CN215136076U - 一种激光美容设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提出一种激光美容设备,包括:壳体,包括激光出口;激光发生部,设置在所述壳体内;匀光管,设置在所述壳体内,位于所述激光发生部上,所述匀光管包括进光口和出光口;其中,所述激光发生部包括:电路板;凹面基板,设置在所述电路板上;多个发光芯片,设置在所述凹面基板上。本实用新型提出一种激光美容设备可以提高光斑均匀性。
Description
技术领域
本实用新型涉及医疗美容设备领域,特别涉及一种激光美容设备。
背景技术
激光医疗作为激光应用的一个重要领域,发展非常迅速,逐步走向成熟。半导体激光器因具有体积小、重量轻、寿命长、功耗低、波长覆盖广的特点,特别适用于医疗设备的制造。
在医学美容领域,激光的主要应用之一就是激光脱毛,现有的激光器美容仪大多使用单波长激光器,采用一定功率范围,以人为判断方式在人体上实现美容效果。激光脱毛要求在出光口有均匀的光强,以对受到照射的皮肤有均匀脱毛效果,同时不在局部产生过高光强造成疼痛或烧伤;因此,通常在光源后,会加上匀光管,以调节出光的光强分布和光斑形状。但是现有的匀光管的长度较长,导致光强损失,同时还造成激光美容设备具有较大的体积。
实用新型内容
鉴于上述现有技术的缺陷,本实用新型提出一种激光美容设备,该激光美容设备可以具有更加紧凑的结构,同时还具有较高的功率密度,可以减少光强损失。
为实现上述目的及其他目的,本实用新型提出一种激光美容设备,包括:
壳体,包括激光出口;
激光发生部,设置在所述壳体内;
匀光管,设置在所述壳体内,位于所述激光发生部上,所述匀光管包括进光口和出光口;
其中,所述激光发生部包括:
电路板;
凹面基板,设置在所述电路板上;
多个发光芯片,设置在所述凹面基板上。
进一步地,所述发光芯片至所述进光口的距离R=kd,k等于0.5-1,d表示所述出光口的直径。
进一步地,所述匀光管包括圆柱管或多面体管。
进一步地,所述发光芯片的发散角为15°-35°。
进一步地,所述匀光管的长度L=kdR/W,其中,k等于2-4,d表示所述出光口的直径,R表示所述发光芯片至所述进光口的距离,W表示发光阵列的长度,所述发光阵列可以包括多个发光芯片。
进一步地,所述发光芯片包括垂直腔面发射激光器,发光二极管或边发射器。
进一步地,所述匀光管与所述发光芯片之间还设置有收光管,所述收光管与所述进光口连接。
进一步地,所述进光口的直径等于所述出光口的直径
进一步地,所述收光管的收光口的直径大于所述进光口的直径。
进一步地,所述凹面基板的中心区域包括凸出部。
进一步地,部分所述发光芯片设置在所述凸出部上。
综上所述,本实用新型提出一种激光美容设备,通过将基板设置成凹面形状,因此可以在凹面基板上设置更多的发光芯片,因此可以使得发光芯片的主光线可以汇聚起来,从而可以提高激光美容设备的功率密度。本实用新型同时在该凹面基板上设置有匀光管,且匀光管的进光口的直径等于出光口的直径,因此相对于出光口直径小于进光口直径的匀光管,可以降低匀光管的高度,从而可以缩小该激光美容设备的体积。该激光美容设备可以在更短的距离内提高光斑的均匀度,避免无效脱毛或局部较痛。
附图说明
图1:本实用新型中激光美容设备的结构示意图。
图2:本实用新型中探测部的位置示意图。
图3:本实用新型中激光发射部的结构示意图。
图4:本实用新型中第二发射模块的结构示意图。
图5:本实用新型图4中凹面基板的示意图。
图6:本实用新型中凹面基板的俯视图。
图7:本实用新型中匀光管和收光管的示意图。
图8:本实用新型中平面基板和台型匀光管形成的光斑图。
图9:本实用新型中图4形成的光斑图。
图10:本实用新型中第二发射模块的另一示意图。
图11:本实用新型中第一发光芯片的法向与匀光管的法向的示意图。
图12:本实用新型中第二发射模块的另一示意图。
