CN2144534Y - 激光气相合成超细粉的装置 - Google Patents
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Abstract
一种激光气相反应合成超细粉的装置,包括有激
光源、反应室、反应气入射口、保护气入射口、粉体收
集器等几部分。其特征是,光路由两对凸透镜与两个
平面全反镜构成“+”字形垂直正交多次共焦光路,反
应气流与光路平面垂直正交。具有光能利用率高、产
率高且产品质量高等特点。
Description
本实用新型涉及激光气相合成技术,具体地说就是提供了一种用于激光气相合成超细粉的装置。
目前,激光气相合成超细粉的装置多如图1所示,在光束与反应气流相互作用相关几何结构上,均采用相互垂直正交,激光束仅一次通过反应区,剩余光束能量由截止器7接收损失了。这种光路光能有效利用率最高为15%,一般在12%左右,大部分光能被截止器吸收消耗了,利用率太低。众所周知,获得高功率激光的成本是比较高的,因此如何提高光能有效利用是激光气相合成反应,特别是合成超细粉提高产率和降低成本的关键。
本实用新型的目的是提供一种光能利用率高,产率高的激光气相合成超细粉的装置。
本发明提供的激光气相反应合成超细粉的装置,包括有激光源1、反应室2、反应气入射口3、保护气入射口4、粉体收集器5等几部分,其特征在于,如图2由两对凸透镜与两个平面全反镜构成“+”字形垂直正交多次共焦光路,激光源1发射出的激光束通过凸透镜A聚焦于P后进入与之共焦的透镜B恢复为平行光,再经平面反射镜A′、B′的二次反射进入到透镜C,聚焦于共焦点P后再经透镜D变为平行光,由D出来的光束到达平反镜C′或者截止器,其焦点P在反应气入射口3上方,反应气流与光路焦平面垂直正交。透镜C与平反镜B′之间,透镜D与平反镜C′之间可以加有光栅6,保护气入射口4设置在透镜的内表面附近,平面镜的背面可有水冷装置。光束反复通过P反应区后,光能基本消耗利用了,光能利用率提高4倍,产率也提高3倍以上,特别是由于光束相互垂直正交地通过反应区,至使反应区的边界条件变好,产品的质量大大提高,下面通过实施例详细叙述本实用新型。
附图1为日本特许昭和62-11546提供的一种激光气相合成超细粉装置图;
附图2为本实用新型提供的激光气相合成装置光路部分的示意图。
实施例:
1、透镜 焦距fA=500
2、透镜 焦距均为fB=fg=fD=400
3、透镜 外径:φ50,光通径φ≤40材料可为GaAs,ZnSn,NaCl,镀增透膜,透过率>97%,侧面水冷,通Ar保护防止生成物沾污;
4、全反镜A′、B′、C′外径:φ60,α1、α2调整~45°,材料:铜镀金,钼合金,GaAs镀全反膜,背面水冷;
5、光栏通径φ40以下可调,紫铜水冷;
6、上述“+”字共焦实施光路系统,采用CO2激光束可以气相合成Sl3N4,SlC,B4C,Sl,Fe-Sl-C等超细粉,提高光能利用率和产率。
以合成超细Sl3N4粉为例,反应参数,产率及光能利用率见表。
光路系统类型 输入激 反应气 SiH4 NH3 反应箱 粉直径 产率 光能利
光功率 咀直径 流量 流量 压力 用率
CO2W mm cc/min cc/min KPa (nm) g/h %
“+”共焦 800-100 φ5.5 800 5600 103 20-30 100 70
光路
现有单次聚 800-100 φ4 260 1680 103 20-30 30 13
焦光路
Claims (5)
1、一种激光气相反应合成超细粉的装置,包括有激光源、反应室、反应气入射口、保护气入射口、粉体收集器等几部分,其特征如下:
(1)由两对凸透镜与两个平面全反镜构成“+”字形垂直正交多次共焦光路:
由激光源发射出的激光束通过凸透镜A聚焦于P后进入与之共焦的透镜B恢复为平行光,再经平面反射镜A′、B′的二次反射进入到透镜C,聚焦于共焦点P后再经透镜D变为平行光;
(2)由D出来的光束到达平反镜C′或者截止器;
(3)共焦点P在反应气入射口上方;
(4)反应气流与光路焦平面垂直正交。
2、按权利要求1所述激光气相合成装置,其特征在于:透镜C与平反镜B之间、透镜D与平反镜C之间可以加有光栅。
3、按权利要求1、2所述激光气相合成装置,其特征在于所述保护气入口在透镜的内表面附近。
4、按权利要求1、2所述激光气相合成装置,其特征在于所述平反镜的背面有水冷装置。
5、按权利要求3所述激光气相合成装置,其特征在于所述平反镜的背面有水冷装置。
Priority Applications (1)
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CN 92242813 CN2144534Y (zh) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 激光气相合成超细粉的装置 |
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CN 92242813 CN2144534Y (zh) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 激光气相合成超细粉的装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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CN2144534Y true CN2144534Y (zh) | 1993-10-27 |
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ID=33782538
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN 92242813 Expired - Fee Related CN2144534Y (zh) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 激光气相合成超细粉的装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN2144534Y (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1037427C (zh) * | 1994-08-15 | 1998-02-18 | 中国科学院金属研究所 | 激光气相合成氮化铁超细粉的方法 |
CN1090992C (zh) * | 1998-03-10 | 2002-09-18 | 中国科学院金属研究所 | 一种激光气相合成纳米粉反应装置 |
CN104516082B (zh) * | 2013-09-30 | 2017-03-29 | 睿励科学仪器(上海)有限公司 | 一种镜头组安装组件以及具有该组件的光学测量系统 |
-
1992
- 1992-12-25 CN CN 92242813 patent/CN2144534Y/zh not_active Expired - Fee Related
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CN1037427C (zh) * | 1994-08-15 | 1998-02-18 | 中国科学院金属研究所 | 激光气相合成氮化铁超细粉的方法 |
CN1090992C (zh) * | 1998-03-10 | 2002-09-18 | 中国科学院金属研究所 | 一种激光气相合成纳米粉反应装置 |
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GR01 | Patent grant | ||
C15 | Extension of patent right duration from 15 to 20 years for appl. with date before 31.12.1992 and still valid on 11.12.2001 (patent law change 1993) | ||
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