CN214704308U - 一种显影装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种显影装置，包括:喷液桩，其上设有至少两个对称分布的显影液雾化喷头和至少两个对称分布的纯水喷头；受液板，围绕喷液桩设置，且受液板倾斜设置；驱动齿轮，与受液板相连以驱动受液板围绕喷液桩旋转；接液槽，围绕喷液桩设置并位于受液板的下方，接液槽的底部设有接液槽出液口；排液槽，位于接液槽的下方，排液槽的底部设有排液槽出液口。采用雾化喷淋的方式，既能避免传统浸没式显影方式造成显影液中的有效成分浓度逐渐降低进而影响显影质量的问题，又能避免传统喷淋方式水压对光刻胶的外力破坏问题，并且受液板倾斜设置，解决了传统喷淋方式中平面旋转造成远近圆心处会有明显的显影程度差异的问题。

Description

一种显影装置

技术领域

本实用新型属于半导体制备技术领域，具体涉及一种显影装置。

背景技术

光刻是芯片半导体制造中一道关键的工序，随着特征尺寸越来越小，对光刻的要求也越来越高。光刻成图形时，需要显影处理。显影质量的好坏也决定着图形特征尺寸的精度，从而决定器件的整体性能。工业上常用的有传统浸没式、喷淋式等显影方式。

对于传统的化学浸没式显影，显影时，显影液中的有效成分浓度会随着显影次数不断减少，显影图形质量不稳定、不均匀，会造成部分过显或未显净。因而需要不断调整显影参数并及时更换显影液来解决。但仍然会造成特征尺寸不稳地，影响器件电性能；且频繁更换显影液，不仅操作麻烦，占用生产时间，溶液成本也相应提高。

对于传统喷淋式显影方式，虽然解决了溶液不稳定的问题，但是来自喷枪的水压，会对溶解的光刻胶进行外力破坏，而且平面旋转，远近圆心处会有明显的显影程度差异。会造成显影不均。会对后续工序造成图形不准确，图形异形等缺陷。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型提供一种显影装置。

本实用新型所采用的技术方案为：一种显影装置，包括:

喷液桩，其上设有至少两个对称分布的显影液雾化喷头和至少两个对称分布的纯水喷头；

受液板，围绕所述喷液桩设置，且所述受液板倾斜设置；

驱动齿轮，与所述受液板相连以驱动所述受液板围绕所述喷液桩旋转；

接液槽，围绕所述喷液桩设置并位于所述受液板的下方，所述接液槽的底部设有接液槽出液口；

排液槽，位于所述接液槽的下方，所述排液槽的底部设有排液槽出液口。

作为一种可选的技术方案，所述喷液桩内还设有与每一所述显影液雾化喷头均相连的显影液进液管以及与每一所述纯水喷头均相连的纯水进液管。

作为一种可选的技术方案，所述显影液雾化喷头设有两个，两个所述显影液雾化喷头在所述喷液桩上对称分布。

作为一种可选的技术方案，所述纯水喷头设有两个，两个所述纯水喷头在所述喷液桩上对称分布。

作为一种可选的技术方案，所述受液板上还连接有加强筋。

作为一种可选的技术方案，所述接液槽与所述喷液桩之间设有喷头溢出液入口。

作为一种可选的技术方案，所述喷液桩为伸缩式结构，所述喷液桩的底部设有控制喷液桩伸缩的控制件。

作为一种可选的技术方案，该装置还包括与所述驱动齿轮相连的驱动电机。

作为一种可选的技术方案，所述受夜板上设有将产品吸附的真空吸附件。

本实用新型的有益效果为：

1、本申请中采用将显影液雾化后喷出的方式，可以使得产品表面和显影液软接触显影，减少了外力对溶解过程中胶的破坏，进而减少显影过程中对图形的破坏以及残脆胶渣的出现，达到良好的显影效果。

2、本申请中显影和清洗都采用双喷头或多喷头的方式，可以提高受液、显影以及清洗的均匀性。

3、本申请中将受液板倾斜设置，并设计了接液槽和排液槽，进行多级回收排液，方便溶液自然排出及回收，无洒落烦恼。

4、本申请装置一次可显16片2英寸基片，4片4英寸基片，高效快速，显影效率高，显影效果佳。

附图说明

图1为实施例中显影装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步阐述。

实施例

如图1所示，一种显影装置，包括:喷液桩，其上设有至少两个对称分布的显影液雾化喷头1和至少两个对称分布的纯水喷头2；受液板，围绕所述喷液桩设置，且所述受液板倾斜设置；驱动齿轮6，与所述受液板相连以驱动所述受液板围绕所述喷液桩旋转；接液槽8，围绕所述喷液桩设置并位于所述受液板的下方，所述接液槽8的底部设有接液槽出液口9；排液槽10，位于所述接液槽8的下方，所述排液槽10的底部设有排液槽出液口11。