图13:本实用新型中第二发射模块的另一示意图。
图14:本实用新型中第二发射模块的另一示意图。
图15:本实用新型中异面基板的另一示意图。
图16:本实用新型中图10形成的光斑图。
图17:本实用新型中平面基板和台型匀光管形成的光斑图。
图18:本实用新型中激光美容设备的控制方法流程图。
图19:本实用新型中驱动第一发射模块的示意图。
图20:本实用新型中驱动第二发射模块中第一发光芯片的示意图。
图21:本实用新型中驱动第二发射模块中第二发光芯片的示意图。
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。
需要说明的是,本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想,遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变,且其组件布局型态也可能更为复杂。
如图1所示,本实施例提出一种激光美容设备100,该激光美容设备100可以为毛发去除装置,例如是激光脱毛装置,通过该激光美容设备100可以将皮肤上存在的毛发较长期的去除,或通过激光永久去除。
如图1所示,在本实施例中,该激光美容设备100还可以激光剃须器,也就是说该激光美容设备100的出射的激光束的目标位置不在毛发根部,而是正好位于皮肤表面毛发上方的位置。
如图1所示,在本实施例中,该激光美容设备100不仅仅用于毛发剔除,还可以通过激光,闪光,或具有较高强度的其他类型的辐射,对皮肤进行医疗的装置。该装置用于治疗皮肤上的胎记,如色素痣或酒痣,皮肤内存在的牛皮癣或血管失常。
如图1所示,该激光美容设备100可以包括壳体110,该壳体110可以包括激光出口111,激光器发生部120产生的激光束可以通过激光出口111出射,从而进行脱毛作业。壳体110例如为长方体结构,壳体110的顶部可以为光滑的平面,该光滑的平面能够与人体的肌肤,例如面部或手足的皮肤接触(抵接)。
如图1所示,在本实施例中,在壳体110内还设置有激光发生部120,激光发生部120是发生指向性以及收敛性优良的激光的装置。激光发生部120例如是小直径的脉冲激光装置,通过规定的振荡方法发生规定波长的激光。作为激光发生部120的光源,能够使用固体激光、气体激光或者半导体激光等。激光发生部120的输出水准调节成能够在短时间内对人体的体毛进行烧灼的水准。激光发生部120能够在供给了电力时立即照射能够对体毛进行烧灼的激光。激光发生部120通过作为导光体的光导出管200与激光出口111相连。光导出管200是激光的传送路径。光导出管200将由激光发生部120发生的激光向激光出口111导出。光导出管200例如是光纤等,具有多层构造。即、由激光发生部120发生的激光在光导出管200内一边重复进行反射一边向激光出口111导出。在一些实施例中,还可以在壳体110内设置光分波器,激光发生部120所生成的激光分波成规定数量的激光。分波后激光的经由各自的光导出管200从多个激光出口111发射。
如图1所示,在壳体110内还设置有控制部130,变换部140,受电连接器150,给电连接器160,给电软线170,电池180和电源开关190。电源开关190接通、断开电力相对于激光发生部120的供给。受电连接器150中插入与给电软线170连接的给电连接器160。将给电连接器160插入受电连接器150后,变换部140将交流电力变换成直流电力。并且变换后的直流电力向控制部130供给。该控制部130选择从变换部140送出的直流电力以及从电池180输出的直流电力中的一方。控制部130将选择的直流电力向激光发生部120供给。另外,当电源开关190处于接通的状态、并且给电连接器160插入了受电连接器150中的情况下,控制部130停止来自电池180的电力供给。即、控制部130将经由变换部140输入的直流电力向激光发生部120供给。当电源开关190处于接通的状态、并且电连接器160未插入受电连接器150中的情况下,控制部120将电池180的电力向激光发生部120供给。
