CN215251167U - 一种mpcvd装置 - Google Patents
一种mpcvd装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN215251167U CN215251167U CN202120311669.8U CN202120311669U CN215251167U CN 215251167 U CN215251167 U CN 215251167U CN 202120311669 U CN202120311669 U CN 202120311669U CN 215251167 U CN215251167 U CN 215251167U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- fixedly connected
- heat dissipation
- cavity
- heating
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
一种MPCVD装置,包括:支撑柱,支撑柱顶部设有工作机构,工作机构内部设有加热机构,加热机构顶部设有散热机构,散热机构顶部设有基片,工作机构内部设有第一腔体和第二腔体,散热机构包括第二电动推杆,第二电动推杆固定连接在第一腔体内部,第二电动推杆输出端固定连接有活动轴,活动轴内部固定连接有散热管,散热管远离活动轴一端固定连接有散热片,本实用新型具有以下优点:通过移动散热机构,使得加热机构的加热器与基片,紧密贴合,从而使得加热更加快,更加均匀,防止散热机构影响加热效果,导致加热不均匀,使得金刚石品质受到影响,移动加热机构,使得散热机构的散热片于基片紧贴合,使得散热更加快,增加散热的效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及金刚石生产技术领域,具体涉及一种MPCVD装置。
背景技术
MPCVD装置即微波等离子体化学气相沉积装置,装置通过等离子化的反应气体在基片的籽晶表面沉积以形成金刚石。
现有的装置缺少散热机构,在使用后,无法快速冷却装置,将金刚石取出,使用了冷却装置,会导致加热时,不均匀,影响金刚石品质。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是现有的装置缺少散热机构,在使用后,无法快速冷却装置,将金刚石取出,使用了冷却装置,会导致加热时,不均匀,影响金刚石品质,现提供一种MPCVD装置,通过移动散热机构,使得加热机构的加热器与基片,紧密贴合,从而使得加热更加快,更加均匀,防止散热机构影响加热效果,导致加热不均匀,使得金刚石品质受到影响,移动加热机构,使得散热机构的散热片于基片紧贴合,使得散热更加快,增加散热的效率。
本实用新型解决技术问题采用的技术方案是:一种MPCVD装置,包括:支撑柱,所述支撑柱顶部设有工作机构,所述工作机构内部设有加热机构,所述加热机构顶部设有散热机构,所述散热机构顶部设有基片,所述工作机构内部设有第一腔体和第二腔体,所述散热机构包括第二电动推杆,所述第二电动推杆固定连接在第一腔体内部,所述第二电动推杆输出端固定连接有活动轴,所述活动轴内部固定连接有散热管,所述散热管远离活动轴一端固定连接有散热片,所述散热片顶部固定连接有散热板。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述工作机构包括工作箱,所述工作箱固定连接在支撑柱顶部,所述工作箱内部设有第一腔体,所述工作箱在第一腔体内部设有第二腔体,所述工作箱顶部一端固定连接有进气管,所述工作箱底部远离进气管一端固定连接有出气管。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述加热机构包括第一电动推杆,所述第一电动推杆固定连接在第二腔体内部,所述第一电动推杆顶部固定连接有伸缩轴,所述伸缩轴远离第一电动推杆一端固定连接有活动板,所述活动板顶部固定连接有加热器。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述散热管两端分为进液口和出液口,所述散热管缠绕在散热片上,所述散热板顶部卡接有基片,所述基片固定连接在第二腔体内部。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述第一腔体内部四角均固定连接有磁场线圈,所述工作箱顶部固定连接有波导,所述波导远离工作箱一端固定连接有微波源,所述波导中部固定连接有调配器。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述第二腔体内部固定连接有导轨,所述第二腔体通过导轨滑动连接有伸缩轴。
本实用新型具有以下优点:通过移动散热机构,使得加热机构的加热器与基片,紧密贴合,从而使得加热更加快,更加均匀,防止散热机构影响加热效果,导致加热不均匀,使得金刚石品质受到影响,移动加热机构,使得散热机构的散热片于基片紧贴合,使得散热更加快,增加散热的效率。
