CN214928292U - 一种分段吸附喷绘平台 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及喷绘印刷机械设备领域，更具体地，涉及一种分段吸附喷绘平台，包括：平台主体、负压装置；所述平台主体设有多个独立吸附区域，独立吸附区域的顶部设有吸附孔、底部设有吸风口；所述吸附孔与吸风口连通；所述吸风口通过管道与负压装置连接，且管道上设有气体流通开关。本实用新型能避免无效吸附。

Description

一种分段吸附喷绘平台

技术领域

本实用新型涉及喷绘印刷机械设备领域，更具体地，涉及一种分段吸附喷绘平台。

背景技术

喷墨印花技术是一种全新的印花方式，它摒弃了传统印花需要制版的复杂环节，直接在织物上喷印，提高了印花的精度，实现了小批量、多品种、多花色印花，而且解决了传统印花占地面积大、污染严重等问题，因此具有广阔的发展前景，喷墨印花技术在纺织、广告印刷、装饰装潢、摄影等领域都有了非常广泛的应用。数字集成技术的发展，同时也带动了喷墨印花设备的发展。其中，在广告制作行业中起到重要作用的喷绘机就是得到发展的设备之一。

喷绘机是一种大型打印机系列的产品，其工作原理是通过紫外光使油墨组分交联而固化在产品上。喷绘机喷绘的产品不仅色彩鲜艳，保质期长，还不受幅面和批量限制，并且喷绘机的喷绘方法多样，制作成本低，制作周期短。由于拥有以上所述的多种优势，传统的喷绘制作根本无法与喷绘机相比，因此喷绘机推出短短的几年时间，已经风靡各地，大量应用于广告行业、玻璃行业、装饰装修行业、标牌行业、壁画装饰画行业和展板制作行业中。

随着喷绘机的迭代更新，现有的喷绘机已能满足用户的基本需求，但也随着喷绘机在各个领域使用的逐渐增多，许多问题纷纷涌现。一般的喷绘过程为：首先，将待喷绘介质运输到喷绘平台的喷绘区域，然后喷绘喷车开始喷绘待喷绘介质，最后收卷装置对完成喷绘的喷绘介质进行收卷。由于待喷绘介质的材质多种多样，软硬不一，因此，待喷绘介质在打印时经常出现翘边、不规则凸起以及位移的现象，影响打印的效果。为了待喷绘介质能在打印时保持平整稳定，喷绘平台在打印时会限制待喷绘介质。限制的方式一般为喷绘平台通过台面的通孔将待喷绘介质吸附在喷绘平台上。在实际的业务中，待喷绘介质的大小会根据客户的需求而变化。若待喷绘介质仅仅能覆盖喷绘平台的部分台面时，喷绘平台没有覆盖待喷绘介质的部分台面会进行无效吸附，造成以下问题：(1)喷绘平台吸附待喷绘介质的吸力减弱；(2)通孔吸风造成噪音；(3)能耗增加。喷绘平台的无效吸附已成了整个喷绘行业迫切要解决的问题之一。因此，目前亟需一种能避免无效吸附的分段吸附喷绘平台。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型提供一种分段吸附喷绘平台，该分段吸附喷绘平台能避免无效吸附。

本实用新型采取的技术方案是：

一种分段吸附喷绘平台，包括：平台主体、负压装置；所述平台主体设有多个独立吸附区域，独立吸附区域的顶部设有吸附孔、底部设有吸风口；所述吸附孔与吸风口连通；所述吸风口通过管道与负压装置连接，且管道上设有气体流通开关。

具体地，在实际的业务中，由于不同的客户拥有不同的需求，因此待喷绘介质的大小会根据也会随需求的变化而变化。针对待喷绘介质的大小不定时变化，最好的应对措施就是吸附的面积也随之进行变化。为了实现吸附面积灵活变化，将平台主体分为多个独立吸附区域，每个独立吸附区域具有独立的吸附孔以及与吸附孔连通的吸风口，通过气体流通开关能控制吸风口与负压装置是否连通，以此控制各独立吸附区域是否进行吸附。根据待喷绘介质的大小，控制不同的独立吸附区域进行吸附，能避免无效吸附效果，达到降噪节能的效果。

进一步地，所述平台主体包括：平台底盖、承料板；所述吸风口设置于平台底盖上；所述吸附孔设置于承料板上；所述平台底盖上设有开口向上的第一凹槽，第一凹槽开口与承料板底部轮廓相匹配；所述第一凹槽内设有多个隔板；所述隔板分隔平台主体形成多个独立吸附区域。

