风险，适用性强，具有较强的推广意义。

Description

自动上釉线

技术领域

本实用新型涉及陶瓷制造设备技术领域，尤其涉及一种自动上釉生产线。

背景技术

在日用陶瓷中，陶瓷坯体成型后表面必须均匀涂上釉料层再进行烧制陶瓷表面才能光亮。在坯体上釉前，需在坯体底部上蜡，使上釉过程中坯体底部有蜡的地方不沾上釉料。另外，在陶瓷烧制过程中，高温时釉料融化会与匣钵底部粘结在一起，因此，在上釉工序后必须将坯体与匣钵底部接触的釉去除干净，防止陶瓷产品烧制过程中与匣钵底部粘结。

然而，在传统工艺中，上述工序大多为采用人工操作，不仅工人劳动强度大、效率低，且由于人工操作用力均匀性差，难以做到产品质量稳定一致，还可能会导致坯体破裂，造成坯体损坏。此外，也有部分自动上釉装置，然后该种自动上釉装置为分离式的，沾蜡、上釉、去除坯体底部的釉等操作均在不同的设备中进行，期间需要多次的转移，影响生产效率。

实用新型内容

为此，本实用新型的目的在于提供一种自动上釉线，以解决传统坯体上釉工作效率低、质量不稳定、人工劳动强度大的问题。

一种自动上釉线，其包括机架及设置于机架上的上料输送装置、对位装置、前转移装置、沾水槽、沾蜡装置、浸釉装置、后转移装置、釉水擦拭装置及下料输送装置；所述对位装置若干对位插口装置；所述前转移装及后转移装置底部均设置有若干吸盘，所述吸盘与对位插口装置呈一一对应设置；所述沾蜡装置上设置有储蜡槽，该储蜡槽内设置有若干导热盘；所述浸釉装置包括吸盘装置及设置于吸盘装置外侧的储釉箱，所述吸盘装置包括旋转装置、壳体、若干自转组件及自旋转装置，若干自转组件均装设于壳体内并延伸于壳体外，自旋转装置装设于壳体内，所述旋转装置带动壳体沿转轴旋转浸入至储釉箱内；所述自旋转装置装包括自旋转驱动、旋转轴及若干传动齿轮，若干传动齿轮均匀装设于旋转轴上，且每一传动齿轮对应于一自转组件；所述自转组件上设置有底吸盘及从动齿轮，所述从动齿轮设置于壳体内，底吸盘设置于自转组件顶部，所述从动齿轮啮合于传动齿轮上；所述自旋转驱动通过旋转轴、传动齿轮带动自转组件自转旋转；所述釉水擦拭装置包括两并排设置的正转输送装置及反转输送装置，且二者的结构相同，旋转方向相反，两输送装置上均设置有传送带，所述传送带外表面设置有海绵层；

所述上料输送装置将若干坯体输送至对位插口装置前侧，对位插口装置将坯体矫正，所述前转移装置的吸盘将对应位置的坯体吸至沾水槽内沾水，将沾水后的坯体转移至所述导热盘内沾蜡，将沾蜡后的坯体送至浸釉装置的底吸盘上，底吸盘将坯体吸紧然后吸盘装置整体旋转至坯体浸泡于储釉箱内，所述自转组件带动坯体在储釉箱内旋转充分浸釉后回位；所述后转移装置的吸盘吸于坯体的内侧底面上，底吸盘松开坯体，后转移装置将坯体转移至釉水擦拭装置上，且同一坯体在正转输送装置反转输送装置上各占一半，釉水擦拭装置对坯体底部进行旋转擦拭，擦拭完后，后转移装置再将坯体转移至下料输送装置以转移至下一工序。

进一步地，所述上料输送装置上还设置有定位装置及除潮装置，所述定位装置设置于除潮装置前侧。

进一步地，所述对位装置包括若干对位插口装置，所述对位插口装置上设置有插口板，所述插口板的一侧端面上设置有插口，所述插口呈外宽内窄的三角形设置，该插口的两侧各设置有一导斜面。