附图说明
图1是本实用新型一优选实施例的一种MPCVD装置的正面结构示意图;
图2是本实用新型一优选实施例的一种MPCVD装置的底板正面剖视结构示意图;
图3是本实用新型一优选实施例的一种MPCVD装置的侧面结构示意图;
图4是本实用新型一优选实施例的一种MPCVD装置的减震机构剖视结构示意图。
附图标记说明:1、支撑柱;2、工作机构;21、工作箱;22、第一腔体;23、第二腔体;24、进气管;25、出气管;3、磁场线圈;4、加热机构;41、第一电动推杆;42、伸缩轴;43、活动板;44、加热器;5、散热机构;51、第二电动推杆;52、活动轴;53、散热管;54、散热片;55、散热板;6、基片;7、微波源;8、波导;9、调配器。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述。在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相正对地重要性。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
请结合参阅图1-4,本实用新型一种MPCVD装置,包括:支撑柱1,支撑柱1顶部设有工作机构2,工作机构2内部设有加热机构4,加热机构4顶部设有散热机构5,散热机构5顶部设有基片6,工作机构2内部设有第一腔体22和第二腔体23,散热机构5包括第二电动推杆51,第二电动推杆51固定连接在第一腔体22内部,第二电动推杆51输出端固定连接有活动轴52,活动轴52内部固定连接有散热管53,散热管53远离活动轴52一端固定连接有散热片54,散热片54顶部固定连接有散热板55,便于散热。
工作机构2包括工作箱21,工作箱21固定连接在支撑柱1顶部,工作箱21内部设有第一腔体22,工作箱21在第一腔体22内部设有第二腔体23,工作箱21顶部一端固定连接有进气管24,工作箱21底部远离进气管24一端固定连接有出气管25,方便进气,进行反应,加热机构4包括第一电动推杆41,第一电动推杆41固定连接在第二腔体23内部,第一电动推杆41顶部固定连接有伸缩轴42,伸缩轴42远离第一电动推杆41一端固定连接有活动板43,活动板43顶部固定连接有加热器44,散热管53两端分为进液口和出液口,散热管53缠绕在散热片54上,散热板55顶部卡接有基片6,基片6固定连接在第二腔体23内部,便于散热,第一腔体22内部四角均固定连接有磁场线圈3,工作箱21顶部固定连接有波导8,波导8远离工作箱21一端固定连接有微波源7,波导8中部固定连接有调配器9,第二腔体23内部固定连接有导轨,第二腔体23通过导轨滑动连接有伸缩轴42,便于伸缩轴42的移动。
具体的,使用时,首先打开第二电动推杆51,带动活动轴52移动,使得活动轴52一端固定连接的散热管53移动,散热管53带动散热片54和散热板55移动,脱离基片6,此时打开第一电动推杆41,带动第一电动推杆41顶部固定连接的伸缩轴42移动,带动活动板43移动,推动活动板43顶部的加热器44顶在基片6上,对基片6进行加热,等金刚石生成后,打开第一电动推杆41,带动活动板43移动,使得加热器44脱离基片6,最后打开第二电动推杆51,带动活动轴52移动,使得散热管53带动散热片54和散热板55移动,使得其进入基片6底部,帮助散热。
以上仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
本实用新型中其他未详述部分均属于现有技术,故在此不再赘述。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。
Claims (6)
1.一种MPCVD装置,其特征在于,包括:支撑柱(1),所述支撑柱(1)顶部设有工作机构(2),所述工作机构(2)内部设有加热机构(4),所述加热机构(4)顶部设有散热机构(5),所述散热机构(5)顶部设有基片(6),所述工作机构(2)内部设有第一腔体(22)和第二腔体(23),所述散热机构(5)包括第二电动推杆(51),所述第二电动推杆(51)固定连接在第一腔体(22)内部,所述第二电动推杆(51)输出端固定连接有活动轴(52),所述活动轴(52)内部固定连接有散热管(53),所述散热管(53)远离活动轴(52)一端固定连接有散热片(54),所述散热片(54)顶部固定连接有散热板(55)。
2.如权利要求1所述的一种MPCVD装置,其特征在于,所述工作机构(2)包括工作箱(21),所述工作箱(21)固定连接在支撑柱(1)顶部,所述工作箱(21)内部设有第一腔体(22),所述工作箱(21)在第一腔体(22)内部设有第二腔体(23),所述工作箱(21)顶部一端固定连接有进气管(24),所述工作箱(21)底部远离进气管(24)一端固定连接有出气管(25)。
3.如权利要求1所述的一种MPCVD装置,其特征在于,所述加热机构(4)包括第一电动推杆(41),所述第一电动推杆(41)固定连接在第二腔体(23)内部,所述第一电动推杆(41)顶部固定连接有伸缩轴(42),所述伸缩轴(42)远离第一电动推杆(41)一端固定连接有活动板(43),所述活动板(43)顶部固定连接有加热器(44)。
