CN215340283U - 校准片 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种校准片。校准片包括本体，在本体上设置有至少两个校准区域，至少两个校准区域用于校准光学测量系统的对焦位置、校准光学测量系统的反射率检测精度、校准光学测量系统检测的光斑、校准光学测量系统的关键尺寸、校准光学测量系统的台阶检测精度、校准光学测量系统的膜厚检测精度、及校准光学测量系统的偏差检测精度中的至少两个。本申请实施方式的校准片由于本体设置了至少两个校准区域，以使校准片能够校准光学测量系统的对焦位置、反射率检测精度、检测的光斑、关键尺寸、台阶检测精度、膜厚检测精度及偏差检测精度中的至少两个，从而减少了在对光学测量系统进行校准工作时，需要校准片的数量，以降低校准光学测量系统的成本。

Description

校准片

技术领域

本申请涉及晶圆校准技术领域，更具体而言，涉及一种校准片。

背景技术

随着半导体制程工艺的不断发展，量测设备在其中扮演的角色越来越重要，保证半导体量测的准确性同样极为重要，而保证量测的准确性需要依赖于标准片对设备进行定期校准。现有的技术中，对于量测设备不同的检测功能，往往需要对应使用多片校准片分别进行校准，导致校准片的成本较高。

实用新型内容

本申请实施方式提供一种校准片。

本申请实施方式的校准片包括本体，在所述本体上设置有至少两个校准区域，至少两个所述校准区域用于校准光学测量系统的对焦位置、校准所述光学测量系统的反射率检测精度、校准所述光学测量系统检测的光斑、校准所述光学测量系统的关键尺寸、校准所述光学测量系统的台阶检测精度、校准所述光学测量系统的膜厚检测精度、及校准所述光学测量系统的偏差检测精度中的至少两个。

在某些实施方式中，所述校准区域包括第一校准区域，所述第一校准区域用于校准所述对焦位置，所述第一校准区域的中心与所述本体的中心重合，所述第一校准区域内设置有两个第一矩阵及两个第二矩阵，所述第一矩阵和所述第二矩阵中的图形不同，所述第一校准区域为矩形，两个所述第一矩阵和两个所述第二矩阵分别位于所述第一校准区域内两条对角线上。

在某些实施方式中，所述第一矩阵包括多个正方形，多个所述正方形等间距排布；所述第二矩阵分别由多个最小重复单元组成，所述最小重复单元包括多个长方形，沿所述长方形的宽度方向，所述长方形的宽度逐渐减小。

在某些实施方式中，两个所述第二矩阵的所述最小重复单元中的所述长方形的长边垂直。

在某些实施方式中，所述校准区域包括第二校准区域，所述第二校准区域用于校准所述反射率检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第二校准区域位于所述第三区，所述第二校准区域包括第一凹槽，所述第一凹槽的底部的反射率为预定反射率。

在某些实施方式中，所述校准区域包括第三校准区域，所述第三校准区域用于校准光斑，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第三校准区域位于所述第一区、所述第二区和所述第三区，所述第三校准区域包括多个第二凹槽，多个所述第二凹槽分别设置在所述第一区、所述第二区和所述第三区。

在某些实施方式中，所述第二凹槽包括第一部和第二部，所述第一部沿第一方向延伸，所述第二部沿所述第二方向延伸，所述第一方向平行所述第一区和所述第二区的连接线，所述第二方向平行所述第二区和所述第三区的连接线。

在某些实施方式中，所述校准区域包括第四校准区域，所述第四校准区域用于校准所述关键尺寸，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第四校准区域的中心位于所述第一区和所述第四区的连接线上，所述第四校准区域内设置有第三矩阵，所述第三矩阵包括多个矩形，多个矩形等间距排列。

在某些实施方式中，所述校准区域包括第五校准区域，所述第五校准区域用于校准所述台阶检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第五校准区域位于所述第三区和所述第四区的连接线上，所述第五校准区域包括多个第一凸台，多个所述第一凸台依次设置在所述第三区和所述第四区的连接线上，所述第一凸台关于所述第三区和所述第四区的连接线轴对称。