进一步地，所述沾蜡装置外侧还设置有一吸废气装置，该吸废气装置上设置有吸气嘴，所述吸气嘴对应于所述导热盘设置。

进一步地，所述吸气嘴设置有多个，吸气嘴与所述导热盘呈一一对应设置。

进一步地，所述浸釉装置上还设置有一吸盘擦拭装置，该吸盘擦拭装置上设置有海绵夹，该海绵夹上夹持有擦拭海绵。

进一步地，所述除潮装置包括固定架、风机及加热器，所述固定架跨设于上料输送带上，风机装设于固定架上，加热器装设于固定架内并位于风机的下方。

进一步地，所述吸盘装置包括旋转装置、壳体、若干吸盘组件及自旋转装置，所述吸盘组件包括真空釉水箱及固定座，所述自转组件还包括装设于底吸盘底面上的自转轴；所述自转轴底端通过固定座装设于真空釉水箱上并可相对固定座旋转。

进一步地，所述吸盘组件还包括导釉管，所述导釉管穿设于自转轴内，导釉管与自转轴之间形成一真空吸入腔，该真空吸入腔与真空釉水箱相连通。

进一步地，所述底吸盘内设有存釉仓，底吸盘顶面设置有吸口；所述导釉管的顶端设置有半圆导釉头，该半圆导釉头的顶端中部设置有连通导釉管的导釉孔；所述自转轴的顶端延伸于存釉仓内，自转轴与半圆导釉头之间的导釉管上设置有通孔。

进一步地，所述浸釉装置还包括真空泵及空釉转换器，所述吸盘组件还包括真空管及釉水回流管，所述真空泵连接于真空管及空釉转换器，空釉转换器连接于釉水回流管。

进一步地，所述空釉转换器包括真空腔体、釉水分散盘、下釉漏斗及真空釉水自动排水盖；所述真空腔体顶面上设置有接入口及真空吸入口，该接入口向下延伸设有一导管，所述釉水分散盘设于导管底部，该导管底部与釉水分散盘顶面之间设有过水孔。

进一步地，所述真空腔体的底部向下釉漏斗内延伸有一倾斜设置的导入管，所述真空釉水自动排水盖活动装设于导入管的上方表面上并盖合于导入管的开口端。

综上所述，本实用新型的上釉线要将沾水、沾蜡、浸釉及擦坯体等工序一体自动完成，自动化程度高，且产品质量稳定性好。大大提高了生产效率、降低了生产成本；减轻了人工劳动强度及降低了安全风险，适用性强，具有较强的推广意义。

附图说明

图1为本实用新型具有自动上釉线的结构示意图；

图2为图1中上釉线另一视角的结构示意图；

图3为图1中上料装置的结构示意图；

图4为图3中对位装置的结构示意图；

图5为图2中前转移装置的结构示意图；

图6为图2中沾蜡装置的结构示意图；

图7为图6中储蜡装置的分解示意图；

图8为图2中浸釉装置的结构示意图；

图9为图8的内部结构示意图；

图10为图8的剖面结构示意图；

图11为图10的部分放大结构示意图；

图12为图5中吸盘擦拭装置的结构示意图；

图13为空釉转换装置、真空泵及浸釉装置的结构示意图；

图14为图13中空釉转换装置的结构示意；

图15图釉水擦拭装置的结构示意图；

图16为图15的分解示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。

如图1至图16所示，本实用新型提供一种自动上釉线，其用于对陶瓷坯体进行上釉加工。所述自动上釉线包括机架10及设置于机架10上的上料输送装置20、对位装置30、前转移装置40、沾水槽50、沾蜡装置60、浸釉装置70、后转移装置80、釉水擦拭装置90及下料输送装置100。坯体自上料输送装置20 输送至对位装置30前侧，对位装置30将坯体的位置进行对位；所述前转移装置40将对位后的坯体转移至沾水槽50内进行坯底沾水，再将沾水后的坯体转移至粘蜡装置60上在坯体底部粘蜡，沾蜡后的坯体再转移至浸釉装置70上，浸釉装置70带动坯体旋转浸釉，所述后转移装置80将浸釉后的坯体转移至釉水擦拭装置90上，将坯体底部的釉水去除干净，再将坯体转移至下料输送装置100上送至下一工序。此外，所述上料输送装置20及下料输送装置100均可独立布局，二者方向可调为同侧或不同侧，从而使整机布局更灵活、柔性化。