如图2所示,在一些实施例中,还可以在壳体110内设置探测部112,探测部112可以位于壳体110的顶部的接触面上。探测部112是对成为与人体的肌肤接近或者接触状态进行电气、静电或者光学检测的传感器。探测部112探测壳体110的接触面接触或者接近了人体的肌肤。例如,通过使用者将壳体110的接触面按压在肌肤上,探测部112探测出肌肤的接触(或者与肌肤近乎接触的接近)。激光发生部120生成激光。并且生成的激光相对于发热体。当将壳体110的接触面离开肌肤后,激光发生部120停止驱动。
如图3所示,在本实施例中,该激光发生部120用于发射激光束,由此通过激光束来进行美容作业。该激光发生部120可以包括电路板121,第一发射模块122,光电检测器123和第二发射模块124。该电路板121可以为PCB线路板,第一发射模块122,光电检测器123和第二发射模块124均设置在该电路板121上。第一发射模块122和光电检测器123可以通过表面组装工艺贴装到电路板121上。该第一发射模块122可以包括多个不同波长的发光芯片,例如包括八个发光芯片,例如第一发光芯片11、第二发光芯片12、第三发光芯片13、第四发光芯片14、第五发光芯片15、第六发光芯片16、第七发光芯片17和第八发光芯片18。这些发光芯片包围光电检测器123,且第一发光芯片11至第八发光芯片18到光电检测器123的距离相同。由于这些发光芯片到光电检测器123的距离相同,因此当驱动每个发光芯片时,每个发光芯片均发射激光束,这些激光束经过皮肤反射后形成发射光束,因此光电检测器123可以依次采集到这些反射光束,从而形成不同的电流信号。由于这些发光芯片到光电检测器123的距离相同,因此可以排除由于距离不同导致电流信号误差,因此可以保证形成的电流信号只与反射光束的强度有关,即与被皮肤或毛囊吸收的光的强度有关。
如图3所示,在本实施例中,当反射光束照射在光电检测器123上时,由于光电检测器123内设置有时间电路转换芯片,因此可以将光信号转换成电流信号,因此当电流信号比较大时,则表示光电检测器123采集的反射光束的强度较高,即反射光束的功率较大,因此被皮肤吸收的光功率较小,因此无法用于脱毛作业;反之,如果电流信号比较小时,则表示光电检测器123采集的反射光束的强度较低,即反射光束的功率较小,因此被皮肤吸收的光功率较大,因此可以用于脱毛作业。
如图3所示,在本实施例中,该第二发射模块124中同样包括多个波长不同的发光芯片,第二发射模块124中的发光芯片的数量大于第一发射模块122中的发光芯片的数量。第二发射模块124中例如包括6*8个发光芯片,即第二发射模块124包括六行发光芯片组,每个发光芯片组内包括八个发光芯片,即第一发光芯片11至第八发光芯片18。第一发光芯片11至第八发光芯片18的波长不同。由于第一发射模块122和第二发射模块124具有相同的发光芯片,因此第一发射模块122的波长范围与第二发射模块124的波长范围相同。通过第二发射模块124发射的激光束即可对皮肤进行脱毛作业。在进行脱毛作业中,光电检测器123同时采集激光束形成的反射光束,并显示出电流信号的变化。
如图3所示,在本实施例中,第二发射模块124中这些发光芯片,还可以随机排列,也可以按照波长不同间隔排列。在第二发射模块124中还设置有驱动芯片,该驱动芯片可以同时驱动多个波长相同的发光芯片,例如驱动芯片可以同时驱动多个第一发光芯片11或多个第二发光芯片12。当然,也可以同时驱动多个第一发光芯片11和多个第二发光芯片12。
