CN214605588U - 供应设备 - Google Patents

Abstract

一种供应设备，系包括：遮蔽装置，系包含箱体，其中，该箱体系配置有目标物；支撑结构；第一供应装置，系设于该支撑结构上，以将目标材朝第一供应方向喷涂至该目标物上；以及第二供应装置，系设于该支撑结构上，以将目标材朝第二供应方向喷涂至该目标物上，且该第一供应装置之第一供应方向系不同于该第二供应装置之第二供应方向，以于该第一供应装置与第二供应装置将该目标材喷涂至该目标物上时，不会将该目标材喷散至该目标物之外面环境。

Description

供应设备

技术领域

本实用新型涉及一种供应设备，尤指一种用于供料之供应设备。

背景技术

于射出成型制程中，常藉由模具制作所需之产品，且于进行射出成型作业前，会先涂布离形层于模具中，以利于后续脱模作业。

习知涂布离形层之作业中，如图1所示，系藉由供应设备1之喷嘴10朝供应方向F喷射离形剂至该模具之模件1a,1b上。

然而，习知供应设备1中，该喷嘴10于喷射过程中容易将离形剂喷散至该模件1a,1b之侧面1c之周围，造成该供应设备1周围之机组污损，甚至使该供应设备1周围之机组故障，导致产品不良。

再者，习知供应设备1仅能朝向单一方向喷射离形剂，待其中一模件1a形成离形层后，再将该喷嘴10转向(如旋转方向R)以喷涂另一模件1b，因而喷涂时程冗长，致使制作产物之时间增加，导致射出成型制程所制作之产物之成本提高。

又，藉由转动单一喷嘴10以将离形剂喷涂于该些模件1a,1b之方式，不易将该离形剂均匀喷涂于该些模件1a,1b上，致使该离形层往往无法有效分离该射出成型制程所制作之产物。

因此，如何克服上述习知技术之问题，实已成为目前业界亟待克服之难题。

实用新型内容

鉴于上述习知技术之种种缺失，本实用新型提供一种供应设备，系包括：遮蔽装置，系包含箱体，其中，该箱体系配置有目标物；支撑结构；第一供应装置，系设于该支撑结构上，以将目标材朝第一供应方向喷涂至该目标物上；以及第二供应装置，系设于该支撑结构上，以将目标材朝第二供应方向喷涂至该目标物上，且该第一供应装置之第一供应方向系不同于该第二供应装置之第二供应方向，以于该第一供应装置与第二供应装置将该目标材喷涂至该目标物上时，不会将该目标材喷散至该目标物之外面环境。

前述之供应设备中，复包括设于该支撑结构上之一上下位移装置及一左右位移装置，该第一供应装置及第二供应装置设置于该上下位移装置之下端，以令该上下位移装置及该左右位移装置驱动该第一供应装置及第二供应装置。例如，该遮蔽装置系包含有两挡件，其分别具有一凹槽，以于该两挡件靠紧时，使该两挡件之凹槽形成一容置空间，以令该容置空间容置该上下位移装置及该左右位移装置。进一步，该遮蔽装置复包含有一用以设置该两挡件之载台，且该载台上系设有一架体及设于该架体上之轨道结构，以令该两挡件设于该轨道结构上，使该两挡件之至少其中一者藉由该轨道结构位移。较佳者，该架体上于对应该两挡件下方处系于该目标物前后方处分别配置有一侧板，以令该侧板与该目标物形成半密闭式箱体。

前述之供应设备中，该第一供应装置之第一供应方向系相反于该第二供应装置之第二供应方向，且该第一供应装置与该第二供应装置系配置于该支撑结构之相对两侧。

前述之供应设备中，该第一供应装置及/或该第二供应装置系具有至少一个喷嘴。例如，该第一供应装置及/或该第二供应装置系具有42个喷嘴。

前述之供应设备中，复包括一操控该遮蔽装置、第一供应装置及第二供应装置运作之控制座。

前述之供应设备中，该遮蔽装置复包含有至少一用以固设该目标物之墙板，且该墙板系带动该目标物位移。

由上可知，本实用新型之供应设备中，主要藉由该目标物作为该遮蔽装置之箱体之部分构件，以于喷涂目标材时，该第一供应装置及第二供应装置于喷射过程中不会将该目标材喷散至该目标物之外面环境，故相较于习知技术，本实用新型之供应设备不会造成污染，以避免其它机组受损而导致产品不良之问题。

再者，藉由该第一供应装置之第一供应方向系不同于该第二供应装置之第二供应方向，以同时喷涂该目标材于目标物上，因而能大幅缩减供应时程，故相较于习知技术，本实用新型之供应设备若应用于喷涂离形剂之作业中，可利于缩减模具制作产物之时间。