在某些实施方式中，所述第一凸台的高度为预定高度，所述第一凸台包括相背的第一顶面和第一底面，所述第一底面设置在所述本体与所述第一凸台相对的表面，所述第一凸台的高度为所述第一顶面和所述第一底面之间的距离。

在某些实施方式中，所述校准区域包括第六校准区域，所述第六校准区域用于校准所述膜厚检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第六校准区域位于所述第二区和所述第四区，所述第六校准区域包括多个第二凸台，多个所述第二凸台分别设置在所述第二区和所述第四区，相对的两个所述第二凸台关于所述本体的中心呈中心对称。

在某些实施方式中，所述第二凸台的厚度为预定厚度，所述第二凸台包括相背的第二顶面和第二底面，所述第二底面设置在所述本体与所述第二凸台相对的表面，所述第二凸台的厚度为所述第二顶面和所述第二底面之间的距离。

在某些实施方式中，所述校准区域包括第七校准区域，所述第七校准区域用于校准所述偏移检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第七校准区域位于所述第一区和所述第二区，所述第七校准区域内设置有多个第四矩阵，多个所述第四矩阵分别设置在所述第一区、所述第一区和所述第二区的连接线上，所述第一区和所述第二区的连接线上的所述第四矩阵关于所述第一区和所述第二区的连接线对称。

在某些实施方式中，所述第四矩阵包括多个第三凹槽，多个所述第三凹槽等间距分布，所述第三凹槽在平行所述本体的平面上的投影由第一圆和第二圆组成，所述第一圆的圆心与所述第二圆的圆心之间的圆心距为预定圆心距。

本申请实施方式校准片中，由于本体设置了至少两个校准区域，且至少两个校准区域能校准光学测量系统的对焦位置、反射率检测精度、检测的光斑、关键尺寸、台阶检测精度、膜厚检测精度及偏差检测精度中的至少两个，从而减少了在对光学测量系统进行校准工作时，更换校准片的次数，一方面，以提高了校准光学测量系统的效率，另一方面，减少了校准片的数量，从而降低了校准光学测量系统的成本。

本申请的实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实施方式的实践了解到。

附图说明

本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本申请某些实施方式的校准片的平面示意图；

图2是本申请某些实施方式的校准片的第一校准区域的平面示意图；

图3是本申请某些实施方式的第三校准区域的第二凹槽的平面示意图；

图4是本申请某些实施方式的第四校准区域的放大示意图；

图5是本申请某些实施方式的第五校准区域的第一台阶的平面示意图；

图6是本申请某些实施方式的校准片的本体与第六校准区域的第二台阶的侧面示意图；

图7是本申请某些实施方式的第七校准区域的第三凹槽的平面示意图；

图8是本申请某些实施方式的第三凹槽的放大示意图。

具体实施方式

下面详细描述本申请的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中，相同或类似的标号自始至终表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本申请的实施方式，而不能理解为对本申请的实施方式的限制。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

请参阅图1，本申请实施方式提供一种校准片100。校准片100包括本体10，在本体10上设置有至少两个校准区域20，至少两个校准区域20用于校准光学测量系统200的对焦位置、校准光学测量系统200的反射率检测精度、校准光学测量系统200检测的光斑、校准光学测量系统200的关键尺寸、校准光学测量系统200的台阶检测精度、校准光学测量系统200的膜厚检测精度、及校准光学测量系统200的偏差检测精度中的至少两个。

本申请实施方式的校准片100中，由于本体10设置了至少两个校准区域20，以使校准片100能校准光学测量系统200的对焦位置、反射率检测精度、检测的光斑、关键尺寸、台阶检测精度、膜厚检测精度及偏差检测精度中的至少两个，从而减少了在对光学测量系统200进行校准工作时，需要校准片100的数量，以降低校准光学测量系统200的成本。