如图3所示,在实施例中,该第二发射模块124中的多个发光芯片可以为垂直腔面发射激光器,发光芯片的正负极可以引出至基板上的焊盘电极上,然后在通过在基板上开设通孔,从而使得电路板121上的线路与基板上的焊盘电极连接,从而实现发光芯片与电路板121的连接。在一些实施例中,该发光芯片还可以为发光二极管或边发射激光器。需要说明的是,第二发光模块124中的多个发光芯片位于平整的基板上,当然,也可以位于异形基板上,例如曲面基板,凹形基板或波浪形基板。
如图4所示,在一些实施例中,该第二发射模块124可以包括凹面基板301,凹面基板301上可以设置有多个不同波长的发光芯片,例如设置有第一发光芯片11至第五发光芯片15,第一发光芯片11至第五发光芯片15的波长相同或不同。当然,在凹面基板301上还可以设置更多的发光芯片。
如图4-图5所示,该凹面基板301例如包括五个凹面,即第一凹面3011至第五凹面3015,第一发光芯片11至第五发光芯片15分别设置在第一凹面3011至第五凹面3015上。在本实施例中,该第一凹面3011至第五凹面3015可以为对称结构,例如第一凹面3011和第五凹面3015,第二凹面3012和第四凹面3014关于第三凹面3013对称,因此第一凹面3011和第五凹面3015的高度相同,第二凹面3012和第四凹面3014的高度相同。通过设置该凹面基板301,因此第一发光芯片11至第五发光芯片15的主光线A2可以汇聚起来,然后通过匀光管304出射,从而可以提高该激光美容设备的功率。第一发光芯片11的发散角可以为15°-35°,例如为15°,20°,25°30°或35°。
如图6所示,图6显示为图5中凹面基板301的俯视图。从图6中可以看出,每个凹面上均设置多个发光芯片,例如第一凹面3011上例如设置五个第一发光芯片11,第二凹面3012上例如设置五个第二发光芯片12。本实施例还可以通过在每个凹面的下方设置竖直的金属柱,从而可以使得该凹面基板301直接设置在电路板上。
如图7所示,在凹面基板301上还设置有收光管303和匀光管304,匀光管304位于收光管303上。收光管303可以包括收光口3031,匀光管304可以包括进光口3041和出光口3042。收光管303可以和进光口3041连接,收光口3031的直径可以大于进光口3041的直径。进光口3041的直径可以等于出光口3042的直径。本实施例中,该收光管303可以起到收光作用,在匀光管304可以为圆柱管或多面体管,在匀光管304内可以设置有对发光芯片波长具有高反射率的反射层,从而可以起到匀光作用,即起到提高脱毛效果。
如图4和图6-图7所示,本实施例将匀光管304的长度定义为L,将出光口3042的直径定义为d,将发光芯片至进光口3041的距离定义为R,同时还将发光阵列的长度定义为W,发光阵列可以为第一发光芯片11至第五发光芯片15的距离。本实施例将匀光管304的长度L=kdR/W,k可以等于2-4,例如为2,3,4。由于本实施例中出光口3042的直径等于进光口3041的直径,因此相对于出光口3042的直径小于进光口3041的直径的匀光管304来说,出光口3042的直径小于进光口3041的直径的匀光管304要想提高匀光且降低光强损失,因此需要增加匀光管304的长度,因此本实施例中匀光管304的高度相对降低,因此可以减少光线A1匀光管304内的反射次数,因此可以降低光强损失,从而可以提高匀光效果。本实施例中,发光芯片至进光口3041的距离R=kd,k可以等于0.5-1,例如为0.5,0.6,0.8,1。由于出光口3042的直径等于进光口3041的直径,因此相对于出光口3042的直径小于进光口3041的直径的匀光管304来说,进光口3041的直径有减小,因此发光芯片至进光口3041的距离R可以降低,也就是降低匀光管304至凹面基板301的距离,因此缩小该激光美容设备的体积,提高激光美容设备的紧凑度,因此本实施例中该激光美容设备可以在更短的距离内提高光斑的均匀度,可以实现更好的匀光,从而避免无效脱毛或局部疼痛。