又，藉由该复数数组排设之喷嘴之设计，以利于均匀供应该目标材，故相较于习知技术，本实用新型之供应设备若应用于喷涂离形剂之作业中，可利于该离形层分离该模具所制作出之产物。

附图说明

图1为习知供应设备于使用中之侧视平面示意图。

图2图为本实用新型之供应设备之局部前视立体示意图。

图2-1为本实用新型之供应设备之局部后视立体示意图。

图2-2为本实用新型之供应设备之局部侧视放大平面示意图。

图2A为本实用新型之供应设备之局部前视平面示意图。

图2B为本实用新型之供应设备之局部侧视平面示意图。

图2C为本实用新型之供应设备之局部上视平面示意图。

图3A为本实用新型之供应设备之内部配置之局部平面示意图。

图3B为本实用新型之供应设备之内部配置之局部平面示意图。

图3C为图2之局部放大示意图。

图3D为图3C之局部立体示意图。

图3E为图3C之局部立体示意图。

图4为本实用新型之供应设备于使用中之局部放大示意图。

附图标记说明：

1,2:供应设备

1a,1b:模件

1c:侧面

10:喷嘴

2a:遮蔽装置

2b:控制座

2c:供应组件

2d:射出成形装置

20:支撑结构

21:第一供应装置

21a:第一喷涂结构

210:第一喷嘴

22:第二供应装置

22a:第二喷涂结构

220:第二喷嘴

23:载台

24a:第一挡件

24b:第二挡件

25:架体

26:轨道结构

27,27’:墙板

27a,27b:侧板

28,28a:承接盘

28b:承接槽

280,281:管路

282:分支管道

29,29a:槽体

30,40:位移装置

8:目标材

9:目标物

9a:第一模具

9b:第二模具

A:喷涂面

F:供应方向

F1:第一供应方向

F2:第二供应方向

L1,L2:移动方向

R:旋转方向

S:容置空间

S1:第一凹槽

S2:第二凹槽

具体实施方式

以下藉由特定的具体实施例说明本实用新型之实施方式，熟悉此技艺之人士可由本说明书所揭示之内容轻易地了解本实用新型之其他优点及功效。

须知，本说明书所附图式所绘示之结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示之内容，以供熟悉此技艺之人士之了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施之限定条件，故不具技术上之实质意义，任何结构之修饰、比例关系之改变或大小之调整，在不影响本实用新型所能产生之功效及所能达成之目的下，均应仍落在本实用新型所揭示之技术内容得能涵盖之范围内。同时，本说明书中所引用之如「上」、「下」、「左」、「右」、「前」、「后」、「顶」、「底」及「一」等之用语，亦仅为便于叙述之明了，而非用以限定本实用新型可实施之范围，其相对关系之改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施之范畴。

图2、图2-1及图2-2为本实用新型之供应设备2之示意图。如图2、图2-1及图2-2所示，该供应设备2系包括一包含至少一目标物9(如图2-2所示)之遮蔽装置2a以及一对应该目标物9配置之供应组件2c，该供应组件2c系包括一支撑结构20(如图2A所示)、设于该支撑结构20上之第一供应装置21(如图2A所示)以及第二供应装置22(如图2A所示)，且该第一供应装置21之第一供应方向F1系不同于该第二供应装置22之第二供应方向F2(如图2A所示)。

于本实施例中，该第一供应装置21之第一供应方向F1系相反于该第二供应装置22之第二供应方向F2。

所述之支撑结构20系可依需求设计所需之外观及内装，例如层板、框架或其它适当构造等，如图2A、图2B及图2C所示，并无特别限制。

所述之第一供应装置21系包含有一用于供应目标材8(如图4所示)之第一喷涂结构21a(如图2A所示)，以将该目标材8朝该第一供应方向F1喷涂至该目标物9上。

于本实施例中，该第一喷涂结构21a系具有至少一用于喷射该目标材8之第一喷嘴210。例如，该第一喷涂结构21a系具有复数数组排设之第一喷嘴210，且该第一喷嘴210之数量依铸造物之大小而定。具体地，该铸造物为60㎝·60㎝之高架地板，故分三排配置该第一喷嘴210，如图2B及图2C所示，共计42个第一喷嘴210。

再者，本实施例之目标物9为用于铸造板材(如地板)之模具，其具有相对之第一模具9a及第二模具9b，如图2-2所示，且该目标材8为离形剂，使得铸造完成之目标物9容易脱模取出。有关该目标物9之态样系不限制使用于铸造板材之制作。