所述机架10包括底架11及装设于底架11上的安装架12，所述上料输送装置20装设于底架11上。所述上料输送装置20包括上输送带驱动装置24、上料输送带21、定位装置22及除潮装置23，所述定位装置22及除湿装置23均设置于上料输送带21上方，且定位装置22设置于除潮装置23前侧。所述定位装置22包括横向定位板221、定位隔板222及感应器(图未示)，所述感应器装设于定位隔板222上，横向定位板221与定位隔板222自横向及纵向两个方向对坯体进行定位，感应器用于感应坯体。

所述定位隔板222将上料输送带21分隔左右并排的传送区及矫位区，所述传送区位于横向定位板221一侧。所述横向定位板221与定位隔板222于传送段223形成有一传送位，坯体上料时先放置于传送位上的料输送带21上；当感应器感应到坯体时，感应器将信号传送至上输送带驱动装置24，上输送带驱动装置驱动上料输送带21启动并带动坯体向前移动一定距离后停止，再将下一坯体放置于传送位，依此重复。

所述除潮装置23包括固定架231、风机232及加热器(图未示)，所述固定架231跨设于上料输送带21上，风机232装设于固定架231上，加热器装设于固定架231内并位于风机232的下方。风机232将加热器233发出的热量向下吹向上料输送带21上的坯体，以将坯体上的潮气吹干。可以理解地，所述除潮装置23也不一定必须使用热风除潮，也可以为冷风除潮。

本实施例中，所述对位装置30及沾水装置30分别设置于上料输送带21的左右两侧，且所述对位装置30设置于传送区一侧设置。所述对位装置30包括对位架31、装设于对位架31上的若干对位插口装置32及对位驱动装置33，所述对位驱动装置33装设于机架10的安装架12上，对位驱动装置33上设置有第一驱动轮331。所述对位架31上设置有定位轴311及套设于定位轴311上的移动套管312，所述定位轴311的两端安装于所述安装架12上，所述移动套管 312套设于定位轴311上并可沿定位轴移动。所述移动套管312的外表面上设置有第一齿条313，所述定位轴311、移动套管312、定位齿条313均沿对位装置30、沾水槽50的排列方向延伸设置，该第一313齿条与第一驱动轮331相啮合，所述对位驱动装置33通过第一驱动轮331带动移动套管312沿定位轴311移动，从而实现对位装置30的位置移动，对位装置30对坯体的位置进行纠正，并将其前侧的坯体自传送段223推至矫位区。

所述对位插口装置32包括顶壳321、中间板322及下夹板323，所述对位架31上设置有一横梁314，所述顶壳321呈“几”字形设置，该顶壳321包覆于横梁314上，所述下夹板323设置于横梁314下方，中间板322设于顶壳321 与下夹板323之间，且位于横梁314的下方。所述下夹板323的包括固定部324 及插口部325，所述固定部324与顶壳321固定连接，插口部325的内侧端设置有一插口326，插口326两侧的插口部325外表面各设有一侧板327。安装好后，两侧板及中间板322可自三个方向对坯体进行定位。

所述前转移装置40装设于安装架12上，且其位于上料输送装置20的内侧上方。该前转移装置40包括转移支架41、水平转移驱动42、升降转移驱动43 及吸盘组件44，所述安装架12上设置有两组以上的水平调位杆121，所述水平调位杆121沿前沾水槽50、沾蜡装置60、浸釉装置70的排列方向延伸。该水平调位杆121的侧面上设置有横向调位齿条122，水平调位杆121的顶面上设置有沿其延伸方向延伸的导轨123，所述转移支架41上设置有导槽411，所述导槽411卡合于导轨123上并可沿导轨123移动。