具体地，以隔板分隔平台主体，以实现形成多个独立吸附区域。

进一步地，所述平台主体还包括：横截面形状为V字型的侧板；所述侧板设置在平台主体两侧，且V字开口朝向平台主体内侧。

具体地，V字型的侧板安装在平台主体的两侧，形成一个倾斜的区域。在待喷绘介质运输上平台时，由倾斜区域进行引导，使待喷绘介质的移动平滑流畅。

进一步地，所述平台主体表面设有多个缝隙状的第二凹槽；所述吸附孔设置于第二凹槽中。

具体地，由于吸附孔对待喷绘介质直接进行吸附，待喷绘介质被吸附的区域会上下凹陷，形成部分变形，影响喷绘精度。因此，将吸附孔设置于第二凹槽中，第二凹槽具有较大的长度，凹槽的横截面面积也远大于吸附孔的横截面面积，致使待喷绘介质被吸附时，下陷的面积增大，从而使得下陷的深度减小，即通过第二凹槽显著的减少了待喷绘介质在吸附过程中下陷而引起的痕迹，甚至可以减小至肉眼无法观察到的痕迹。此外，由于第二凹槽本身还具有深度，当第二凹槽内的吸附孔对待喷绘介质进行吸附时，第二凹槽内分布的吸附孔产生的吸附气流得到分散，使得独立吸附区域各个位置产生的吸附力大小相对一致，即使待喷绘介质表面更均匀的受力，避免了待喷绘介质在第二凹槽内吸附孔的垂直方向上下陷，提升待喷绘介质在喷绘过程中的平整度，提高喷绘效果。

进一步地，所述第二凹槽在平台表面呈纵向和/或横向排布。

进一步地，两个以上的第二凹槽交叉形成一个凹槽单元，横向排布的凹槽单元形成一个平台单元；所述平台表面纵向设有一个以上的平台单元。

具体地，吸附平台表面设置有多个第二凹槽，第二凹槽通过底面设置的吸附孔产生吸附力，第二凹槽相对于吸附孔具有更大的作用范围，所以多个第二凹槽之间产生更为显著的相互拉扯的力量，进一步的提升待喷绘介质平整度，也避免了待喷绘介质产生较深的痕迹。

进一步地，所述第二凹槽的槽口宽度为0.2cm至1cm之间，深度为0.2至1cm之间。

具体地，槽口过小则不能体现凹槽的面积优势，过大则会降低吸附效果。

进一步地，多个独立吸附区域相应的管道通过分流盒与负压装置连接。

具体地，通过分流盒使多个独立吸附区域具有大小相对一致的吸附力，避免待喷绘介质受力不均而产生皱褶。

进一步地，还包括：控制器和多个传感器；所述控制器分别与气体流通开关、多个传感器连接；所述多个传感器分别安装在独立吸附区域，用于检测各独立吸附区域内是否存在待喷绘介质。

具体地，当待喷绘介质运输至吸附平台时，多个传感器自动检测各个独立吸附区域的区域内是否存在待喷绘介质。若存在则发送检测结果至控制器，控制器开启相应的独立吸附区域的气体流通开关，使该独立吸附区域对相应的待喷绘介质进行吸附；反之控制器关闭独立吸附区域的气体流通开关，避免吸附区域内不存在待喷绘介质时，进行无效吸附。多个传感器以及控制器实现了自动分段吸附，无需人工开闭各个独立吸附区域的吸附孔，使吸附平台操作起来简单方便，灵活精准。

进一步地，所述平台底盖于每个独立吸附区域的底部还设有多个调节气口；所述调节气口受控制以连通或不连通外界。

具体地，由于待喷绘介质种类繁多，材质不一，不同客户提供的待喷绘介质种类也往往不同。因此，对于同一功率的负压机，其只有一种吸附力度。过于单调。应用材料有限。吸附平台需要具备多档大小不一的吸附力，才能处理好不同材质的待喷绘介质。平台底盖开设多个调节气口，调节气口由人手或机器控制开闭，能实现更为精细的控制吸附力度。当材质坚硬难以与吸附平台贴合时，调节气口关闭，吸附平台对材质的吸力增强；若材质柔软容易变形，则调节气口开启，吸附平台对材质的吸力减弱，使材质不至于受力发生大幅度的形变，影响喷绘；调节气口在同一独立吸附区域开设了不止一个，依次开启/关闭可调节相应的吸附力大小。调节气口不能开设太大，以免吸附力过小，浪费能耗；也不能太小，避免吸附力过大，材质凹陷变形。调节气口直径约为吸附孔直径的三分之一至三分之二合适。