所述之第二供应装置22系包含有一用于供应该目标材8之第二喷涂结构22a，以将该目标材8朝该第二供应方向F2喷涂至该目标物9上。

于本实施例中，该第二喷涂结构22a系具有至少一用于喷射该目标材8之第二喷嘴220。例如，该第二喷涂结构22a系具有复数数组排设之第二喷嘴220，且该第二喷嘴220之数量依铸造物之大小而定。具体地，该铸造物为60㎝·60㎝之高架地板，故分三排配置该第二喷嘴220，如图2B及图2C所示，共计42个第二喷嘴220。

再者，该第一供应装置21与该第二供应装置22系配置于该支撑结构20之相对两侧，如左、右侧。

又，所述之供应设备2复包括一设于该支撑结构20上以作动该第一供应装置21及/或第二供应装置22之上下位移装置30及左右位移装置40，如图3A及图3B所示，该第一供应装置21及/或第二供应装置22设置于该上下位移装置30之下端。例如，该上下位移装置30及左右位移装置40，可由一马达或液压装置驱动，使得上下位移装置30及左右位移装置40可于一滑轨上移动。应可理解地，有关该位移装置30之种类繁多，并无特别限制。

另外，所述之供应设备2复包括一操控该遮蔽装置2a、上下位移装置30及左右位移装置40、第一供应装置21及第二供应装置22运作之控制座2b，且藉由该控制座2b架设该上下位移装置30及左右位移装置40、第一供应装置21及第二供应装置22，并将该控制座2b之下端固定于该供应设备2所预设之机座上。

所述之遮蔽装置2a系包含有一第一挡件24a与一第二挡件24b，且该第一挡件24a与第二挡件24b系设于一载台23之上方，如图2及图2-1所示。

于本实施例中，该第一挡件24a系具有一第一凹槽S1，且该第二挡件24b系具一第二凹槽S2，并使该第一挡件24a与该第二挡件24b可在一轨道结构26上直线移动。例如，该第一挡件24a通常静止不动，以当该第二挡件24b朝向该第一挡件24a靠紧时，使该第一凹槽S1与该第二凹槽S2形成一容置空间S(如图2-2所示)，以供容置该上下位移装置30及左右位移装置40，且可避免该目标材8向上方扩散喷出，其中，因该目标材8属于有毒物质而易造成环保问题。

再者，该载台23上系设有一架体25及设于该架体25上之轨道结构26，以令该第一挡件24a与第二挡件24b设于该轨道结构26上，使该第一挡件24a与第二挡件24b能相对直线移动。例如，该架体25上对应该第一挡件24a与第二挡件24b之下方处及目标物9之前方可配置一活动式侧板27a(如可左右直线移动或可掀式等)，以利于铸造完成后之目标物9容易拆除取出，该侧板27a之对面侧亦设置一固定式侧板27b，并与第一模具9a及第二模具9b之壁面形成一半密闭之箱体，以避免目标材8向四周扩散喷出，而从箱体下方流出，且于该箱体底部可配置一承接盘28，如图3C及图3D所示，以收集从箱体下方流出之目标材8，并使该承接盘28连接一管路280，使该承接盘28藉由该管路280连通至一用以收集废液(如从箱体下方流出之目标材8)之槽体29。

又，该遮蔽装置2a复包含有至少一设于该架体25上以固设该目标物9之墙板27,27’，且该墙板27,27’可相对该载台23位移。例如，该墙板27,27’可带动该第一模具9a及/或第二模具9b相互靠近或分离。

另外，于该载台23上还设有一射出成形装置2d，其与该遮蔽装置2a相邻配置，以连通该目标物9，使该射出成形装置2d可供应至少一种成形材至该目标物9。例如，该射出成形装置2d之下方可配置另一矩形承接盘28a，如图3C及图3E所示，以收集从该射出成形装置2d下方流出之废液(如润滑油、水等)，并使该承接盘28a藉由一滑梯状分支管道282连接至一承接槽28b，以分流废液至该承接槽28b而避免废液从该承接盘28a中溢出。具体地，该承接槽28b系呈矩形环状而环绕该射出成形装置2d与该遮蔽装置2a，以顺势收集从该箱体下方流出之润滑油及凝结水，且该承接槽28b连接一管路281，使该承接槽28b藉由该管路281连通至一用以收集废液之槽体29a。

