CN215563163U - 洗净室底部防残留装置

Info

本实用新型公开了一种洗净室底部防残留装置，包括弧形板，弧形板设有排水组件，排水组件为上宽下窄的“T”形结构，排水组件的底部和侧面均设有过滤板，过滤板设有大通孔以及围绕大通孔均匀排布的小通孔；通过制作基准的变更，消除腔室内去离子水残留，防止细菌的产生；通过成型方式的变更，提高生产效率。

洗净室底部防残留装置

技术领域

本实用新型属于地漏技术领域，具体涉及洗净室底部防残留装置。

背景技术

现有的洗净室的地漏几乎全部为倾斜设置，洗净腔室内底板为平面，腔室内进行去离子水喷洒，为了排液实现循环利用，底板上设置排液槽和水桶；现有洗净腔室底部为平面，设备倾斜设置后会形成高度差，虽然设置了排液装置，但是由于制作基准的限制，会造成去去离子水残留滋生细菌影响工程。

因此，需要一种洗净室底部防残留装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种洗净室底部防残留装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种洗净室底部防残留装置，包括弧形板，弧形板设有排水组件，排水组件为上宽下窄的“T”形结构，排水组件的底部和侧面均设有过滤板，过滤板设有大通孔以及围绕大通孔均匀排布的小通孔。

具体的是，所述排水组件的侧面设有大通孔以及围绕大通孔均匀排布的小通孔。

具体的是，所述弧形板的两侧设有对称的“7”字形结构。

具体的是，所述弧形板设有安装孔，通过固定件用于固定弧形板。

具体的是，所述过滤板的材质为玻璃钢。

具体的是，所述弧形板为一体成型的结构。

本实用新型具有以下有益效果：通过制作基准的变更，消除腔室内去离子水残留，防止细菌的产生；通过成型方式的变更，提高生产效率。

附图说明

图1为洗净室底部防残留装置的结构示意图。

图2为洗净室底部防残留装置的俯视图。

图3为洗净室底部防残留装置的侧视图。

图4为图2中B-B向的剖面图。

图5为过滤板的结构示意图。

图中：1-弧形板；2-过滤板，201-大通孔，202-小通孔；3-安装孔；4-排水组件。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。

如图1-5，一种洗净室底部防残留装置，包括弧形板1，弧形板1设有排水组件4，排水组件4为上宽下窄的“T”形结构，排水组件4的底部设有过滤板2，过滤板2设有大通孔201以及围绕大通孔201均匀排布的小通孔202。

排水组件的侧面设有大通孔201以及围绕大通孔201均匀排布的小通孔202。

弧形板1的两侧设有对称的“7”字形结构，弧形板1设有安装孔3，通过固定件用于固定弧形板1。

过滤板2的材质为玻璃钢，弧形板1为一体成型的结构。

弧形板1由PVC材质变更为FRP(玻璃钢)，采用注塑的成型方式，洗净腔室式样统一，弧形板样式进行统一，可批量生产。

弧形板1整体制作成圆弧形，内壁光滑，不会造成去离子水残留，避免滋生细菌，保证工程良品率。

弧形板1与排水组件4单独制作后熔接变更为一体成型，避免渗漏发生。

本实用新型不局限于上述实施方式，任何人应得知在本实用新型的启示下作出的结构变化，凡是与本实用新型具有相同或相近的技术方案，均落入本实用新型的保护范围之内。

本实用新型未详细描述的技术、形状、构造部分均为公知技术。

1.一种洗净室底部防残留装置，其特征在于，包括弧形板，弧形板设有排水组件，排水组件为上宽下窄的“T”形结构，排水组件的底部设有过滤板，过滤板设有大通孔以及围绕大通孔均匀排布的小通孔。

2.根据权利要求1所述的洗净室底部防残留装置，其特征在于，所述排水组件的侧面设有大通孔以及围绕大通孔均匀排布的小通孔。

3.根据权利要求1所述的洗净室底部防残留装置，其特征在于，所述弧形板的两侧设有对称的“7”字形结构。

4.根据权利要求3所述的洗净室底部防残留装置，其特征在于，所述弧形板设有安装孔，通过固定件用于固定弧形板。

5.根据权利要求1所述的洗净室底部防残留装置，其特征在于，所述过滤板的材质为玻璃钢。

6.根据权利要求4所述的洗净室底部防残留装置，其特征在于，所述弧形板为一体成型的结构。