如图4,图8-图9所示,图8显示为平面基板和台型匀光管形成的光斑图,图9显示为图4形成的光斑图。图8中台型匀光管的长度为10mm,进光口3041的孔径为20*12mm,出光口3042的孔径为8*4mm,发光阵列的长度为9*5mm,发光芯片的间距为2*2mm,发光芯片的大小为0.6*0.6mm,从图8中可以看出,光斑分布不均匀,且光强损失为30%。本实施例中,匀光管304的长度为4mm,进光口3041至发光芯片的距离为6mm,因此该匀光管304和进光口3041至发光芯片的距离之和等于10mm,从图9中可以看出,光斑更加均匀,且光强损失为5%,因此本实施例可以在更加紧凑的结构中获得更加均匀的光斑,同时还可以降低光强损失。
如图4所示,本实施例通过设置凹面基板301,还可以增加发光芯片之间的间隙,同时还不损害出光口功率密度,因为可以设计更大的进光口,这样可以提高器件的散热能力,增长器件寿命。
如图10所示,在一些实施例中,该第二发射模块124还可以包括异形基板302,该异面基板302可以为凸面基板。异面基板302上包括多个表面,在每个表面上设置有第一发光芯片11。当然,还可以在异面基板302上的每个表面上设置不同波长的发光芯片。在异面基板302上设置有匀光管304,匀光管304可以包括进光口3041和出光口3042,进光口3041的直径可以小于出光口3042的直径。进光口3041的直径可以为15-40毫米,例如为20毫米或30毫米,出光口3042的直径可以为30-80毫米,例如为50毫米或60毫米。在本实施例中,匀光管304的长度L=kd,k可以等于5-6,例如为5,5.5,6。d表示出光口3042的直径。该匀光管304可以为圆柱管或多面体管,例如是内层镀有反射层的空心管。匀光管304还可以是透明的导光介质,匀光管304可以具有一定的折射率和较低的光吸收率,从而可以通过全内反射实现反射。在匀光管304上还设置有匀光片305,匀光片305的位于出光口3042上,匀光片305的直径可以大于或等于出光口3042的直径。匀光片305可以将较为平行的光散射到更大的角度分布上,保证出光口3042的激光在近距离内就发散掉,保证人眼安全。
如图10-图11所示,由于该异面基板302为凸面基板,因此每个第一发光芯片11的法向与匀光管304的法向的夹角不同,即每个表面的法向与匀光管304的法向夹角不同,例如第一发光芯片11的法向与匀光管304的法向的夹角小于或等于45°,即第一发光芯片11与竖直方向的夹角小于45°,也就是每个表面与匀光管304的法向的夹角小于45°,因此可以增加第一发光芯片11的出光方向与竖直方向的夹角,同时还可以避免异面基板302过度弯曲。
如图12-图14所示,图12与图10的区别在于,图12中的进光口3041为凹球面或者凹多面体面。凹球面或凹多面体面与异面基板302相适应。图13与图10的区别在于,图13中的异面基板302可以为三棱台基板或者波浪形基板,在每个表面上均设置有第一发光芯片11。图14与图10的区别在于,图14中的异面基板302为凹面基板。如图15所示,本实施例中,当异面基板302为凹面基板时,还可以在异面基板302的中间区域上设置有凸出部3021,所述凸出部3021是相对于图14中异面基板302的中心而定义的。在凸出部3021上可以设置多个第一发光芯片11。通过设置凸出部3021还可以提高光斑的均匀性。
如图16-图17所示,图16是图10形成的光斑图,图17是平面基板和匀光管(匀光管的长度等于10倍的出光口的直径)形成的光斑图。由于图16中采用异面基板302,外圈第一发光芯片11的法向与匀光管304的法向的夹角为45°,内圈第一发光芯片11的法向与匀光管304的法向的夹角为22.5°,且匀光管304的长度可以等于6倍的出光口的直径,也就是说匀光管304的长度相对降低,因此减少了激光束的反射次数,因此图10形成的光斑更加均匀,即可以在更短的距离内形成更加均匀的光斑。