下面结合附图作进一步说明。

请结合图1，校准片100包括本体10和校准区域20，校准区域20设置在本体10的表面。

本体10可分为环绕本体10的中心的第一区11、第二区12、第三区13和第四区14。其中，第一区11分别与第二区12和第四区14连接，第二区12与第三区13连接，第三区13与第四区14连接。第一区11、第二区12、第三区13和第四区14关于本体10的中心对称。校准区域20可以分别设置在第一区11、第二区12、第三区13或第四区14内，校准区域20还可以同时设置在第一区11、第二区12、第三区13和第四区14内。其中，第一区11、第二区12、第三区13和第四区14的位置并不局限于图1所示的位置，第一区11的位置还可以是在第二区12的位置、第三区13的位置或第四区14的位置，第二区12的位置、第三区13的位置和第四区14的位置根据第一区11的位置不同，第二区12的位置、第三区13的位置和第四区14的位置同样进行调整。

校准区域20包括第一校准区域21、第二校准区域22、第三校准区域23、第四校准区域24、第五校准区域25、第六校准区域26和第七校准区域27中的至少两个校准区域20。

第一校准区域21的中心与本体10的中心重合，即第一校准区域21位于本体10的中心，则第一校准区域21同时设置在本体10的第一区11、第二区12、第三区13和第四区14内。

请结合图2，第一校准区域21内设置有两个第一矩阵211及两个第二矩阵212，第一矩阵211和第二矩阵212的图形不同。两个第一矩阵211和两个第二矩阵212分别位于第一校准区域21的两条对角线上。例如，当两个第一矩阵211分别位于本体10的第一区11和第三区13时，两个第二矩阵212分别位于本体10的第二区12和第四区14。当两个第一矩阵211分别位于本体10的第二区12和第四区14时，两个第二矩阵212分别位于本体10的第一区11和第三区13。光学测量系统200可通过检测第一矩阵211和第二矩阵212以校准对焦位置。

第一矩阵211包括多个正方形2110，且多个正方形2110等间距排布。第二矩阵212由多个最小重复单元213(图2虚线框)组成，多个最小重复单元213包括多个长方形214，沿长方形214的宽度方向上，长方形214的宽度逐渐减小，且两个矩阵内的最小重复单元213中的长方形214的长边垂直。在某些实施方式中，第一矩阵211和第二矩阵212可以是在本体10表面形成的凹坑或凸起，即多个正方形2110和长方形214在本体10表面形成凹坑或凸起。

在校准光学测量系统200的对焦位置时，由于光学测量系统200可以有多个镜头，且每个镜头的对焦位置及放大倍数不同，则镜头成像时显示的图像里包含的特征也均不相同。例如，当镜头的放大倍数为4倍时，则镜头成像时显示的图像里包含的特征较多，当镜头的放大倍数为20倍时，则镜头成像时显示的图像里包含的特征较少。因此，为便于识别出清晰的成像图像，镜头往往会在第一校准区域21上方平移，以找到成像时包含特征较多的位置，并不断下降镜头的高度，从而找出最清晰的图像，当找到最清晰的图像时，此时镜头的坐标的Z轴坐标值，即镜头的高度为光学测量系统200的对焦位置，从而校准光学测量系统200的对焦位置。其中，在清晰对焦时，位于镜头内的最小重复单元213中宽度逐渐减小的每个长方形均能够形成清晰成像。

请结合图1，第二校准区域22位于第三区13，第二校准区域22包括第一凹槽221，即第一凹槽221位于第三区13，第一凹槽221的底部222的反射率为预定反射率。其中，预定反射率为已知数据，以预定反射率为30％为例，光学测量系统200可通过检测第一凹槽的底部222得到光学测量系统200检测出的检测反射率，例如，检测反射率为29％，则可通过调节光学测量系统200中的软件的参数或硬件设备的位置，从而调节检测反射率，以使检测反射率与预定反射率一致，从而校准光学测量系统200的反射率检测精度。若光学测量系统200检测第一凹槽221的底部222得到的检测反射率与预定反射率一致，则说明光学测量系统200的反射率检测精度达到要求，无需调节。