4.如权利要求1所述的一种MPCVD装置,其特征在于,所述散热管(53)两端分为进液口和出液口,所述散热管(53)缠绕在散热片(54)上,所述散热板(55)顶部卡接有基片(6),所述基片(6)固定连接在第二腔体(23)内部。
5.如权利要求2所述的一种MPCVD装置,其特征在于,所述第一腔体(22)内部四角均固定连接有磁场线圈(3),所述工作箱(21)顶部固定连接有波导(8),所述波导(8)远离工作箱(21)一端固定连接有微波源(7),所述波导(8)中部固定连接有调配器(9)。
6.如权利要求3所述的一种MPCVD装置,其特征在于,所述第二腔体(23)内部固定连接有导轨,所述第二腔体(23)通过导轨滑动连接有伸缩轴(42)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202120311669.8U CN215251167U (zh) | 2021-02-03 | 2021-02-03 | 一种mpcvd装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202120311669.8U CN215251167U (zh) | 2021-02-03 | 2021-02-03 | 一种mpcvd装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN215251167U true CN215251167U (zh) | 2021-12-21 |
Family
ID=79500896
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202120311669.8U Active CN215251167U (zh) | 2021-02-03 | 2021-02-03 | 一种mpcvd装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN215251167U (zh) |
-
2021
- 2021-02-03 CN CN202120311669.8U patent/CN215251167U/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106997841B (zh) | 基板处理装置 | |
JP2010212425A (ja) | シャワーヘッド及びプラズマ処理装置 | |
CN101840878A (zh) | 载置台结构和等离子体成膜装置 | |
TW200901285A (en) | RF shutter | |
US9750087B2 (en) | Heat treatment apparatus | |
CN101901744A (zh) | 等离子处理用圆环状零件及等离子处理装置 | |
JP2007005705A (ja) | 処理ガス供給構造およびプラズマ処理装置 | |
CN215251167U (zh) | 一种mpcvd装置 | |
CN213401848U (zh) | 一种激光器的转型冷却装置 | |
CN110016647B (zh) | 蒸镀源清洁设备及蒸镀系统 | |
CN209949740U (zh) | 一种大尺寸显示器加工冷却装置 | |
CN101441986B (zh) | 表面处理装置及该装置的下部电极组装体的制造方法 | |
CN115433817A (zh) | 一种用于钢管的热处理装置 | |
WO2013125471A1 (ja) | 循環冷却システムの冷却源およびこれを用いたイオン顕微鏡 | |
CN211190003U (zh) | 一种新型磁力搅拌装置 | |
JP5811758B2 (ja) | アレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 | |
CN216671553U (zh) | 一种针对柔性材料等离子清洗腔体结构 | |
CN115786886A (zh) | 一种气盘以及pecvd镀膜设备 | |
TWI304995B (en) | Exhausting apparatus | |
JP2013044044A (ja) | アレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 | |
JP5100603B2 (ja) | Cat−PECVD装置 | |
CN214887953U (zh) | 一种辅助鼓风机散热装置 | |
CN212931131U (zh) | 一种改进型低能耗的不锈钢冷凝器 | |
CN211406566U (zh) | 一种超高精度稳压装置 | |
CN110617729A (zh) | 尾气处理冷阱 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |