CN215038596U - 一种瓷砖喷釉改进系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种瓷砖喷釉改进系统，包括施釉箱、供釉箱、储釉箱和连通储釉箱与供釉箱的供釉管；所述储釉箱设于施釉箱内且连接有一个以上的喷头，所述储釉箱内设有加热元件；所述施釉箱的底部设有放料台，所述放料台的底部连接有转动轴，所述转动轴伸出施釉箱后连接有传动组件；通过供釉箱、储釉箱、喷釉箱之间的配合，改变了传统将喷头直接与供釉管连通的喷釉方式，本实用新型在喷釉过程中利用储釉箱内的电热棒可以对釉料起到保温加热效果，确保釉料的流动性，以利于喷头的吸收喷釉，相比现有技术，本实用新型施釉加工出的瓷砖油面光滑平整，连续性完整，无缺失、淡色现象。

Description

一种瓷砖喷釉改进系统

技术领域

本实用新型涉及瓷砖加工机械领域，尤其涉及一种瓷砖喷釉改进系统。

背景技术

瓷砖在烧结前需要上釉处理，上釉可以提高瓷砖在后期使用过程中防腐耐磨性。常见的上釉方式是在瓷砖的使用面上喷涂釉水，喷涂过程中通常是将瓷砖胚体间隔的铺放在载板或者皮带上进行喷涂，喷头通过供料管直接连接釉箱，由釉箱直接对喷头供釉，这种方式的缺陷在于，在温度较低的地区，釉料容易在供料管中发生一定的凝固的现象，导致釉料变得浓稠，不利于喷头的施釉作业，造成釉面质量下降。

实用新型内容

为了克服上述问题，本实用新型提供了一种能够保证釉面光滑平整无缺失的瓷砖喷釉改进系统。

为实现上述目的，本实用新型提供的技术方案是：

一种瓷砖喷釉改进系统，包括施釉箱、供釉箱、储釉箱和连通储釉箱与供釉箱的供釉管；所述储釉箱设于施釉箱内且连接有一个以上的喷头，所述储釉箱内设有加热元件；所述施釉箱的底部设有放料台，所述放料台的底部连接有转动轴，所述转动轴伸出施釉箱后连接有传动组件。

具体的，所述储釉箱的顶部设有进釉口与供釉管连通，底部设有出釉口与喷头连通。

具体的，所述出釉口连通有喷釉箱，所述喷釉箱内部形成喷釉空间，所述喷头固定在喷釉箱上且与喷釉空间连通。

更具体的，所述喷釉箱与储釉箱通过电磁阀连通。

更具体的，所述加热元件包括电热棒。

具体的，所述供釉箱内部设有搅拌轴，所述搅拌轴的顶部伸出供釉箱连接有传动组件。

具体的，所述搅拌轴上设有搅拌叶片。

上述技术方案的有益之处在于：

本实用新型提供了一种瓷砖喷釉改进系统，通过供釉箱、储釉箱、喷釉箱之间的配合，改变了传统将喷头直接与供釉管连通的喷釉方式，本实用新型在喷釉过程中利用储釉箱内的电热棒可以对釉料起到保温加热效果，确保釉料的流动性，以利于喷头的吸收喷釉，相比现有技术，本实用新型施釉加工出的瓷砖油面光滑平整，连续性完整，无缺失、淡色现象。

下面将结合具体实施方式对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型施釉箱内视结构示意图；

图3为本实用新型侧视结构示意图；

图4为本实用新型供釉箱侧视结构示意图；

图5为本实用新型放料台的侧视结构示意图；

图6为图5中A-A剖视结构示意图；

图7为本实用新型储釉箱的结构示意图；

图8为本实用新型储釉箱的剖视结构示意图。

图中：施釉箱：1；施釉空间：10；回釉空间：11；动力泵：12；供釉管：13；回釉管：14；

电机：2；转动轴：20；放料台：21；隔热套：22；防釉罩：23；导热板：24；电热件：25；

喷釉箱：3；喷头：30；储釉箱：4；电热棒：40；电磁阀：41；供釉箱：5；透明板：50；添釉口：51；搅拌轴：52；搅拌叶片：53。

具体实施方式

如图1-8所示的一种瓷砖喷釉改进系统，包括施釉箱1、设有添釉口51的供釉箱5、储釉箱4和连通储釉箱4与供釉箱5的供釉管13；所述储釉箱4设于施釉箱1内且连接有一个以上的喷头30，在本实施例中，所述喷头30设有三个；所述储釉箱4内设有加热元件；具体的，所述的加热元件为电热棒40，实际上也可以是其它电热器件，如电热板等。

具体的，所述储釉箱4的顶部设有进釉口与供釉管13连通，底部设有出釉口与喷头30连通；更具体的，所述出釉口连通有喷釉箱3，所述喷釉箱3内部形成喷釉空间，所述喷头30固定在喷釉箱3上且与喷釉空间连通；通过这样的设置，利用储釉箱4作为中转，利用喷釉箱3与喷头30连接，这种方式相比直接采用喷头30与储釉箱4连通的方式，一可以保护喷头30不会被储釉箱4的温度影响，二也可以定量添釉，如可以先储釉箱4内加热釉料，再通过对电磁阀41的控制选择进入喷釉箱3内的釉量。