请结合图1，第三校准区域23位于第一区11、第二区12和第三区13，第三校准区域23包括多个第二凹槽231，多个第二凹糟231分别设置在第一区11、第二区12和第三区13。如图1所示，可以看出，第一区11的第二凹槽231与第二区12第一侧121的第二凹槽231镜面对称，第二区12第二侧122的第二凹槽231和第三区13的第二凹槽231镜面对称，且第二区12第一侧121的第二凹槽231沿第二区12的中心顺时针旋转可得到第二区12第二侧122的第二凹槽231，第二区12第一侧121的第二凹槽231沿本体10的中心逆时针旋转可得到第三区13的第二凹槽231。光学测量系统200可通过检测第二凹槽231以校准检测的光斑，例如，校准光学测量系统200的光斑的位置、大小等参数。

请结合图3，第二凹槽231还包括第一部232和第二部233，第一部232沿第一方向延伸，第二部233沿第二方向延伸，其中，第一方向平行与第一区11和第二区12的连接线，第二方向平行于第二区12和第三区13的连接线。

具体地，在校准光学测量系统200的光斑过程中，光学测量系统200的光斑同时位于到第二凹槽231的底部234与本体10上时，由于第二凹槽231是凹陷于本体10的表面的，则会导致光斑移动到第二凹槽231的底部234上反馈给光学测量系统200的信号强度与光斑移动到本体10表面上反馈给光学测量系统200的信号强度不一致，光学测量系统200可通过光学测量系统200上显示光斑移动的距离，以计算得出光斑的大小。例如，当光斑移动到在本体10表面时，反馈给光学测量系统200的信号值为10000，当光斑移动到第二凹槽231的底部234时，反馈给光学测量系统200的信号值为5000，则可将光斑先完全移动至第二凹槽231的底部234，当部分光斑移动至第一部232或第二部233的边缘时，则光斑反馈给光学测量系统200的信号值开始减弱，记录光斑反馈的信号值开始减弱时，光斑在光学测量系统200中显示的坐标1，当信号值减弱为7500时，此时，记录光斑在光学测量系统200中显示的坐标2，光学测量系统200通过坐标1和坐标2则可计算得出光斑的半径。例如，坐标1为(10，0)，坐标2为(5，0)，坐标轴单位为毫米，即光斑在X轴负方向上移动了5毫米，此时，光斑的半径则为5毫米，且光斑的坐标为(5，0)。又例如，坐标1为(10，3)，坐标2为(10，7)，即光斑在Y轴正方向上移动了4毫米，说明光斑的半径为4毫米，且光斑的坐标为(10，7)。如此，在标定了光斑的大小后，根据光斑中心移动至校准片100的任意位置时，接收的信号对应的区域的中心位置，由于该中心位置和光斑的中心重合，因此，根据光斑的大小和该中心位置即可确定光斑的位置。

请结合图1和图4，第四校准区域24位于第一区11和第四区14的连接线上，第四校准区域24内设置有第三矩阵241，即第三矩阵241位于第一区11和第四区14的连接线上，并关于第一区11和第四区14的连接线对称。第三矩阵241可用于校准光学测量系统200的关键尺寸。其中，关键尺寸为最小特征尺寸，例如，当光学测量系统200测量的工件为晶圆时，则关键尺寸为晶圆上的最小特征尺寸。因此，校准光学测量系统200的关键尺寸，即校准光学测量系统200能够检测到的最小尺寸。

第三矩阵241包括有多个矩形242，多个矩形242尺寸相同且多个矩形242等间距排列。在一个例子中，第三矩阵241的尺寸可以是5毫米*5毫米的正方形，矩形242的尺寸可以是4微米*4微米的正方形，且多个矩形242的间距为1微米，则第三矩阵241内最多包含有1000个等间距排列的矩形242，当光学测量系统200需要检测到的关键尺寸精度为微米级时，则可对第三矩阵241中的任意一个矩形242进行尺寸检测，并与矩形242的预设尺寸对比，并调节光学测量系统200检测中的软件的参数和/或硬件设备的位置，以调节到光学测量系统200检测到第三矩阵241中的矩形242的实际尺寸与矩形242的预设尺寸相一致，从而校准光学测量系统200的关键尺寸。其中，针对光学测量系统200需要检测到的关键尺寸的不同，光学测量系统200可选择检测一个矩形242，还可以选择检测在同一行或同一列的多个矩形242。

