CN215297944U - 一种半导体生产制造用光刻机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种半导体生产制造用光刻机，包括光刻机本体、水箱和盒体，所述光刻机本体一侧通过螺栓固定有水箱，所述水箱内部通过螺栓固定有过滤网，所述水箱顶部通过螺栓固定有盒体，所述盒体顶部设置有盒盖，所述盒盖底部通过安装架安装有放置板，所述放置板顶部开设有卡槽，所述水箱内顶部热熔连接有限位架，所述限位架内部套设有玻璃板，所述水箱顶部一端通过螺栓固定有抽水泵。本实用新型可以对刻印后的晶圆进行清洗，同时方便人员检测、观察晶圆上刻印的图案。

Description

一种半导体生产制造用光刻机

技术领域

本实用新型涉及光刻机技术领域，特别涉及一种半导体生产制造用光刻机。

背景技术

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。

但是现有的一种半导体生产制造用光刻机不足之处在于：1、整体结构简单，不具备清洗功能，不能清洗掉残留在晶圆表面的杂质，2、不方便人员进行检测、观察晶圆表面的刻印的图案。为此，我们提出一种半导体生产制造用光刻机。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种半导体生产制造用光刻机，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种半导体生产制造用光刻机，包括光刻机本体、水箱和盒体，所述光刻机本体一侧通过螺栓固定有水箱，所述水箱内部通过螺栓固定有过滤网，所述水箱顶部通过螺栓固定有盒体，所述盒体顶部设置有盒盖，所述盒盖底部通过安装架安装有放置板，所述放置板顶部开设有卡槽，所述水箱内顶部热熔连接有限位架，所述限位架内部套设有玻璃板，所述水箱顶部一端通过螺栓固定有抽水泵。

进一步地，所述盒体一侧热熔连接有一号观察筒，所述一号观察筒内部通过卡槽固定有一号放大镜，所述一号观察筒顶端套设有二号观察筒，所述二号观察筒内部通过卡槽固定有二号放大镜。

进一步地，所述盒体内部一端通过螺纹槽连接有喷头，所述盒体内部一端胶合有橡胶卡座，所述限位架内部胶合有橡胶圈。

进一步地，所述抽水泵的进水管通过卡箍固定有抽水管，所述抽水管位于水箱内部，所述抽水泵的出水管通过管道与喷头连接。

进一步地，所述水箱一侧通过转轴连接有箱门，所述水箱和盒体之间开设有二号预留孔，所述二号预留孔的数量为多个：打开箱门可以对过滤网过滤下的杂质进行清理。

进一步地，所述放置板底部开设有一号预留孔，所述一号预留孔的数量为多个；多个一号预留孔使卡槽内纯水可以流出。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

1、通过设置抽水泵、放置板和过滤网，人员上拉盒盖带动放置板上，将刻印完成后的晶圆放在放置板上的卡槽内，再将盒盖盖在盒体上，使放置板移至盒体内部，打开抽水泵可以将抽水管将水箱内纯水抽出经喷头喷至晶圆上，对晶圆表面的杂质进行清洗，放置板上的多个一号预留孔和水箱和盒体之间的多个二号预留孔，使纯水可以重新流至水箱内，方便再次利用，过滤网可以对纯水中的杂质进行过滤。

2、通过设置一号观察筒、二号观察筒、一号放大镜和二号放大镜，人员透过二号观察筒内的二号放大镜和一号观察筒内的一号放大镜，可以观察到放置板上的晶圆，且二号观察筒套接在一号观察筒顶端，可以进行伸缩，方便人员清晰的观察晶圆上的图案，玻璃板可以阻挡清洗时的水渍喷溅至一号观察筒内，橡胶卡座可以提高玻璃板的结构稳定性，限位架内的多个橡胶圈可以防止水渍泄漏出去。

附图说明

图1为本实用新型一种半导体生产制造用光刻机的整体结构示意图。

图2为本实用新型一种半导体生产制造用光刻机的水箱结构示意图。

图3为本实用新型一种半导体生产制造用光刻机的盒体结构示意图。

图中：1、光刻机本体；2、水箱；3、盒体；4、抽水泵；5、过滤网；6、抽水管；7、盒盖；8、一号观察筒；9、喷头；10、放置板；11、卡槽；12、一号预留孔；13、橡胶卡座；14、玻璃板；15、限位架；16、橡胶圈；17、二号观察筒；18、一号放大镜；19、二号放大镜；20、二号预留孔；21、箱门。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

如图1-3所示，一种半导体生产制造用光刻机，包括光刻机本体1、水箱2和盒体3，所述光刻机本体1一侧通过螺栓固定有水箱2，所述水箱2内部通过螺栓固定有过滤网5，所述水箱2顶部通过螺栓固定有盒体3，所述盒体3顶部设置有盒盖7，所述盒盖7底部通过安装架安装有放置板10，所述放置板10顶部开设有卡槽11，所述水箱2内顶部热熔连接有限位架15，所述限位架15内部套设有玻璃板14，所述水箱2顶部一端通过螺栓固定有抽水泵4。