所述水平转移驱动42装设于转移支架41上，该水平转移驱动42上设置有驱动齿轮421，所述驱动齿轮421啮合于横向调位齿条122上，所述水平转移驱动42驱动所述驱动齿轮421旋转，驱动齿轮421沿调位齿条122移动，从而实现了前转移装置40的水平转移动。所述转移支架41上设置有升降调位齿条412 及定位杆413，所述吸盘组件44活动装设于定位杆413上，所述升降转移驱动 43装设于吸盘组件44上，该升降转移驱动43上设置有升传动齿轮431所述升降传动齿轮431啮合于升降调位齿条412上，升降转移驱动43驱动升传动齿轮431带动吸盘组件44沿升降调位齿条412、定位杆413上下移动，从而实现前转移装置40的升降运动。

所述吸盘组件44包括吸盘架及装设于吸盘架顶部的拉杆441、装设于吸盘架底部的多个吸盘442，所述拉杆441的顶端装设于所述安装架12上。所述转移支架41于拉杆441一侧设置有若干卡环414，所述拉杆441穿设于若干卡环 414内。

所述沾水槽50内设置有溢流管，所述溢流管的顶部管口的位置低于沾水槽的顶面，从而将水位升高时，水可自溢流管排出，从而可避免沾水槽50的水自槽顶溢出。

所述沾蜡装置60包括储蜡槽61、若干导热盘62、发热片63、若干导热杆 65及底板64，若干导热盘62设置于储蜡槽61内，该导热盘62内装设有棉布，以用于吸蜡防止蜡凝固。所述发热片63设置于储蜡槽61的底部外侧，所述底板64设置于发热片63下方，以将发热片63安装于储蜡槽61底部。所述储蜡槽61的底面设置有若干竖向延伸的套管66，所述导热盘62通过导热杆65连接于发热片63上，且该导热杆65穿过套管66，套管66对导热盘62进行限位。

所述沾蜡装置60外侧还设置有一吸废气装置120，该吸废气装置120包括吸气管121及设置于吸气管121侧面上的若干吸气嘴122。本实施例中，若干导热盘62排列成一排，若干吸气嘴122也排列成一排，且吸气嘴122与导热盘62 呈一一对应设置，从而可有针对性的快速将导热盘62处蜡受高温所散发出的气味吸走。此外，所述吸气嘴122在其排列方向上呈外宽内窄的喇叭状结构设置，从而可更大范围的吸收废气。

所述前转移装置40将沾水后的坯体吸紧转移至所述导热盘62上进行沾蜡，沾蜡后再将坯体转移至浸釉装置70上。所述后转移装置80将浸釉后的坯体转移至釉水擦拭装置90上，该后转移装置80的结构与前转移装置40的结构基本相同，其设置于浸釉装置70的上方。

所述浸釉装置70包括吸盘装置71、储釉箱72，所述吸盘装置71包括旋转装置(图未示)、壳体73、若干吸盘组件74及自旋转装置75，所述壳体73的两侧均设置有安装轴731，所述安装轴731装设于机架上，所述旋转装置装设于机架上，旋转装置带动壳体73沿转轴旋转，以将吸盘组件71旋转倾斜插入储釉箱72的釉水内。若干吸盘组件74均装设于壳体73内并延伸于壳体73外，所述自旋转装置75装设于吸盘组件74上并容置于壳体73内。

所述吸盘组件74包括自转组件及真空釉水箱741、导釉管742、固定座743，所述自转组件包括底吸盘744及装设于底吸盘744底面上的自转轴745，所述固定座743、真空釉水箱741均容置于壳体73内。所述自转轴745的上部分延伸于壳体73外，所述壳体73外侧的自转轴745上设置有密封圈746，以用于防尘密封。自转轴745的底部延伸于壳体73内，该自转轴745的顶端装设于底吸盘 744上，底端通过固定座743装设于真空釉水箱741上并可相对固定座743旋转。本实施例中，所述固定座743的上下两端还设置有轴承密封件759，所述轴承密封件759用于对自思轴745与固定座743之间的间隙进行密封。所述导釉管742 穿设于自转轴745内，该导釉管742的顶端延伸了自转轴745外并容置于底吸盘744内，导釉管742的底端延伸出自转轴745外并穿过真空釉水箱741的底面形成一釉水进入口。