请结合图1，第五校准区域25位于第三区13和第四区14的连接线上，第五校准区域25包括多个第一凸台251，即多个第一凸台251依次设置在第三区13和第四区14的连接线上，且第一凸台251关于第三区13和第四区14的连接线轴对称，以便于当光学测量系统200检测第一凸台251时，可迅速找到第一凸台251的位置，节省校准光学测量系统200的台阶检测精度的时间，且多个第一凸台251的高度不同，以使校准片100可以校准光学测量系统200检测多种高度的台阶的检测精度，无需在检测不同高度的台阶时，更换校准片100，从而减少需要的校准片100的数量，以减少检测成本并提高检测效率。

请结合图5，第一凸台251包括相背的第一顶面2511和第一底面2512，其中，第一底面2512设置在本体10与第一凸台251相对的表面，即第一凸台251与本体10通过第一底面2512相接触。第一凸台251的高度为第一顶面2511和第一底面2512之间的距离，第一凸台251的高度为预定高度且多个第一凸台251的高度不同。

在一个实施例中，第一顶面2511可高于本体10的表面，第一底面2512可低于本体10的表面，以形成第一凸台251，则部分第一凸台251在本体10上凸起。在另一个实施例中，第一顶面2511可与本体10的表面高度一致，第一底面2512可低于本体10的表面，以形成第一凸台251，则第一凸台251在本体10上形成凹坑。在又一个实施例中，第一顶面2511和第一底面2512均可低于本体10的表面，以形成第一凸台251，则第一凸台251在本体10上形成凹坑。在又一个实施例中，第一顶面2511还可高于本体10的表面，第一底面2512与本体10的表面高度一致，以形成第一凸台251，则第一凸台251完全在本体10上凸起。

在某些实施方式中，以预定高度为5微米为例，则第一顶面2511到第一底面2512的距离为5微米。当光学测量系统200的光斑移动到第一顶面2511或第一底面2512时，可将此时光学测量系统200显示的位置高度归零，再将光学测量系统200的光斑移动到第一底面2512或第一顶面2511，则光学测量系统200可检测出第一顶面2511到第一底面2512距离的检测高度，即第一凸台251的检测高度，例如，检测高度为5.1微米，则可通过调节光学测量系统200中的软件的参数或硬件设备的位置，以调节至检测高度与预定高度一致，从而校准光学测量系统200的台阶检测精度。若光学测量系统200对第一凸台251的检测高度与预定高度一致，则说明光学测量系统200的台阶检测精度达到要求，无需调节。

请结合图1，第六校准区域26位于第二区12和/或第四区14，当所述第六校准区域26分别位于第二区12和第四区14时，第六校准区域26包括多个第二凸台261，即多个第二凸台261分别设置在第二区12和第四区14，且相对的两个第二凸台261关于本体10的中心呈中心对称。例如，当第二凸台261的数量为2个时，则两个第二凸台261分别位于第二区12和第四区14，且两个第二凸台261关于本体10的中心呈中心对称。又例如，当第二凸台261的数量为3个时，则其中两个凸台位于第二区12或第四区14，且不同区的两个第二凸台261关于本体10呈中心对称。光学测量系统200可通过检测第二凸台261以确定膜厚检测精度。

请结合图6，第二凸台261包括相背的第二顶面2611和第二底面2612，第二底面2612设置在本体10与第二凸台261相对的表面，即第二凸台261与本体10通过第二底面2612相接触。第二凸台261的厚度为第二顶面2611和第二底面2612之间的距离，第二凸台261的厚度为预定厚度，且多个第二凸台261的厚度不同，以使校准片100可以校准光学测量系统200检测多个厚度的膜厚检测精度，无需在检测不同厚度的膜厚时，更换校准片100，从而减少需要的校准片100的数量，以减少检测成本并提高检测效率。

其中，第二顶面2611高于本体10的表面，第二底面2612与本体10的表面高度相同，以形成第二凸台261，则第二凸台261在本体10上形成凸起，第二凸台261的厚度为第一顶面2511到本体10的表面的距离。

