CN214956941U - 一种发光模组结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种发光模组结构，包括：光源、透镜和遮光层；所述光源具有发光主轴；所述透镜设有光入射面、全反射面和出光面，所述光入射面与所述光源对应设置，所述全反射面设置在所述光入射面的背光侧，所述出光面设置在所述光入射面与所述全反射面的边沿处，并与光入射面和全反射面连接形成一个整体；所述遮光层设置在所述全反射面的背光侧，所述光源的光线沿发光主轴的方向射入所述光入射面，部分光线从所述出光面直接射出，其余光线经全反射面反射后自所述出光面射出，通过设置遮光层，防止光线从漏光区漏出，能够提升发光模组侧向出光效率，保证光照效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及发光模组领域，更具体的说是涉及一种侧向发光的发光模组结构。
背景技术
目前，侧向发光型发光模组包括发光二极体晶片和透镜，透镜的全反射面位于光入射面上方，而透镜的光入射面临近发光二极体晶片，且侧边出光面连接全反射面以及光入射面。
在上述发光模组中，发光二极体晶片提供一光线，光线会从光入射面进入透镜。理想状态下，进入透镜的部分光线会被全反射面反射，并从侧边出光面出射，进入透镜的其余光线则不会被全反射面反射而直接从侧边出光面出射。
然而，由于透镜在实际制作容易因为制程的疏忽(如射出模具的制作误差，磨损，透镜被刮伤等)，而在透镜的全反射面上形成漏光区。一般常见的漏光区是位在透镜的脱模角处，或是因为封装发光二极体晶片或组装发光模组时，封装或组装底座的机械轴与透镜之光轴不容易重合一致，多少有位移现象，而导致于全反射面上的部分区域形成漏光区。漏光区导致部分的光线无法有效的被反射，进而影响发光模组侧向出光的效果。一般而言，侧向发发光模组约有10％-15％的光线出光损失，也就是有10％-15％的光线不从侧边出光而直接从光源上方出光。
因此，如何提升侧向发光型发光模组的侧边发光效率是亟待解决之问题。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型旨在提供一种发光模组结构，以至少在一定程度上解决现有技术中的上述技术问题之一。
为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
一种发光模组结构，包括：光源、透镜和遮光层；所述光源具有发光主轴；
所述透镜设有光入射面、全反射面和出光面，所述光入射面与所述光源对应设置，所述全反射面设置在所述光入射面的背光侧，所述出光面设置在所述光入射面与所述全反射面的边沿处，并与所述光入射面和全反射面连接形成一个整体；
所述遮光层设置在所述全反射面的背光侧，所述光源的光线沿发光主轴的方向射入所述光入射面，部分光线从所述出光面直接射出，其余光线经全反射面反射后自所述出光面射出。
经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本实用新型公开提供了一种发光模组结构，设置遮光层，防止光线从漏光区漏出，提升发光模组侧向出光效率，保证光照效果。
优选的，在上述的一种发光模组结构中，所述全反射面与所述发光主轴与的重合位置为漏光区一，所述漏光区一处覆盖遮光层。
优选的，在上述的一种发光模组结构中，在发光主轴与全反射面的边缘之间形成漏光区二，所述漏光区二围绕在所述漏光区一的外侧，且在所述漏光区二处设置遮光层。
优选的，在上述的一种发光模组结构中，所述遮光层的材质为金属或高分子膜。
优选的，在上述的一种发光模组结构中，还包括保护层，所述保护层覆盖在所述遮光层的外侧。
优选的，在上述的一种发光模组结构中，所述光入射面的中部为平面，其边缘向所述光源一侧弯曲形成曲面。
优选的，在上述的一种发光模组结构中，所述全反射面为锥形面，锥形面的顶角朝向所述光入射面，其轴线与所述光源的发光主轴重合，且所述锥形面的母线与所述发光主轴之间的夹角α取值为：0°＜α＜90°。
优选的，在上述的一种发光模组结构中，所述出光面靠近所述光入射面的一侧沿所述光入射面的边缘形状弯曲，靠近所述全反射面的一侧与发光主轴间之间的夹角β取值为：0°＜β＜30°。
优选的，在上述的一种发光模组结构中，所述光源为发光二极体晶片。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
请参阅附图1为本实用新型的一种发光模组结构，包括：
光源1、透镜2和遮光层3；光源1具有发光主轴10；
透镜2设有光入射面20、全反射面21和出光面22，光入射面20与光源1对应设置，全反射面21设置在光入射面20的背光侧，出光面22设置在光入射面20与全反射面21的边沿处，并与光入射面20和全反射面21连接形成一个整体；
遮光层3设置在全反射面21的背光侧，光源1的光线沿发光主轴10的方向射入光入射面20，部分光线从出光面22直接射出，其余光线经全反射面21反射后自出光面22射出。
为了进一步优化上述技术方案，全反射面21与发光主轴10与的重合位置为漏光区一210，漏光区一210处覆盖遮光层3。