进一步地，所述调节气口和/或吸附孔还设有受驱动以遮挡调节气口大小的调节片。

进一步地，所述气体流通开关为球阀开关。

进一步地，负压机至少设置两个。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：

(1)平台主体设有多个独立吸附区域实现分段吸附，避免了无效吸附，达到降噪节能的效果。

(2)吸附孔设置于第二凹槽中，使待喷绘介质表面更均匀的受力，提升待喷绘介质在喷绘过程中的平整度，提高喷绘效果。

(3)平台底盖于每个独立吸附区域的底部设有多个调节气口，以此调节相应的吸附力大小，避免吸附力过小，浪费能耗，还避免了吸附力过大，材质凹陷变形。

附图说明

图1为本实用新型的分段吸附平台示意图；

图2为本实用新型的平台底盖示意图；

图3为本实用新型的承料板示意图；

附图标记说明：平台主体100、负压装置200、吸风口111、第一凹槽112、隔板113、侧板114、承料板120、吸附孔121、第二凹槽122、分流盒300。

具体实施方式

本实用新型附图仅用于示例性说明，不能理解为对本实用新型的限制。为了更好说明以下实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。

实施例

本实施例一种分段吸附喷绘平台，图1为本实用新型的分段吸附平台示意图，如图所示，包括：平台主体100、负压装置200；所述平台主体100设有多个独立吸附区域，独立吸附区域的顶部设有吸附孔121、底部设有吸风口111；所述吸附孔121与吸风口111连通；所述吸风口111通过管道与负压装置200连接，且管道上设有气体流通开关。

具体地，在实际的业务中，由于不同的客户拥有不同的需求，因此待喷绘介质的大小会根据也会随需求的变化而变化。针对待喷绘介质的大小不定时变化，最好的应对措施就是吸附的面积也随之进行变化。为了实现吸附面积灵活变化，将平台主体100分为多个独立吸附区域，每个独立吸附区域具有独立的吸附孔121以及与吸附孔121连通的吸风口111，通过气体流通开关能控制吸风口111与负压装置200是否连通，以此控制各独立吸附区域是否进行吸附。根据待喷绘介质的大小，控制不同的独立吸附区域进行吸附，能避免无效吸附效果，达到降噪节能的效果。

图2为本实用新型的平台底盖示意图，图3为本实用新型的承料板示意图，如图所示，所述平台主体100包括：平台底盖、承料板120；所述吸风口111设置于平台底盖上；所述吸附孔121设置于承料板120上；所述平台底盖上设有开口向上的第一凹槽112，第一凹槽112开口与承料板120底部轮廓相匹配；所述第一凹槽112内设有多个隔板113；所述隔板113分隔平台主体100形成多个独立吸附区域。

具体地，以隔板113分隔平台主体100，以实现形成多个独立吸附区域。

进一步地，所述平台主体100还包括：横截面形状为V字型的侧板114；所述侧板114设置在平台主体100两侧，且V字开口朝向平台主体100内侧。

具体地，V字型的侧板114安装在平台主体100的两侧，形成一个倾斜的区域。在待喷绘介质运输上平台时，由倾斜区域进行引导，使待喷绘介质的移动平滑流畅。

进一步地，所述平台主体100表面设有多个缝隙状的第二凹槽122；所述吸附孔121设置于第二凹槽122中。

具体地，由于吸附孔121对待喷绘介质直接进行吸附，待喷绘介质被吸附的区域会上下凹陷，形成部分变形，影响喷绘精度。因此，将吸附孔121设置于第二凹槽122中，第二凹槽122具有较大的长度，凹槽的横截面面积也远大于吸附孔121的横截面面积，致使待喷绘介质被吸附时，下陷的面积增大，从而使得下陷的深度减小，即通过第二凹槽122显著的减少了待喷绘介质在吸附过程中下陷而引起的痕迹，甚至可以减小至肉眼无法观察到的痕迹。此外，由于第二凹槽122本身还具有深度，当第二凹槽122内的吸附孔121对待喷绘介质进行吸附时，第二凹槽122内分布的吸附孔121产生的吸附气流得到分散，使得独立吸附区域各个位置产生的吸附力大小相对一致，即使待喷绘介质表面更均匀的受力，避免了待喷绘介质在第二凹槽122内吸附孔121的垂直方向上下陷，提升待喷绘介质在喷绘过程中的平整度，提高喷绘效果。

进一步地，所述第二凹槽122在平台表面呈纵向和/或横向排布。

进一步地，两个以上的第二凹槽122交叉形成一个凹槽单元，横向排布的凹槽单元形成一个平台单元；所述平台表面纵向设有一个以上的平台单元。

具体地，吸附平台表面设置有多个第二凹槽122，第二凹槽122通过底面设置的吸附孔121产生吸附力，第二凹槽122相对于吸附孔121具有更大的作用范围，所以多个第二凹槽122之间产生更为显著的相互拉扯的力量，进一步的提升待喷绘介质平整度，也避免了待喷绘介质产生较深的痕迹。