在某些实施方式中，以预定厚度为10微米为例，则第二顶面2611到第二底面2612的距离为10微米。由于第六检测区域26为镀膜区域，其中，镀膜的材料、折射率和消光系数都是已知的，由于光学测量系统200的光斑移动至第二顶面2611和本体10的表面时，光斑反馈给光学测量系统200的信息是不同的，则光学测量系统200可通过反馈的信息判断光斑是移动在第二顶面2611上还是本体10的表面上。当光学测量系统200的光斑移动到第二顶面2611或本体10的表面时，可将此时光学测量系统200显示的位置高度归零，再将光学测量系统200的光斑移动到本体10的表面或第二顶面2611，光学测量系统200则可检测出第二顶面2611到本体10的表面的距离，由于本体10的表面与第二底面2612的高度一致，即检测出第二顶面2611到第二底面2612的距离，即检测出第二凸台261的检测厚度。例如，检测厚度为9.8微米，则可通过调节光学测量系统200中的软件的参数或硬件设备的位置，以调节至检测厚度与预定高度一致，从而校准光学测量系统200的膜厚检测精度。

请参阅图1，第七校准区域27位于第一区11和第二区12，第七校准区域27内设置有多个第四矩阵271，即多个第四矩阵271位于第一区11和第二区12，且当第四矩阵271同时位于第一区11和第二区12时，则第四矩阵271设置在第一区11和第二区12的连接线上，并关于第一区11和第二区12的连接线对称。多个第四矩阵271可用于校准光学检测系统200的偏移检测精度，且多个第四矩阵271中的尺寸不同，以使校准片100可以校准光学测量系统200检测多个尺寸偏移检测的精度，无需在检测不同的偏移检测精度时，更换校准片100，从而减少需要的校准片100的数量，以减少检测成本并提高检测效率。

请结合图7，第四矩阵271包括有多个第三凹槽272，多个第三凹槽272等间距分布。

具体地，如图8所示，第三凹槽272由多个大小不同、且圆心不同的圆形凹槽组成，且大圆环绕小圆设置，第三凹槽272在平行于本体10的平面上的投影上由第一圆2721和第二圆2722组成，且第一圆2721和第二圆2722的圆心不同心，第一圆2721的圆心与第二圆2722的圆心之间的圆心距为预定圆心距，即，在预定圆心距不为0时，第一圆2721的圆心与第二圆2722的圆心不重合。

在某些实施方式中，以预定圆心距为1微米为例，则第一圆2721的圆心到第二圆2722的圆心之间的圆心距为1微米。当对光学测量系统200的偏移检测精度进行校准时，可选取检测通过选取任意一个第三凹槽272进行检测，通过检测第一圆2721的圆心与第二圆2722的圆心之间的距离，即可得到两个圆的检测圆心距。例如，检测圆心距为1.3微米，则可通过调节光学测量系统200中的软件的参数或硬件设备的位置，以调节至检测圆心距与预定圆心距一致，从而校准光学测量系统200的偏移检测精度。若光学测量系统200对第三凹槽272的检测圆心距与预定圆心距一致，则说明光学测量系统200的偏移检测精度达到要求，无需调节。

其中，由于每个第三凹槽272的尺寸较小，多个第三凹槽272等间距分布，可保证当有一个第三凹槽272出现损伤时，第七校准区域27仍有多个第三凹槽272可以用于提供检测，并且可重复多次检测多个不同位置的第三凹槽272，以保证最终校准结果的准确性。

在本说明书的描述中，参考术语“某些实施方式”、“一个实施方式”、“一些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”的描述意指结合实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个，除非另有明确具体的限定。

尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本申请的限制，本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型，本申请的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (14)

1.一种校准片，其特征在于，包括本体，在所述本体上设置有至少两个校准区域，至少两个所述校准区域用于校准光学测量系统的对焦位置、校准所述光学测量系统的反射率检测精度、校准所述光学测量系统检测的光斑、校准所述光学测量系统的关键尺寸、校准所述光学测量系统的台阶检测精度、校准所述光学测量系统的膜厚检测精度、及校准所述光学测量系统的偏差检测精度中的至少两个。

2.根据权利要求1所述的校准片，其特征在于，所述校准区域包括第一校准区域，所述第一校准区域用于校准所述对焦位置，所述第一校准区域的中心与所述本体的中心重合，所述第一校准区域内设置有两个第一矩阵及两个第二矩阵，所述第一矩阵和所述第二矩阵中的图形不同，所述第一校准区域为矩形，两个所述第一矩阵和两个所述第二矩阵分别位于所述第一校准区域内两条对角线上。

3.根据权利要求2所述的校准片，其特征在于，所述第一矩阵包括多个正方形，多个所述正方形等间距排布；所述第二矩阵分别由多个最小重复单元组成，所述最小重复单元包括多个长方形，沿所述长方形的宽度方向，所述长方形的宽度逐渐减小。

4.根据权利要求3所述的校准片，其特征在于，两个所述第二矩阵的所述最小重复单元中的所述长方形的长边垂直。

5.根据权利要求1所述的校准片，其特征在于，所述校准区域包括第二校准区域，所述第二校准区域用于校准所述反射率检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第二校准区域位于所述第三区，所述第二校准区域包括第一凹槽，所述第一凹槽的底部的反射率为预定反射率。

6.根据权利要求1所述的校准片，其特征在于，所述校准区域包括第三校准区域，所述第三校准区域用于校准光斑，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第三校准区域位于所述第一区、所述第二区和所述第三区，所述第三校准区域包括多个第二凹槽，多个所述第二凹槽分别设置在所述第一区、所述第二区和所述第三区。

7.根据权利要求6所述的校准片，其特征在于，所述第二凹槽包括第一部和第二部，所述第一部沿第一方向延伸，所述第二部沿所述第二方向延伸，所述第一方向平行所述第一区和所述第二区的连接线，所述第二方向平行所述第二区和所述第三区的连接线。

8.根据权利要求1所述的校准片，其特征在于，所述校准区域包括第四校准区域，所述第四校准区域用于校准所述关键尺寸，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第四校准区域的中心位于所述第一区和所述第四区的连接线上，所述第四校准区域内设置有第三矩阵，所述第三矩阵包括多个矩形，多个矩形等间距排列。

9.根据权利要求1所述的校准片，其特征在于，所述校准区域包括第五校准区域，所述第五校准区域用于校准所述台阶检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第五校准区域位于所述第三区和所述第四区的连接线上，所述第五校准区域包括多个第一凸台，多个所述第一凸台依次设置在所述第三区和所述第四区的连接线上，所述第一凸台关于所述第三区和所述第四区的连接线轴对称。

10.根据权利要求9所述的校准片，其特征在于，所述第一凸台的高度为预定高度，所述第一凸台包括相背的第一顶面和第一底面，所述第一底面设置在所述本体与所述第一凸台相对的表面，所述第一凸台的高度为所述第一顶面和所述第一底面之间的距离。

11.根据权利要求1所述的校准片，其特征在于，所述校准区域包括第六校准区域，所述第六校准区域用于校准所述膜厚检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第六校准区域位于所述第二区和所述第四区，所述第六校准区域包括多个第二凸台，多个所述第二凸台分别设置在所述第二区和所述第四区，相对的两个所述第二凸台关于所述本体的中心呈中心对称。

12.根据权利要求11所述的校准片，其特征在于，所述第二凸台的厚度为预定厚度，所述第二凸台包括相背的第二顶面和第二底面，所述第二底面设置在所述本体与所述第二凸台相对的表面，所述第二凸台的厚度为所述第二顶面和所述第二底面之间的距离。

13.根据权利要求1所述的校准片，其特征在于，所述校准区域包括第七校准区域，所述第七校准区域用于校准所述偏移检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第七校准区域位于所述第一区和所述第二区，所述第七校准区域内设置有多个第四矩阵，多个所述第四矩阵分别设置在所述第一区、所述第一区和所述第二区的连接线上，所述第一区和所述第二区的连接线上的所述第四矩阵关于所述第一区和所述第二区的连接线对称。

14.根据权利要求13所述的校准片，其特征在于，所述第四矩阵包括多个第三凹槽，多个所述第三凹槽等间距分布，所述第三凹槽在平行所述本体的平面上的投影由第一圆和第二圆组成，所述第一圆的圆心与所述第二圆的圆心之间的圆心距为预定圆心距。

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