为了进一步优化上述技术方案，在发光主轴10与全反射面21的边缘之间形成漏光区二211，漏光区二211围绕在漏光区一210的外侧，且在漏光区二211处设置遮光层3。
为了进一步优化上述技术方案，遮光层3的材质为金属或高分子膜。
为了进一步优化上述技术方案，还包括保护层4，保护层4覆盖在遮光层3的外侧。
为了进一步优化上述技术方案，光入射面20的中部为平面，其边缘向光源1一侧弯曲形成曲面。
为了进一步优化上述技术方案，全反射面21为锥形面，锥形面的顶角朝向光入射面20，其轴线与光源1的发光主轴10重合，且锥形面的母线与发光主轴10之间的夹角α取值为：0°＜α＜90°。
为了进一步优化上述技术方案，出光面22靠近光入射面20的一侧沿光入射面20的边缘形状弯曲，靠近全反射面的一侧与发光主轴10间之间的夹角β取值为：0°＜β＜30°。
为了进一步优化上述技术方案，光源1为发光二极体晶片。
具体的，遮光层3的配置数量，依照实际制程以及设计需求加以调整。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (9)
1.一种发光模组结构，其特征在于，包括：光源(1)、透镜(2)和遮光层(3)；所述光源(1)具有发光主轴(10)；
所述透镜(2)设有光入射面(20)、全反射面(21)和出光面(22)，所述光入射面(20)与所述光源(1)对应设置，所述全反射面(21)设置在所述光入射面(20)的背光侧，所述出光面(22)设置在所述光入射面(20)与所述全反射面(21)的边沿处，并与所述光入射面(20)和所述全反射面(21)连接形成一个整体；
所述遮光层(3)设置在所述全反射面(21)的背光侧，所述光源(1)的光线沿发光主轴(10)的方向射入所述光入射面(20)，部分光线从所述出光面(22)直接射出，其余光线经全反射面(21)反射后自所述出光面(22)射出。
2.根据权利要求1所述的一种发光模组结构，其特征在于，所述全反射面(21)与所述发光主轴(10)与的重合位置为漏光区一(210)，所述漏光区一(210)处覆盖遮光层(3)。
3.根据权利要求2所述的一种发光模组结构，其特征在于，在发光主轴(10)与全反射面(21)的边缘之间形成漏光区二(211)，所述漏光区二(211)围绕在所述漏光区一(210)的外侧，且在所述漏光区二(211)处设置遮光层(3)。
4.根据权利要求3所述的一种发光模组结构，其特征在于，所述遮光层(3)的材质为金属或高分子膜。
5.根据权利要求4所述的一种发光模组结构，其特征在于，还包括保护层(4)，所述保护层(4)覆盖在所述遮光层(3)的外侧。
6.根据权利要求5所述的一种发光模组结构，其特征在于，所述光入射面(20)的中部为平面，其边缘向所述光源(1)一侧弯曲形成曲面。
7.根据权利要求6所述的一种发光模组结构，其特征在于，所述全反射面(21)为锥形面，锥形面的顶角朝向所述光入射面(20)，其轴线与所述光源(1)的发光主轴(10)重合，且所述锥形面的母线与所述发光主轴(10)之间的夹角α取值为：0°＜α＜90°。
8.根据权利要求7所述的一种发光模组结构，其特征在于，所述出光面(22)靠近所述光入射面(20)的一侧沿所述光入射面(20)的边缘形状弯曲，靠近所述全反射面的一侧与发光主轴(10)间之间的夹角β取值为：0°＜β＜30°。
9.根据权利要求8所述的一种发光模组结构，其特征在于，所述光源(1)为发光二极体晶片。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202120596557.1U CN214956941U (zh) | 2021-03-24 | 2021-03-24 | 一种发光模组结构 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CN202120596557.1U CN214956941U (zh) | 2021-03-24 | 2021-03-24 | 一种发光模组结构 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN214956941U true CN214956941U (zh) | 2021-11-30 |
Family
ID=79038476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN202120596557.1U Active CN214956941U (zh) | 2021-03-24 | 2021-03-24 | 一种发光模组结构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| CN (1) | CN214956941U (zh) |
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2021
- 2021-03-24 CN CN202120596557.1U patent/CN214956941U/zh active Active
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