具体的，所述喷釉箱3与储釉箱4通过电磁阀连通；通过这样的设置，利用电动方式通过电磁阀关闭喷釉箱3与储釉箱4的连通，有利于对喷釉箱3的拆卸清洗，而储釉箱4因其内部有电热棒40，故不需要频繁清洗。

优选地，所述供釉箱5内部设有搅拌轴52，所述搅拌轴52的顶部伸出供釉箱5连接有传动组件；通过这样的设置，可以防止釉料在供釉箱5内发展沉淀现象，确保釉面质量。

更优选地，所述搅拌轴52上设有搅拌叶片53，所述搅拌叶片53分为三组设置，每组设有五个。

具体的，所述施釉箱1内设有导热板24使得施釉箱1内部分为施釉空间10和回釉空间11，所述施釉空间10内设有放料台21；所述导热板24上具有连通孔，使得施釉空间10与回釉空间11连通；所述施釉箱1的底部设有回釉口与回釉空间11连通；所述回釉口通过回釉管14与供釉箱5连通。

具体的，所述放料台21的底部连接有转动轴20，所述转动轴20穿过导热板24后伸出施釉箱1连接有传动组件；通过这样的设置，可以利用转动轴20带动放料台21转动，从而带动放料台21上的瓷砖转动。

更具体的，所述转动轴20与导热板24相对的部分套有隔热套22；通过这样的设置，可以通过隔热套22保护转动轴20，防止导热板24的热量传导在转动轴20甚至电机2上。

更具体的，所述隔热套22包覆整个转动轴20设置，也就是说，连通回釉空间11内转动轴20均被隔热套22保护，由此可以防止釉料与转动轴20接触。

具体的，所述转动轴20与放料台21连接的一端套有防釉罩23；通过这样的设置，可以防止釉料从隔热套22的顶部与转动轴20接触。

具体的，所述回釉口设有动力泵12，所述回釉管14的进口与动力泵12的出口连通，回釉管14的出口与储釉箱4连通；通过这样的设置，有利于对回釉空间11内的釉料回收效率提高。

具体的，所述供釉箱5的一侧设有开口，所述开口被透明板50封闭；通过这样的设置，可以通过透明板50观察供釉箱5内的釉量情况。

需要说明的是，本实用新型中，所述导热板24的底部设有电热件25，即是利用电热件25对导热板24加热。

需要说明的是，本实用新型中，所述的传动组件即电机2，但也可以是连接有电机2的变速箱。

需要说明的是，本实用新型中未指出供釉管13如何吸取供釉箱5内的釉料进入到储釉箱4内，该技术可以直接采用现有技术，如可以采用动力泵12提供液体动力。

本实用新型的工作原理：

将瓷砖放置在放料台21上，转动轴20带动放料台21以及瓷砖转动；供釉管13吸取供釉箱5内的釉料进入储釉箱4内，而后进入喷釉箱3中，釉料经过储釉箱4时与电热棒40接触获得保温加热；喷头30吸取喷釉箱3内的釉料喷涂在瓷砖表面；多余的釉料会落在导热板24上，因导热板24被电热件25加热，故釉料不会凝固在导热板24上而会通过连通孔落入回釉空间11中，从而被动力泵12吸入回釉管14中，再回到供釉箱5内，实现循环利用。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

Claims (7)

1.一种瓷砖喷釉改进系统，其特征在于：包括施釉箱、供釉箱、储釉箱和连通储釉箱与供釉箱的供釉管；所述储釉箱设于施釉箱内且连接有一个以上的喷头，所述储釉箱内设有加热元件；所述施釉箱的底部设有放料台，所述放料台的底部连接有转动轴，所述转动轴伸出施釉箱后连接有传动组件。

2.根据权利要求1所述的一种瓷砖喷釉改进系统，其特征在于：所述储釉箱的顶部设有进釉口与供釉管连通，底部设有出釉口与喷头连通。

3.根据权利要求2所述的一种瓷砖喷釉改进系统，其特征在于：所述出釉口连通有喷釉箱，所述喷釉箱内部形成喷釉空间，所述喷头固定在喷釉箱上且与喷釉空间连通。

4.根据权利要求3所述的一种瓷砖喷釉改进系统，其特征在于：所述喷釉箱与储釉箱通过电磁阀连通。

5.根据权利要求1所述的一种瓷砖喷釉改进系统，其特征在于：所述加热元件包括电热棒。

6.根据权利要求1所述的一种瓷砖喷釉改进系统，其特征在于：所述供釉箱内部设有搅拌轴，所述搅拌轴的顶部伸出供釉箱连接有传动组件。

7.根据权利要求6所述的一种瓷砖喷釉改进系统，其特征在于：所述搅拌轴上设有搅拌叶片。

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