CN215251151U - 一种tft-lcd玻璃基板双面镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种TFT‑LCD玻璃基板双面镀膜装置，包括设置有溅射部件的真空加工室，溅射部件包括真空泵、带有射频发生器的高压电源、溅射气体输送管、射频溅射靶和基座，真空加工室底部设置有支撑座，支撑座内设置有液压缸，液压缸输出端通过支撑板连接有真空密封盖，真空密封盖通过伸缩支架与基座连接。本实用新型通过转动伸缩支架上的可控丝杠柱使得限位环相对之间进行移动，当限位环靠近时，与之连接的底部支杆和上支杆会使得基板高度进行提升，反之高度降低，从而能使得位于基板上的玻璃面与射频激射靶之间的距离进行合理控制，从而满足在不同面积的玻璃进行加工时，能实现可控调整，从而避免浪费和提高涂层厚度。

Description

一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置

技术领域

本实用新型涉及玻璃镀膜涂层加工技术领域，尤其涉及一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置。

背景技术

在玻璃上进行镀膜的方式现常采用溅射法进行加工，其中射频激射法能同时实现对两面进行加工，溅射法是使等离子体气氛中的离子朝着根据要在处理基板表面上成膜的膜的组成制作成规定形状的靶加速冲击，使靶原子飞散，从而在处理基板表面上形成薄膜。该情形下，通过直流电源或交流电源等溅射电源给作为阴极电极的靶施加电压，使得在阴极电极和阳极电极或接地电极之间产生辉光放电，从而形成等离子体气氛，尤其是采用交流电源时，通过施加反相的电压抵消掉在阴极表面上累积的电荷，得到稳定的放电；在真空腔内设置一对靶，通过交流电源按照规定的频率交替改变极性地给该对靶施加电压，将各个靶交替切换为阳极电极、阴极电极，使得在阳极电极和阴极电极之间产生辉光放电，从而形成等离子体气氛，对各个靶进行溅射。

在溅射贯穿中离子会向两侧移动，当电极面距离过近时，离子在移动过程中的路途较短，其分布在基面上的范围就小，在应对不同大小的玻璃进行加工时，需要进行合适的控制基面与激射面之间的距离，从而对离子激射面的范围进行合理的适配控制。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中的问题，而提出的一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置，包括设置有溅射部件的真空加工室，所述溅射部件包括真空泵、带有射频发生器的高压电源、溅射气体输送管、射频溅射靶和基座，所述真空泵与溅射气体输送管均与真空加工室连通，所述真空加工室底部设置有支撑座，所述支撑座内设置有液压缸，所述液压缸输出端通过支撑板连接有真空密封盖，所述真空密封盖通过伸缩支架与基座连接。

优选地，所述基座底部设置有呈密集设置的加热电阻层。

优选地，所述伸缩支架包括与真空密封盖转动连接的多个底部支杆，所述底部支杆另一端转动连接有限位环，所述基座底部转动连接有上支杆，所述上支杆另一端与限位环外侧壁转动连接。

优选地，多个所述限位环通过丝杠螺母环连接有可控丝杠柱，所述限位环内侧壁与丝杠螺母环固定连接，所述可控丝杠柱外侧壁开设有多个螺旋方向相反的螺纹层，所述丝杠螺母环与螺纹层螺纹连接。

优选地，所述可控丝杠柱上设置有旋钮环。

优选地，所述真空加工室底部开设有贯穿侧壁的密封口，所述密封口与真空密封盖相适配。

相比现有技术，本实用新型的有益效果为：

通过转动伸缩支架上的可控丝杠柱使得限位环相对之间进行移动，当限位环靠近时，与之连接的底部支杆和上支杆会使得基板高度进行提升，反之高度降低，从而能使得位于基板上的玻璃面与射频激射靶之间的距离进行合理控制，从而满足在不同面积的玻璃进行加工时，能实现可控调整，从而避免浪费和提高涂层厚度。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置的结构示意图；

图2为图1中A处的放大结构示意图。

图中：1真空加工室、2真空泵、3高压电源、4溅射气体输送管、5射频溅射靶、6基座、7支撑座、8液压缸、9真空密封盖、10加热电阻层、11底部支杆、12限位环、13上支杆、14可控丝杠柱、15旋钮环。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”、“顶/底端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

