CN215314382U - 一种全自动晶片清洗机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种全自动晶片清洗机，包括底座、搅拌叶，所述底座顶部中心位置通过螺钉设置有支撑仓，所述支撑仓顶部通过螺钉设置有超声波清洗机，所述底座顶部位于支撑仓外侧设置有支撑架，所述支撑架之间位于超声波清洗机顶部设置有承载架，所述超声波清洗机内位于搅拌叶顶部设置有清洗篮。便于具有搅拌机构，便于在清洗液中加入辅助清洁材料后，对清洗液进行初步的均匀搅拌，使得晶片在浸泡清洗时能够均匀的接触到清洗材料，从而大幅度提升了清洗质量。

Description

一种全自动晶片清洗机

技术领域

本实用新型涉及晶片技术领域，特别涉及一种全自动晶片清洗机。

背景技术

晶片是LED最主要的原物料之一，是LED的发光部件，LED最核心的部分，晶片的好坏将直接决定LED的性能，晶片是由是由Ⅲ和Ⅴ族复合半导体物质构成，在LED封装时，晶片来料呈整齐排列在晶片膜上。

晶片在清洗时，需要分别卡固于支撑架上再放入清洁机构内进行清洗，而目前，相关的清洗机构只具备了单纯的超声波震动清洗功能，而由于晶片的特殊性，在清洗时会加入特殊的清洗液，而清洗时，光凭借超声波的震动无法彻底的将清洗液与水源进行充分搅匀，使得清洗时，无法做到完全的均匀化清洗，从而大幅度降低了清洗质量。

现有的全自动晶片清洗机还存在以下弊端：1、缺乏相关搅拌机构，使得加入特殊的清洗液时，无法对清洗液与水源进行充分搅匀，使得清洗时，无法做到完全的均匀化清洗，从而大幅度降低了清洗质量；2、缺乏相关替代人力对晶片进行清洗后的沥水机构，同时，缺乏相关烘干机构配合沥水结构对晶片进行即时风吹烘干，从而大幅度降低了清洁效率。为此，我们提出一种全自动晶片清洗机。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种全自动晶片清洗机，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种全自动晶片清洗机，包括底座、搅拌叶，所述底座顶部中心位置通过螺钉设置有支撑仓，所述支撑仓顶部通过螺钉设置有超声波清洗机，所述底座顶部位于支撑仓外侧设置有支撑架，所述支撑架之间位于超声波清洗机顶部设置有承载架，所述超声波清洗机内位于搅拌叶顶部设置有清洗篮。

进一步地，所述支撑仓内通过螺钉设置有微型电机，所述超声波清洗机内底部设置有搅拌叶，所述微型电机驱动端与搅拌叶连接；通过微型电机驱动搅拌叶对水源以及清洗液进行均匀的搅拌，以便于晶片浸泡于超声波清洗机清洗时，能够均匀充分的与清洗液接触清洗。

进一步地，所述承载架底部表面对应超声波清洗机位置通过螺栓设置有电动液压推杆，所述清洗篮顶部之间设置有托架，所述电动液压推杆驱动端与托架连接；通过电动液压推杆驱动清洗篮顶部的托架进行上升，使得清洗篮脱离出超声波清洗机内位于其顶部，以实现替代人力进行沥水的效果。

进一步地，所述清洗篮表面均匀开设有网孔。

进一步地，所述底座顶部位于支撑仓一侧设置有支撑柱，所述支撑柱一侧顶部对应超声波清洗机位置通过螺栓设置有烘干风机，所述烘干风机出风端位于超声波清洗机顶部。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

1、通过设置微型电机和搅拌叶，利用微型电机驱动搅拌叶对水源以及清洗液进行均匀的搅拌，以便于晶片浸泡于超声波清洗机清洗时，能够均匀充分的与清洗液接触清洗，以实现完全的均匀化清洗效果，从而大幅度提升了清洗质量。

2、通过设置电动液压推杆、清洗篮、托架和烘干风机，利用电动液压推杆驱动清洗篮顶部的托架进行上升，使得清洗篮脱离出超声波清洗机内位于其顶部，以实现替代人力进行沥水的效果，并利用烘干风机对清洗篮内侧晶片进行即时风吹烘干，以提升清洗效率。

附图说明

图1为本实用新型一种全自动晶片清洗机的整体结构示意图。

图2为本实用新型一种全自动晶片清洗机的微型电机和搅拌叶结构示意图。

图中：1、底座；2、支撑仓；3、微型电机；4、超声波清洗机；5、搅拌叶；6、支撑架；7、承载架；8、电动液压推杆；9、清洗篮；10、托架；11、支撑柱；12、烘干风机。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