因此，于使用该供应设备2时，当该射出成形装置2d供应该成形材至该目标物9中而铸造完成后，该第一模具9a及第二模具9b被打开，待将铸造物取出后，可由该控制座2b之控制装置令该第一供应装置21及第二供应装置22移动(如图3A及图3B所示之移动方向L1,L2)至该箱体中而位于该第一模具9a及第二模具9b之中间位置(如图4所示)，分别朝该第一供应方向F1及第二供应方向F2以喷雾方式将该目标材8喷涂于该第一模具9a及第二模具9b之表面，使该目标材8(如离形剂)于该第一模具9a之喷涂面A(如图4所示)及第二模具9b之喷涂面A(如图4所示)上形成离形层态样，以利于下次铸造所形成之铸造物之脱模作业。

再者，多余之目标材8(如离形剂)会散落至该箱体底部之承接盘28，且该承接盘28藉由该管路280将多余之目标材8导流至该槽体29中，以将多余之目标材8储存于该槽体29中。

综上所述，本实用新型之供应设备2主要藉由该第一挡件24a与第二挡件24b、两侧板27a,27b及墙板27,27’(或第一模具9a与第二模具9b之壁面)形成一半密闭之箱体，以遮挡该第一模具9a之外周面与该第二模具9b之外周面，故相较于习知技术，本实用新型之供应设备2于喷涂该目标材8时，能避免向外扩散喷出之目标材8喷出箱体而污损环境之问题，且完全可以回收废液(如从箱体下方流出之目标材8)，以解决环保问题。

再者，藉由该第一供应装置21之第一供应方向F1系不同于该第二供应装置22之第二供应方向F2之设计，以同时喷涂该目标材8于该第一模具9a及第二模具9b上，因而能大幅缩减喷涂时程，故相较于习知技术，本实用新型之供应设备2有利于缩减该目标物9制作产物之时间，即缩减模铸作业之时间。

又，藉由该复数数组排设之第一喷嘴210与第二喷嘴220之设计，以利于均匀喷涂该目标材8，俾藉由该目标材(离形层)能有效分离该目标物9所制作出之产物。

本实用新型说明如上，然其并非用以限定本实用新型所主张的专利权利范围。凡本领域的技术人员，在不脱离本专利精神或范围内，所作的更动或润饰，均属于本实用新型所揭示精神下所完成的等效改变或设计，且应包含在本实用新型的权利要求内。

Claims (11)

1.一种供应设备，系包括：

遮蔽装置，系包含箱体，其中，该箱体系配置有目标物；

支撑结构；

第一供应装置，系设于该支撑结构上，以将目标材朝第一供应方向喷涂至该目标物上；以及

第二供应装置，系设于该支撑结构上，以将该目标材朝第二供应方向喷涂至该目标物上，且该第一供应装置之第一供应方向系不同于该第二供应装置之第二供应方向，以于该第一供应装置与第二供应装置将该目标材喷涂至该目标物上时，不会将该目标材喷散至该目标物之外面环境。

2.如权利要求1所述之供应设备，复包括设于该支撑结构上之一上下位移装置及一左右位移装置，且该第一供应装置及第二供应装置设置于该上下位移装置之下端，以供该上下位移装置及该左右位移装置驱动该第一供应装置及第二供应装置。

3.如权利要求2所述之供应设备，其中，该遮蔽装置系包含有两挡件，其分别具有一凹槽，以于该两挡件靠紧时，使该两挡件之凹槽形成一容置空间，以令该容置空间容置该上下位移装置及该左右位移装置。

4.如权利要求3所述之供应设备，其中，该遮蔽装置复包含有一用以设置该两挡件之载台，且该载台上系设有一架体及设于该架体上之轨道结构，以令该两挡件设于该轨道结构上，使该两挡件之至少其中一者藉由该轨道结构位移。

5.如权利要求4所述之供应设备，其中，该架体上于对应该两挡件下方处系于该目标物前后方处分别配置有一侧板，以令该侧板与该目标物形成半密闭式箱体。

6.如权利要求5所述之供应设备，其中，该箱体之其中一侧板为活动式，以藉由该侧板拆取该目标物。

7.如权利要求1所述之供应设备，其中，该第一供应装置之第一供应方向系相反于该第二供应装置之第二供应方向，且该第一供应装置与该第二供应装置系配置于该支撑结构之相对两侧。

8.如权利要求1所述之供应设备，其中，该第一供应装置及/或该第二供应装置系具有至少一个喷嘴。

9.如权利要求1所述之供应设备，其中，该第一供应装置及/或该第二供应装置系具有42个喷嘴。

10.如权利要求1所述之供应设备，复包括一操控该遮蔽装置、第一供应装置及第二供应装置运作之控制座。

11.如权利要求1所述之供应设备，其中，该遮蔽装置复包含有至少一用以固设该目标物之墙板，且该墙板系带动该目标物位移。

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