如图10-图17所示,在本实施例中,通过使用异面基板302,从而可以增加第一发光芯片11与竖直方向的夹角,同时还降低匀光管304的长度,因此可以减少激光束的反射次数,从而获得更加均匀的光斑。
如图18所示,本实施例还提出一种激光美容设备的控制方法,包括:
S1:采用相同的出光功率依次驱动第一发射模块包括的多个发光芯片,以形成依次照射在皮肤上的多个第一激光束;
S2:通过光电检测器依次采集多个所述第一激光束反射形成的第一电流信号,以筛选出最小电流对应的发光芯片,并将所述发光芯片定义为第一发光芯片,其中所述第一发射模块包括的多个所述发光芯片包围所述光电检测器,且多个所述发光芯片与所述光电检测器的距离相同;
S3:通过驱动所述第二发射模块包括的多个所述第一发光芯片,以形成照射在皮肤上的第二激光束;
S4:通过所述光电检测器采集所述第二激光束反射形成的第二电流信号;
S5:判断所述第二电流信号的变化是否处于预设范围内;
S6:若是,则继续驱动所述第二发射模块中的多个所述第一发光芯片
S7:若否,则关闭所述第二发射模块中的多个所述第一发光芯片,并驱动所述第二发射模块中的多个第二发光芯片,以使所述第二电流信号的变化处于所述预设范围内,所述第一发光芯片的波长与所述第二发光芯片的波长不同。
如图1和图19所示,在步骤S1-S2中,在使用该激光美容设备100之前,首先通过控制部130驱动第一发射模块122,即控制部130采用相同的出光功率依次驱动第一发光芯片11至第八发光芯片18,从而依次形成八个第一激光束L1,例如图5中显示出第三发光芯片13和第七发光芯片17发射的第一激光束L1,第一激光束L1经过皮肤的反射后形成第一反射光束F1,第一反射光束F1被光电检测器123采集到,因此可以通过光电检测器123形成第一电流信号,然后从这些第一电流信号中间筛选出最小电流,由此可以筛选出最小电流对应的发光芯片,例如最小电流对应的发光芯片为第一发光芯片11。由于第一发光芯片11发射的第一激光束L1被皮肤反射后形成第一反射光束F1,由于第一激光束L1会被皮肤吸收的光功率,因此光电检测器123形成电流信号越小,则表示被皮肤吸收的光功率越大,因此可以用于进行脱毛作业。如果光电检测器123形成的电流信号越大,则表示被皮肤吸收的光功率越小,因此无法进行脱毛作业。
如图3和图20所示,在步骤S3-S4中,在筛选出第一发光芯片11之后,则通过控制部130驱动第二发射模块124中的多个第一发光芯片11,从而产生第二激光束L2,第二激光束L2照射在皮肤上,由于光电检测器123采集到第一发光芯片11形成的电流最小,因此可以驱动第一发光芯片11,从而进行脱毛作业。进行脱毛过程中,第二激光束L2被皮肤反射形成第二反射光束F2,这些第二反射光束F2均被光电检测器123采集到,从而可以通过光电检测器123形成第二电流信号。在进行脱毛作业中,光电检测器123一直采集第二反射光束F2,从而可以一直显示出第二电流信号的变化。
如图3和图7所示,在步骤S5-S7中,随着脱毛作业的进行,第二电流信号会发生变化,因此控制部130还将判断第二电流信号的变化是否处于预设范围内。如果第二电流信号的变化处于预设范围内时,则通过控制部130继续驱动第二发射模块124中的多个第一发光芯片11,即表示第一发光芯片11形成的第二激光束L2还可以用于脱毛作业中。如果第二电流信号的变化不在预设范围内时,则表示第一发光芯片11形成的第二激光束L2无法应用于脱毛作业中,例如当第二电流信号远小于预设范围时,则表示被皮肤吸收的光功率增加,因此在脱毛作业中有可能会带来疼痛感,客户体验感降低;又例如当第二电流信号超出预设范围时,则表达被皮肤吸收的光功率降低,因此第二激光束L2可能无法应用于脱毛作业中。当第二电流信号的变化不在预设范围内时,则通过控制部130关闭第二发射模块124中的第一发光芯片11,然后再次采用相同的出光功率驱动第一发射模块122中的多个发光芯片,然后由光电检测器122再次形成第一电流信号,并筛选出最小电流对应的发光芯片,例如最小电流对应的发光芯片为第二发光芯片12。然后由控制部130驱动第二发光模块124中的多个第二发光芯片12,从而再次产生第二激光束L2,从而再次进行脱毛作业。同时在脱毛作业中,还由光电检测器123采集第二反射光束F2,以形成第二电流信号,并通过控制部130来监测第二电流信号的变化。当然,第一发光芯片11的波长与第二发光芯片12的波长不同。本实施例中,通过调整该激光美容设备100的出光波长,从而可以适用于不同的皮肤,不同的肤色的人群。
如图21所示,在步骤S3-S4中,在进行脱毛作业时,也就是在形成第二电流信号的过程中,还可以通过光电检测器123获得被皮肤吸收的光功率。控制部130可以采用预设功率来驱动第二发射模块124中的多个第一发光芯片11,从而可以形成第二激光束L2,第二激光束L2经过皮肤反射之后,形成第二反射光束F2,由光电检测器123采集到该第二反射光束F2,从而形成第二电流信号,并将第二电流信号转换成第二反射光束的功率,因此可以将预设功率将第二反射光束的功率之差定义为被皮肤吸收的光功率。然后可以通过控制部130来判断被皮肤吸收的光功率的变化是否处于预设范围内。如果被皮肤吸收的光功率的变化处于预设范围内时,则可以继续使用该预设功率来驱动第二发射模块124中第一发光芯片11,即表示该预设功率可以继续进行脱毛作业。如果被皮肤吸收的光功率的变化不在该预设范围内时,则表示该预设功率无法继续进行脱毛作业,因此需要调整该第二发射模块124的预设功率,从而使得该被皮肤吸收的光功率的变化处于预设范围内,例如通过增加或降低预设功率。本实施例可以保证被皮肤吸收的光功率处于稳定的范围内,从而保持良好的脱毛作业,即可以有效进行脱毛,同时还不会产生疼痛感,因此可以提高客户的体验感。
在本实施例中,可以通过调整激光美容设备100的激光波长或者通过调整激光美容设备100的预设功率,从而使得该激光美容设备100可以适用于不同的人群,提高美容效果。
综上所述,本发明提出一种激光美容设备及其控制方法,在使用该激光美容设备之前,首先采用相同的出光功率依次驱动第一发射模块,第一发射模块包括多个波长不同的发光芯片,这些发光芯片包围光电检测器,从而形成多个第一激光束,这些第一激光束经过皮肤反射之后被光电检测器采集到,从而通过光电检测器形成第一电流信号,然后筛选出最小电流对应的发光芯片,并将该发光芯片定义为第一发光芯片。光电检测器形成的第一电流信号越小,则表示光电检测器采集到的反射光束的功率较低,也就是被皮肤吸收的光功率较高,也就是美容效果较好。在使用该激光美容设备过程中,首先驱动第二发射模块中的多个第一发光芯片,从而形成照射在皮肤上的第二激光束,同时由光电检测器采集由第二激光束形成的第二电流信号,然后判断第二电流信号的变化是否处于预设范围内,若是,则继续驱动第二发射模块中的多个第一发光芯片,从而保持良好的美容效果;若否,则需要关闭第二发射模块中的第一发光芯片,然后再次驱动第一发射模块,再次由光电检测器形成第三电流信号,并筛选出最小电流对应的第二发光芯片,然后驱动第二发射模块中的多个第二发光模块,因此可以更换不同波长的发光芯片,从而可以提高美容效果。
综上所述,本发明中可以调整激光美容设备的出光波长,因此可以适用于不同的人群,也就是适用于不同的皮肤,不同的肤色的人群,并且可以提高美容效果。