所述底吸盘744内设有一存釉仓747，底吸盘744的顶面上设置有一内外贯穿存釉仓747的吸口748。所述导釉管742的顶端设置有一半圆导釉头749，该半圆导釉头749的顶端中部设置有连通导釉管742的导釉孔750。所述自转轴 745的顶端延伸于存釉仓747内，自转轴745与半圆导釉头749之间的导釉管 742上设置有通孔751。此外，所述自转轴745呈中空管状结构设置，其内部设置有上下贯穿的真空吸入腔752，所述导釉管742穿设于该真空吸入腔752，该导釉管742的底端穿过真空釉水箱741并延伸于其外侧。

所述吸盘组件74还包括真空管753及釉水回流管754，所述真空釉水箱741 上设置有真空导入口及釉水回流口，所述真空管753一端连接于真空泵，另一端连接于真空导入口上，所述釉水回流管754一端连接于釉水回流口，另一端连接于导釉管742底端的釉水进入口。

所述自旋转装置75包括自旋转驱动755、旋转轴756及若干传动齿轮757，所述旋转轴756呈水平延伸设置，若干传动齿轮757均匀装设于旋转轴756上，且每一传动齿轮757对应于一吸盘组件74。所述吸盘组件74上设置有从动齿轮 758，所述从动齿轮758啮合于传动齿轮757上。所述自旋转驱动755通过旋转轴756、传动齿轮757带动吸盘组件74旋转，从而实现了吸盘组件74的自旋转。此外，所述储釉箱72内还设置有废坯渣滤网721。

所述浸釉装置70上还设置有一吸盘擦拭装置76，本实施例中，所述吸盘擦拭装置76装设于前转移装置40。所述吸盘擦拭装置76包括拉杆761、定位杆 762及海绵夹763，所述定位杆762装设于拉杆761的底端，所述海绵夹763装设于定位杆762上并向下延伸于定位杆762下方。本实施例中，所述海绵夹763 由两夹块764组合而成，从而便于拆卸、更换。该海绵夹763上夹持有海绵，以用于擦拭底吸盘744。

此外，所述自动上釉线的浸釉装置还包括真空泵78及空釉转换器77，所述真空泵78连接于空釉转换器77及连接于真空管753，所述空釉转换器77连接于所述真空釉水箱741的釉水回流管754。该空釉转换器77包括真空腔体771、釉水分散盘772、真空进排自动盖773、下釉漏斗774及真空釉水自动排水盖775；所述真空腔体771顶面上设置有接入口776及真空吸入口777，该接入口776向下延伸设置有一导管778，所述釉水分散盘772设置于导管778底部，该导管 778底部与釉水分散盘772顶面之间设有过水孔779。

所述真空进排自动盖773设置于真空腔体771外侧面上，其可根据需求自由打开、关闭，通常情况下，该真空进排自动盖773为关闭状态，在需人为查看、维护时才予以开启。所述真空腔体771的底部呈漏斗状设置，且其底端向下釉漏斗774内延伸有一倾斜设置的导入管100，所述真空釉水自动排水盖775 活动装设于导入管100的上方表面上并盖合于导入管100的开口端。

使用时，所述前转移装置40将坯体转移至底吸盘744上，底吸盘744内产生负压将坯体吸紧。所述旋转装置驱动整个吸盘装置71朝向储釉箱72方向旋转，直至坯体浸泡于储釉箱72内的釉水内，所述自旋转驱动755驱动自转组件自转一周或以上，从而使坯体的外表面能充分均匀的沾上釉水。所述真空釉水箱741内的釉水经釉水回流管754、导釉管742于真空釉水箱741一侧的釉水进入口导入所述导釉管742内，再经通孔751流入至存釉仓747内，当底吸盘744 向下旋转时，存釉仓747内的釉水对坯体底部凹槽的底面进行浸釉加工。