进一步地，所述第二凹槽122的槽口宽度为0.2cm至1cm之间，深度为0.2至1cm之间。

具体地，槽口过小则不能体现凹槽的面积优势，过大则会降低吸附效果。

进一步地，多个独立吸附区域相应的管道通过分流盒300与负压装置200连接。

具体地，通过分流盒300使多个独立吸附区域具有大小相对一致的吸附力，避免待喷绘介质受力不均而产生皱褶。

进一步地，还包括：控制器和多个传感器；所述控制器分别与气体流通开关、多个传感器连接；所述多个传感器分别安装在独立吸附区域，用于检测各独立吸附区域内是否存在待喷绘介质。

具体地，当待喷绘介质运输至吸附平台时，多个传感器自动检测各个独立吸附区域的区域内是否存在待喷绘介质。若存在则发送检测结果至控制器，控制器开启相应的独立吸附区域的气体流通开关，使该独立吸附区域对相应的待喷绘介质进行吸附；反之控制器关闭独立吸附区域的气体流通开关，避免吸附区域内不存在待喷绘介质时，进行无效吸附。多个传感器以及控制器实现了自动分段吸附，无需人工开闭各个独立吸附区域的吸附孔121，使吸附平台操作起来简单方便，灵活精准。

进一步地，所述平台底盖于每个独立吸附区域的底部还设有多个调节气口；所述调节气口受控制以连通或不连通外界。

具体地，由于待喷绘介质种类繁多，材质不一，不同客户提供的待喷绘介质种类也往往不同。因此，对于同一功率的负压机，其只有一种吸附力度。过于单调。应用材料有限。吸附平台需要具备多档大小不一的吸附力，才能处理好不同材质的待喷绘介质。平台底盖开设多个调节气口，调节气口由人手或机器控制开闭，能实现更为精细的控制吸附力度。当材质坚硬难以与吸附平台贴合时，调节气口关闭，吸附平台对材质的吸力增强；若材质柔软容易变形，则调节气口开启，吸附平台对材质的吸力减弱，使材质不至于受力发生大幅度的形变，影响喷绘；调节气口在同一独立吸附区域开设了不止一个，依次开启/关闭可调节相应的吸附力大小。调节气口不能开设太大，以免吸附力过小，浪费能耗；也不能太小，避免吸附力过大，材质凹陷变形。调节气口直径约为吸附孔121直径的三分之一至三分之二合适。

进一步地，所述调节气口和/或吸附孔121还设有受驱动以遮挡调节气口大小的调节片。

进一步地，所述气体流通开关为球阀开关。

进一步地，负压机至少设置两个。

显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型技术方案所作的举例，而并非是对本实用新型的具体实施方式的限定。凡在本实用新型权利要求书的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种分段吸附喷绘平台，其特征在于，包括：平台主体、负压装置；所述平台主体设有多个独立吸附区域，独立吸附区域的顶部设有吸附孔、底部设有吸风口；所述吸附孔与吸风口连通；所述吸风口通过管道与负压装置连接，且管道上设有气体流通开关。

2.根据权利要求1所述的一种分段吸附喷绘平台，其特征在于，所述平台主体包括：平台底盖、承料板；所述吸风口设置于平台底盖上；所述吸附孔设置于承料板上；所述平台底盖上设有开口向上的第一凹槽，第一凹槽开口与承料板底部轮廓相匹配；所述第一凹槽内设有多个隔板；所述隔板分隔平台主体形成多个独立吸附区域。

3.根据权利要求2所述的一种分段吸附喷绘平台，其特征在于，所述平台主体还包括：横截面形状为V字型的侧板；所述侧板设置在平台主体两侧，且V字开口朝向平台主体内侧。

4.根据权利要求1所述的一种分段吸附喷绘平台，其特征在于，所述平台主体表面设有多个缝隙状的第二凹槽；所述吸附孔设置于第二凹槽中。

5.根据权利要求4所述的一种分段吸附喷绘平台，其特征在于，所述第二凹槽在平台表面呈纵向和/或横向排布。

6.根据权利要求4所述的一种分段吸附喷绘平台，其特征在于，两个以上的第二凹槽交叉形成一个凹槽单元，横向排布的凹槽单元形成一个平台单元；所述平台表面纵向设有一个以上的平台单元。

7.根据权利要求4所述的一种分段吸附喷绘平台，其特征在于，所述第二凹槽的槽口宽度为0.2cm至1cm之间，深度为0.2至1cm之间。

8.根据权利要求1所述的一种分段吸附喷绘平台，其特征在于，多个独立吸附区域相应的管道通过分流盒与负压装置连接。

9.根据权利要求1所述的一种分段吸附喷绘平台，其特征在于，还包括：控制器和多个传感器；所述控制器分别与气体流通开关、多个传感器连接；所述多个传感器分别安装在独立吸附区域，用于检测各独立吸附区域内是否存在待喷绘介质。

10.根据权利要求2所述的一种分段吸附喷绘平台，其特征在于，所述平台底盖于每个独立吸附区域的底部还设有多个调节气口；所述调节气口受控制以连通或不连通外界。

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