如图1-2所示，一种全自动晶片清洗机，包括底座1、搅拌叶5，所述底座1顶部中心位置通过螺钉设置有支撑仓2，所述支撑仓2顶部通过螺钉设置有超声波清洗机4，所述底座1顶部位于支撑仓2外侧设置有支撑架6，所述支撑架6之间位于超声波清洗机4顶部设置有承载架7，所述超声波清洗机4内位于搅拌叶5顶部设置有清洗篮9。

其中，所述支撑仓2内通过螺钉设置有微型电机3，所述超声波清洗机4内底部设置有搅拌叶5，所述微型电机3驱动端与搅拌叶5连接。

本实施例中如图1、2所示，通过微型电机3驱动搅拌叶5对水源以及清洗液进行均匀的搅拌，以便于晶片浸泡于超声波清洗机4清洗时，能够均匀充分的与清洗液接触清洗。

其中，所述承载架7底部表面对应超声波清洗机4位置通过螺栓设置有电动液压推杆8，所述清洗篮9顶部之间设置有托架10，所述电动液压推杆8驱动端与托架10连接。

本实施例中如图1、2所示，通过电动液压推杆8驱动清洗篮9顶部的托架10进行上升，使得清洗篮9脱离出超声波清洗机4内位于其顶部，以实现替代人力进行沥水的效果。

其中，所述清洗篮9表面均匀开设有网孔。

本实施例中如图1所示，通过清洗篮9表面均匀开设的网孔，以便于沥水时水源穿过。

其中，所述底座1顶部位于支撑仓2一侧设置有支撑柱11，所述支撑柱11一侧顶部对应超声波清洗机4位置通过螺栓设置有烘干风机12，所述烘干风机12出风端位于超声波清洗机4顶部。

本实施例中如图1、2所示，通过烘干风机12对清洗篮9内侧晶片进行即时风吹烘干，以提升清洗效率。

需要说明的是，本实用新型为一种全自动晶片清洗机，清洗时，人员将微型电机3、超声波清洗机4、电动液压推杆8和烘干风机12外接电源连接，下一步，人员将特殊清洗液倒入超声波清洗机4以及水源，开启微型电机3驱动搅拌叶5对水源以及清洗液进行均匀的搅拌，以便于晶片浸泡于超声波清洗机4清洗时，能够均匀充分的与清洗液接触清洗，下一步，人员将担载有晶片的支架直接放置于清洗篮9内，开启超声波清洗机4对晶片进行清洗，下一步，清洗完成时，通过电动液压推杆8驱动清洗篮9顶部的托架10进行上升，使得清洗篮9脱离出超声波清洗机4内位于其顶部，以实现替代人力进行沥水的效果，并通过烘干风机12对清洗篮9内侧晶片进行即时风吹烘干，以提升清洗效率。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (5)

1.一种全自动晶片清洗机，包括底座(1)、搅拌叶(5)，其特征在于，所述底座(1)顶部中心位置通过螺钉设置有支撑仓(2)，所述支撑仓(2)顶部通过螺钉设置有超声波清洗机(4)，所述底座(1)顶部位于支撑仓(2)外侧设置有支撑架(6)，所述支撑架(6)之间位于超声波清洗机(4)顶部设置有承载架(7)，所述超声波清洗机(4)内位于搅拌叶(5)顶部设置有清洗篮(9)。

2.根据权利要求1所述的一种全自动晶片清洗机，其特征在于：所述支撑仓(2)内通过螺钉设置有微型电机(3)，所述超声波清洗机(4)内底部设置有搅拌叶(5)，所述微型电机(3)驱动端与搅拌叶(5)连接。

3.根据权利要求1所述的一种全自动晶片清洗机，其特征在于：所述承载架(7)底部表面对应超声波清洗机(4)位置通过螺栓设置有电动液压推杆(8)，所述清洗篮(9)顶部之间设置有托架(10)，所述电动液压推杆(8)驱动端与托架(10)连接。

4.根据权利要求1所述的一种全自动晶片清洗机，其特征在于：所述清洗篮(9)表面均匀开设有网孔。

5.根据权利要求1所述的一种全自动晶片清洗机，其特征在于：所述底座(1)顶部位于支撑仓(2)一侧设置有支撑柱(11)，所述支撑柱(11)一侧顶部对应超声波清洗机(4)位置通过螺栓设置有烘干风机(12)，所述烘干风机(12)出风端位于超声波清洗机(4)顶部。

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