综上所述,本发明还可以采集被皮肤吸收的光功率,并通过调整第二发射模块的预设功率,从而保持被皮肤吸收的光功率处于预设范围内,也就是保持良好的美容效果。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明,本领域技术人员应当理解,本申请中所涉及的实用新型范围,并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案,同时也应涵盖在不脱离所述实用新型构思的情况下,由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案,例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
除说明书所述的技术特征外,其余技术特征为本领域技术人员的已知技术,为突出本实用新型的创新特点,其余技术特征在此不再赘述。
Claims (10)
1.一种激光美容设备,其特征在于,包括:
壳体,包括激光出口;
激光发生部,设置在所述壳体内;
匀光管,设置在所述壳体内,位于所述激光发生部上,所述匀光管包括进光口和出光口;
其中,所述激光发生部包括:
电路板;
凹面基板,设置在所述电路板上;
多个发光芯片,设置在所述凹面基板上。
2.根据权利要求1所述的激光美容设备,其特征在于,所述发光芯片至所述进光口的距离R=kd,k等于0.5-1,d表示所述出光口的直径。
3.根据权利要求1所述的激光美容设备,其特征在于,所述匀光管包括圆柱管或多面体管。
4.根据权利要求1所述的激光美容设备,其特征在于,所述发光芯片的发散角为15°-35°。
5.根据权利要求1所述的激光美容设备,其特征在于,所述匀光管的长度L=kdR/W,其中,k等于2-4,d表示所述出光口的直径,R表示所述发光芯片至所述进光口的距离,W表示发光阵列的长度,所述发光阵列包括多个所述发光芯片。
6.根据权利要求1所述的激光美容设备,其特征在于,所述进光口的直径等于所述出光口的直径。
7.根据权利要求6所述的激光美容设备,其特征在于,所述匀光管与所述发光芯片之间还设置有收光管,所述收光管与所述进光口连接。
8.根据权利要求7所述的激光美容设备,其特征在于,所述收光管的收光口的直径大于所述进光口的直径。
9.根据权利要求1所述的激光美容设备,其特征在于,所述凹面基板的中心区域包括凸出部。
10.根据权利要求9所述的激光美容设备,其特征在于,部分所述发光芯片设置在所述凸出部上。
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CN202120558766.7U CN215136076U (zh) | 2021-03-18 | 2021-03-18 | 一种激光美容设备 |
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Cited By (1)
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CN116036492A (zh) * | 2023-03-29 | 2023-05-02 | 北京新科以仁科技发展有限公司 | 一种激光器的功率控制方法、装置、设备及存储介质 |
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2021
- 2021-03-18 CN CN202120558766.7U patent/CN215136076U/zh active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN116036492A (zh) * | 2023-03-29 | 2023-05-02 | 北京新科以仁科技发展有限公司 | 一种激光器的功率控制方法、装置、设备及存储介质 |
CN116036492B (zh) * | 2023-03-29 | 2023-06-16 | 北京新科以仁科技发展有限公司 | 一种激光器的功率控制方法、装置、设备及存储介质 |
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