然后旋转装置再将吸盘装置71旋转回位，所述后转移装置80移至坯体正上方，并向下移动吸附于坯体的内侧底面上；所述底吸盘74将坯体松开，后转移装置80将坯体转移至釉水擦拭装置90上。所述前转移装置40及吸盘擦拭装置76一起朝向浸釉装置70方向移动将下一坯体移至底吸盘744上，由于吸盘擦拭装置76在朝向浸釉装置70方向位于前转移装置40前侧，则在前转移装置 40将坯体放置于底吸盘744上前，吸盘擦拭装置76自底吸盘744顶面扫过以擦拭吸盘，使底吸盘744上保留少量的水份，从而可确保底吸盘744吸附的紧密性；此外，前转移装置40及吸盘擦拭装置76再上升回位。

当真空泵78在真空吸入腔752形成真空负压时，其会将部分釉水自接入口 776进入真空腔体771内，釉水自过水孔779沿釉水分散盘772顶面分散开流下，以保持釉水的活性。当真空腔体771内的釉水收集到一定量时，在重力作用下，釉水向下自动打开真空釉水自动排水盖775，再自下釉漏斗774排到水泵内，水泵再将釉水抽至釉箱内或供至导釉管742。

所述釉水擦拭装置90包括正转输送装置91、反转输送装置92，所述正转输送装置91与反转输送装置92呈并排设置，且二者的结构也相同，不同之处在于旋转方向相反。所述正转输送装置91包括驱动装置911、传送带912、主动辊913、从动辊914、两第一导辊915、第二导辊916及水槽917，所述主动辊913及从动辊914水平装设于底座11上，所述水槽917设置于底座11下方。两第一导辊915设置于水槽917的两侧，所述第二导辊916装设于水槽917上。可以理解地，所述第一导辊915及第二导辊916可根据需求设置不同的数量。

所述主动辊913、从动辊914、第一导辊915及第二导辊916的均为平行设置，所述正转输送装置91及反转输送装置92上的传送带912并排套设于主动辊913、从动辊914、两第一导辊915、一第二导辊916的外表面上。所述驱动装置911连接于主动辊913上，该驱动装置911驱动所述主动辊913带动传送带912旋转。所述传送带912的外表面设置有海绵层918，传送带912的内表面中部设置有凸起部919，所述主动辊913、从动辊914、两第一导辊915、一第二导辊916的外表面上均设置有导槽920，所述传送带912上的凸起部919装设于所述导槽920内。此外，所述正转输送装置91与反转输送装置92上相应的辊安装于同一转轴上，两传送带912之间在不影响运动的情况下为极小间隙。

所述水槽917内还设置有溢流管921，所述溢流管921的顶部开口低于水槽 917的顶面，从而当水太满时，水会自溢流管921排出至，进而可避免水自水槽917顶面溢出。所述机械手转移装置上设置有多个吸盘，多个所述吸盘排成一排；机械式转移装置可一次将多个坯体转移至正反转输送装置91上。

使用时，所述机械手转移装置将多个坯体吸至正反转输送装置91上，并将坯体的底部放置于正转输送装置91及反转输送装置92的传送带912上，且同一坯体在两传送带912上的坯体各占一半。所述正转输送装置91的驱动装置911 驱动其正转，反转输送装置92的驱动装置911驱动其反转。两传送带分别带动相应侧的坯体移动，且移动方和各不相同，从而会使得该坯体自动旋转；当该坯体旋转一周(也可根据需求设置有两周或更多)时，此时釉水已被传送带外表面的海绵擦拭干净；擦拭釉水后的传送带向下旋转至水槽917内，传送带912 外表面的海绵层与水槽917内的水移动接触，从而可起到清洗海绵层的作用。

综上所述，本实用新型的上釉线要将沾水、沾蜡、浸釉及擦坯体等工序一体自动完成，自动化程度高，且产品质量稳定性好。大大提高了生产效率、降低了生产成本；减轻了人工劳动强度及降低了安全风险，适用性强，具有较强的推广意义。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不因此而理解为对本实用新型专利范围的限制，应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围，因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (13)