本实施例中，产品安装在受液板上，驱动齿轮6驱动受液板围绕所述喷液桩旋转，进而使得产品围绕喷液桩上的显影液雾化喷头1旋转，显影液通过显影液雾化喷头1雾化后喷出，进而使得产品表面均匀受液，采用雾化喷淋的方式，既能避免传统浸没式显影方式造成显影液中的有效成分浓度逐渐降低进而影响显影质量的问题，又能避免传统喷淋方式中喷枪的水压对溶解的光刻胶进行外力破坏的问题，并且，受液板倾斜设置，解决了传统喷淋方式中平面旋转造成远近圆心处会有明显的显影程度差异的问题。

作为一种可选的实施方式，所述喷液桩内还设有与每一所述显影液雾化喷头1均相连的显影液进液管15以及与每一所述纯水喷头2均相连的纯水进液管14。其中，显影液通过显影液进液管15供给显影液雾化喷头1，用于清洗的清洗液通过纯水进液管14供给纯水喷头2。

作为一种可选的实施方式，所述显影液雾化喷头1设有两个，两个所述显影液雾化喷头1在所述喷液桩上对称分布，以提高受液、显影的均匀性。

作为一种可选的实施方式，所述纯水喷头2设有两个，两个所述纯水喷头2在所述喷液桩上对称分布，以提高受液、清洗的均匀性。

作为一种可选的实施方式，所述受液板上还连接有加强筋5，以增加受液板结构稳定性。

作为一种可选的实施方式，所述接液槽8与所述喷液桩之间设有喷头溢出液入口12。显影液雾化喷头1和纯水喷头2溢出的溶液由喷头溢出液入口12进入到排液槽10中排出。

作为一种可选的实施方式，所述喷液桩为伸缩式结构，所述喷液桩的底部设有控制喷液桩伸缩的控制件13。显影以及清洗完成后，喷液桩由控制件13控制收缩下行，便于取出产品。

作为一种可选的实施方式，该装置还包括与所述驱动齿轮6相连的驱动电机7。

作为一种可选的实施方式，所述受夜板上设有将产品吸附的真空吸附件，以方便将产品安装在受液板上。

为了更好地理解本申请，下面将其工作过程进行进一步的说明。工作时，先将产品真空吸附在受液板上，启动电机7使得受液板转动，进而带动受液板上的产品围绕喷液桩上的显影液雾化喷头1转动，然后显影液从显影液进液管15进入，供给显影液雾化喷头1，高压雾化喷淋出去，其中，图1中的区域3为显影液的最小喷淋范围，被真空吸附的产品位于该范围内，显影开始，产品表面均匀受液，溶解的光刻胶和显影液一起随重力自然流入接液槽8中排出。显影完毕后，纯水由纯水进液管14进入到纯水喷头2，再喷淋到产品表面对其进行均匀清洗，然后溶液随重力自然排出，其中，图1中的区域4为清洗液的最小喷淋范围。清洗完毕，所有溶液流落到接液槽8中，然后由接液槽出液口9排入到排液槽10中，最后由排液槽出液口11排出。显影液雾化喷头1和纯水喷头2溢出的溶液由喷头溢出液入口12进入到排液槽10中排出。完成后，喷液桩由控制件13收缩下行，便于取出产品。

本实用新型不局限于上述可选实施方式，任何人在本实用新型的启示下都可得出其他各种形式的产品，但不论在其形状或结构上作任何变化，凡是落入本实用新型权利要求界定范围内的技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种显影装置，其特征在于，包括:

喷液桩，其上设有至少两个对称分布的显影液雾化喷头和至少两个对称分布的纯水喷头；

受液板，围绕所述喷液桩活动设置，且所述受液板倾斜设置；

驱动齿轮，与所述受液板相连以驱动所述受液板围绕所述喷液桩旋转；

接液槽，围绕所述喷液桩设置并位于所述受液板的下方，所述接液槽的底部设有接液槽出液口；

排液槽，位于所述接液槽的下方，所述排液槽的底部设有排液槽出液口。

2.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述喷液桩内还设有与每一所述显影液雾化喷头均相连的显影液进液管以及与每一所述纯水喷头均相连的纯水进液管。

3.根据权利要求1或2所述的显影装置，其特征在于：所述显影液雾化喷头设有两个，两个所述显影液雾化喷头在所述喷液桩上对称分布。

4.根据权利要求1或2所述的显影装置，其特征在于：所述纯水喷头设有两个，两个所述纯水喷头在所述喷液桩上对称分布。

5.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于：所述受液板上还连接有加强筋。

6.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于：所述接液槽与所述喷液桩之间设有喷头溢出液入口。

7.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于：所述喷液桩为伸缩式结构，所述喷液桩的底部设有控制喷液桩伸缩的控制件。

8.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于：该装置还包括与所述驱动齿轮相连的驱动电机。

9.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于：所述受液板上设有将产品吸附的真空吸附件。

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