其中，所述盒体3一侧热熔连接有一号观察筒8，所述一号观察筒8内部通过卡槽固定有一号放大镜18，所述一号观察筒8顶端套设有二号观察筒17，所述二号观察筒17内部通过卡槽固定有二号放大镜19。

本实施例中如图3所示，人员透过二号观察筒17内的二号放大镜19和一号观察筒8内的一号放大镜18，可以观察到放置板10上的晶圆。

其中，所述盒体3内部一端通过螺纹槽连接有喷头9，所述盒体3内部一端胶合有橡胶卡座13，所述限位架15内部胶合有橡胶圈16。

本实施例中如图3所示橡胶卡座13可以提高玻璃板14的结构稳定性，橡胶圈16可以在限位架15和玻璃板14之间起到密封作用。

其中，所述抽水泵4的进水管通过卡箍固定有抽水管6，所述抽水管6位于水箱2内部，所述抽水泵4的出水管通过管道与喷头9连接。

本实施例中如图2所示，抽水泵4工作通过抽水管6将水箱2内纯水抽出，经喷头9喷出。

其中，所述水箱2一侧通过转轴连接有箱门21，所述水箱2和盒体3之间开设有二号预留孔20，所述二号预留孔20的数量为多个。

本实施例中如图2所示，打开箱门21可以对过滤网5过滤下的杂质进行清理，多个二号预留孔20方便盒体3内纯水流至水箱2内。

其中，所述放置板10底部开设有一号预留孔12，所述一号预留孔12的数量为多个。

本实施例中如图3所示，多个一号预留孔12使卡槽11内纯水可以流出。

需要说明的是，本实用新型为一种半导体生产制造用光刻机，工作时人员使用电源线将抽水泵4与外部电源连接，将纯水倒入水箱2内，人员上拉盒盖7带动放置板10上，将刻印完成后的晶圆放在放置板10上的卡槽11内，再将盒盖7盖在盒体3上，使放置板10移至盒体3内部，打开抽水泵4可以将抽水管6将水箱2内纯水抽出经喷头9喷至晶圆上，对晶圆表面的杂质进行清洗，放置板10上的多个一号预留孔12和水箱2和盒体3之间的多个二号预留孔20，使纯水可以重新流至水箱2内，方便再次利用，过滤网5可以对纯水中的杂质进行过滤，人员透过二号观察筒17内的二号放大镜19和一号观察筒8内的一号放大镜18，可以观察到放置板10上的晶圆，且二号观察筒17套接在一号观察筒8顶端，可以进行伸缩，方便人员清晰的观察晶圆上的图案，玻璃板14可以阻挡清洗时的水渍喷溅至一号观察筒8内，橡胶卡座13可以提高玻璃板14的结构稳定性，限位架15内的多个橡胶圈16可以防止水渍泄漏出去。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (6)

1.一种半导体生产制造用光刻机，包括光刻机本体(1)、水箱(2)和盒体(3)，其特征在于：所述光刻机本体(1)一侧通过螺栓固定有水箱(2)，所述水箱(2)内部通过螺栓固定有过滤网(5)，所述水箱(2)顶部通过螺栓固定有盒体(3)，所述盒体(3)顶部设置有盒盖(7)，所述盒盖(7)底部通过安装架安装有放置板(10)，所述放置板(10)顶部开设有卡槽(11)，所述水箱(2)内顶部热熔连接有限位架(15)，所述限位架(15)内部套设有玻璃板(14)，所述水箱(2)顶部一端通过螺栓固定有抽水泵(4)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体生产制造用光刻机，其特征在于：所述盒体(3)一侧热熔连接有一号观察筒(8)，所述一号观察筒(8)内部通过卡槽固定有一号放大镜(18)，所述一号观察筒(8)顶端套设有二号观察筒(17)，所述二号观察筒(17)内部通过卡槽固定有二号放大镜(19)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体生产制造用光刻机，其特征在于：所述盒体(3)内部一端通过螺纹槽连接有喷头(9)，所述盒体(3)内部一端胶合有橡胶卡座(13)，所述限位架(15)内部胶合有橡胶圈(16)。

4.根据权利要求1所述的一种半导体生产制造用光刻机，其特征在于：所述抽水泵(4)的进水管通过卡箍固定有抽水管(6)，所述抽水管(6)位于水箱(2)内部，所述抽水泵(4)的出水管通过管道与喷头(9)连接。

5.根据权利要求1所述的一种半导体生产制造用光刻机，其特征在于：所述水箱(2)一侧通过转轴连接有箱门(21)，所述水箱(2)和盒体(3)之间开设有二号预留孔(20)，所述二号预留孔(20)的数量为多个。

6.根据权利要求1所述的一种半导体生产制造用光刻机，其特征在于：所述放置板(10)底部开设有一号预留孔(12)，所述一号预留孔(12)的数量为多个。

Images