1.一种自动上釉线，其特征在于：包括机架及依次设置于机架上的上料输送装置、对位装置、前转移装置、沾水槽、沾蜡装置、浸釉装置、后转移装置、釉水擦拭装置及下料输送装置；所述浸釉装置包括吸盘装置及设置于吸盘装置外侧的储釉箱，所述吸盘装置包括旋转装置、壳体、若干自转组件及自旋转装置，若干自转组件均装设于壳体内并延伸于壳体外，且其延伸于壳体外部分的顶端设有底吸盘，自转组件内设有贯穿底吸盘的导釉管；所述自旋转装置装设于壳体内，所述旋转装置带动壳体整体旋转使所述底吸盘浸入所述储釉箱内，自转装置带动自转组件自转；所述釉水擦拭装置包括两并排设置的正转输送装置及反转输送装置，且二者的结构相同，旋转方向相反，两输送装置上均设置有传送带，所述传送带外表面设置有擦拭层。

2.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述上料输送装置上还设置有定位装置及除潮装置，所述定位装置设置于除潮装置前侧。

3.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述对位装置包括若干对位插口装置，所述对位插口装置上设置有插口板，所述插口板的一侧端面上设置有插口，所述插口呈外宽内窄的三角形设置，该插口的两侧各设置有一导斜面。

4.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述沾蜡装置上还设置有储蜡槽，该储蜡槽内设置有若干导热盘，储蜡槽外侧设有加热片，所述导热盘通过导热杆连接于发热片上。

5.如权利要求4所述的自动上釉线，其特征在于：所述沾蜡装置外侧还设置有一吸废气装置，该吸废气装置上设置有吸气嘴，所述吸气嘴对应于所述导热盘设置。

6.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述自旋转装置装包括自旋转驱动、旋转轴及若干装设于旋转轴上的传动齿轮，所述自转组件上设有从动齿轮，所述从动齿轮啮合于传动齿轮上，所述自旋转驱动通过旋转轴、传动齿轮带动自转组件自转旋转。

7.如权利要求6所述的自动上釉线，其特征在于：所述吸盘装置包括旋转装置、壳体、若干吸盘组件及自旋转装置，所述吸盘组件还包括真空釉水箱及固定座，所述自转组件还包括装设于底吸盘底面上的自转轴；所述自转轴底端通过固定座装设于真空釉水箱上并可相对固定座旋转。

8.如权利要求7所述的自动上釉线，其特征在于：所述导釉管穿设于自转轴内，导釉管与自转轴之间形成一真空吸入腔，该真空吸入腔及导釉管均与真空釉水箱相连通。

9.如权利要求8所述的自动上釉线，其特征在于：所述底吸盘内设有存釉仓，底吸盘顶面设置有吸口；所述导釉管的顶端设置有导釉头，该导釉头的顶端中部设置有连通导釉管的导釉孔；所述自转轴的顶端延伸于存釉仓内，自转轴与导釉头之间的导釉管上设置有通孔。

10.如权利要求1所述的自动上釉线，其特征在于：所述浸釉装置上还设置有一吸盘擦拭装置，该吸盘擦拭装置上设置有海绵夹，该海绵夹上夹持有擦拭海绵。

11.如权利要求7所述的自动上釉线，其特征在于：所述浸釉装置还包括真空泵及空釉转换器，所述吸盘组件还包括真空管及釉水回流管，所述真空泵连接于真空管及空釉转换器，空釉转换器连接于釉水回流管。

12.如权利要求11所述的自动上釉线，其特征在于：所述空釉转换器包括真空腔体、釉水分散盘、下釉漏斗及真空釉水自动排水盖；所述真空腔体顶面上设置有接入口及真空吸入口，该接入口向下延伸设有一导管，所述釉水分散盘设于导管底部，该导管底部与釉水分散盘顶面之间设有过水孔。

13.如权利要求12所述的自动上釉线，其特征在于：所述真空腔体的底部向下釉漏斗内延伸有一倾斜设置的导入管，所述真空釉水自动排水盖活动装设于导入管的上方表面上并盖合于导入管的开口端。

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