参照图1-2，一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置，包括设置有溅射部件的真空加工室1，溅射部件均为现有技术，在此不做详细赘述，其通过射频激射的方式线激射加工，工作原理如下：当溅射靶电压处于上半周时，由于电子的质量比离子的质量小得多，故其迁移率很高，仅用很短时间就可以飞向靶面，中和其表面积累的正电荷，从而实现对绝缘材料的持续溅射；并且在靶面又迅速积累大量的电子，使其表面因空间电荷呈现负电位，导致在射频电压的正半周时也吸引离子轰击靶材；从而实现了在正、负半周中，均可产生溅射。溅射部件包括真空泵2、带有射频发生器的高压电源3、溅射气体输送管4、射频溅射靶5和基座6，真空泵2与溅射气体输送管4均与真空加工室1连通，真空加工室1底部设置有支撑座7，支撑座7内设置有液压缸8，液压缸8输出端通过支撑板连接有真空密封盖9，真空密封盖9通过伸缩支架与基座6连接，基座6底部设置有呈密集设置的加热电阻层10。

进一步地，伸缩支架包括与真空密封盖9转动连接的多个底部支杆11，底部支杆11另一端转动连接有限位环12，基座6上方设置有用来放置玻璃的支撑框架，基座6底部转动连接有上支杆13，上支杆13另一端与限位环12外侧壁转动连接；再进一步地，多个限位环12通过丝杠螺母环连接有可控丝杠柱14，限位环12内侧壁与丝杠螺母环固定连接，可控丝杠柱14外侧壁开设有多个螺旋方向相反的螺纹层，丝杠螺母环与螺纹层螺纹连接，可控丝杠柱14上设置有旋钮环15。

进一步地，真空加工室1底部开设有贯穿侧壁的密封口，密封口与真空密封盖9相适配。

本实用新型中在进行对玻璃进行溅射涂层加工时，根据待加工玻璃面的大小进行合理的进行调整基面与射频激射靶5之间的距离，通过转动伸缩支架上的可控丝杠柱14使得限位环12相对之间进行移动，当限位环12靠近时，与之连接的底部支杆11和上支杆13会使得基板高度进行提升，反之高度降低，从而能使得位于基板上的玻璃面与射频激射靶5之间的距离进行合理控制，从而满足在不同面积的玻璃进行加工时，能实现可控调整，从而避免浪费和提高涂层厚度。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置，包括设置有溅射部件的真空加工室(1)，其特征在于，所述溅射部件包括真空泵(2)、带有射频发生器的高压电源(3)、溅射气体输送管(4)、射频溅射靶(5)和基座(6)，所述真空泵(2)与溅射气体输送管(4)均与真空加工室(1)连通，所述真空加工室(1)底部设置有支撑座(7)，所述支撑座(7)内设置有液压缸(8)，所述液压缸(8)输出端通过支撑板连接有真空密封盖(9)，所述真空密封盖(9)通过伸缩支架与基座(6)连接。

2.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置，其特征在于，所述基座(6)底部设置有呈密集设置的加热电阻层(10)。

3.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置，其特征在于，所述伸缩支架包括与真空密封盖(9)转动连接的多个底部支杆(11)，所述底部支杆(11)另一端转动连接有限位环(12)，所述基座(6)底部转动连接有上支杆(13)，所述上支杆(13)另一端与限位环(12)外侧壁转动连接。

4.根据权利要求3所述的一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置，其特征在于，多个所述限位环(12)通过丝杠螺母环连接有可控丝杠柱(14)，所述限位环(12)内侧壁与丝杠螺母环固定连接，所述可控丝杠柱(14)外侧壁开设有多个螺旋方向相反的螺纹层，所述丝杠螺母环与螺纹层螺纹连接。

5.根据权利要求4所述的一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置，其特征在于，所述可控丝杠柱(14)上设置有旋钮环(15)。

6.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD玻璃基板双面镀膜装置，其特征在于，所述真空加工室(1)底部开设有贯穿侧壁的密封口，所述密封口与真空密封盖(9)相适配。

Images