CN214422742U - 一种镀膜设备的旋转机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及光学成膜技术领域，尤其是一种镀膜设备的旋转机构，其特征在于：该旋转机构包括公转旋转机构以及自转旋转机构，所述公转旋转机构的驱动机构与所述自转旋转机构的驱动机构相独立，所述公转旋转机构连接所述基板架并可驱动所述基板架公转，所述自转旋转机构连接所述基板盘并可驱动所述基板盘自转。本实用新型的优点是：具有单独公转、单独自转、公自转相结合的三种工作模式，应用范围广，可适应于不同成膜工艺的需要；结构简单合理，适应于自动化控制，适于推广。

Description

一种镀膜设备的旋转机构

技术领域

本实用新型涉及光学成膜技术领域，尤其是一种镀膜设备的旋转机构。

背景技术

随着成膜技术的发展，对于镀膜设备的要求也越来越高，一方面是对成膜质量的要求的提高，另一方面需要使镀膜设备可对应生产不同类型的镀膜产品。然而，目前的镀膜设备的功能较为单一，例如为了提高成膜均匀性，常常通过配置可带动待成膜产品转动的基板架来实现，使待成膜产品在镀膜设备的成膜室内旋转，包括公转和自转，从而提高成膜均匀性。但该类镀膜设备的应用场合较为单一，当有些镀膜产品无需公转、自转的组合式旋转成膜时，只能通过另外配置单一自转或单一公转的镀膜设备来应对成膜工艺的需要，造成设备的浪费。

发明内容

本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种镀膜设备的旋转机构，通过公转旋转机构和自转旋转机构的独立配置，实现公转、自转以及公自转这三种工作状态之间的切换，有效提高镀膜设备的适应性。

本实用新型目的实现由以下技术方案完成：

一种镀膜设备的旋转机构，该镀膜设备包括基板架和基板盘，其中所述基板盘用于搭载待成膜产品，所述基板架用于悬挂安装所述基板盘，其特征在于：该旋转机构包括公转旋转机构以及自转旋转机构，所述公转旋转机构的驱动机构与所述自转旋转机构的驱动机构相独立，所述公转旋转机构连接所述基板架并可驱动所述基板架公转，所述自转旋转机构连接所述基板盘并可驱动所述基板盘自转。

所述公转旋转机构包括公转马达、皮带轮机构、由若干齿轮相啮合构成的传动齿轮组以及转动轴构成，其中所述公转马达通过所述皮带轮机构与所述传动齿轮组的传动始端相连接，所述传动齿轮组的传动终端连接所述转动轴，所述转动轴与所述基板架固定连接，所述公转马达可驱动所述基板架公转。

所述自转旋转机构包括自转马达、皮带轮机构、由若干齿轮相啮合构成的传动齿轮组以及连接杆，所述自转马达通过所述皮带轮机构与所述传动齿轮组的传动始端相连接，所述传动齿轮组的传动终端连接所述连接杆，所述连接杆与所述基板盘固定连接，所述自转马达可驱动所述基板盘自转。

所述传动齿轮组与所述基板盘之间设置有两端所述连接杆，两端所述连接杆之间铰接。

所述基板架上均匀对称悬挂安装有若干所述基板盘。

所述基板架和所述基板盘分别连接有位置检测装置。

本实用新型的优点是：具有单独公转、单独自转、公自转相结合的三种工作模式，应用范围广，可适应于不同成膜工艺的需要；结构简单合理，适应于自动化控制，适于推广。

附图说明

图1为本实用新型的俯视图；

图2为本实用新型的结构示意图；

图3为本实用新型的使用状态示意图。

具体实施方式

以下结合附图通过实施例对本实用新型特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：

如图1-3所示，图中标记1-19分别表示为：自转马达1、公转马达2、皮带轮组件3、皮带轮组件4、连接杆5、小齿轮6、中间齿轮7、连接法兰8、中心齿轮9、惰轮10、齿轮11、连接杆12、连接杆13、连接杆14、小齿轮15、中间齿轮16、转动轴17、基板架18、基板盘19。

实施例：如图1和图2所示，本实施例中镀膜设备的旋转机构用于实现基板架18的公转以及基板盘19的自转，同时还可实现两者同时进行的公自转。

具体而言，如图1和图2所示，本实施例中的旋转机构包括公转旋转机构以及自转旋转机构，其中公转旋转机构用于实现基板架18的公转，而自转旋转机构则用于实现基板盘19的自转。

如图1和图2所示，公转旋转机构采用公转马达2为原动件，公转马达2的输出端与皮带轮组件3的动力输入端连接，皮带轮组件3的动力输出端与连接杆14的一端连接，连接杆14的另一端与小齿轮15连接，小齿轮15与中间齿轮16啮合，中间齿轮16与转动轴17的一端连接固定，转动轴17的另一端与基板架18连接固定，从而实现公转马达2驱动基板架18公转。

自转旋转机构采用自转马达1作为原动件，自转马达1的输出端与皮带轮组件4的动力输入端连接，皮带轮组件4的动力输出端与连接杆5的一端连接，连接杆5的另一端与小齿轮6连接，小齿轮6与中间齿轮7啮合，中间齿轮7通过连接法兰8与中心齿轮9连接，中心齿轮9通过惰轮10与齿轮11啮合，惰轮10用于改变旋转方向，齿轮11通过连接杆12以及连接杆13与基板盘19连接固定，从而实现自转马达1驱动基板盘19自转。

在本实施例中，如图1所示，连接杆12和连接杆13可设为铰接，从而使连接杆12和连接杆13之间可产生相对旋转，从而改变与连接杆13所连接的基板盘19的倾斜角度，进而适应于不同成膜工艺的需要。

如图3所示，本实施例中在基板架18的下方设置有三个基板盘19，这三个基板盘19沿基板架18的圆周方向对称布置，以提高产能。

本实施例在具体实施时：本实施例中作为自转旋转机构驱动机构的自转马达1和作为公转旋转机构驱动机构的公转马达2相互独立，使本实施例可具有自转、公转以及自转、公转相结合的三种工作模式，可实现应对不同的需要，具体如下：

1）自转：自转马达1动力驱动，齿轮传动，基板盘19自转。

使用情景：现状成膜使用状态；同时可实现机械手（含定位功能）/人工便捷操作。

2）公转：公转马达2动力驱动，齿轮传动，基板架18公转。

使用情景：取盘方便性及自动化而设计。当基板架18公转时，可带动基板盘19到腔室门口，可实现机械手（含定位功能）/人工便捷操作。

3）自转/公转结合：自转马达1和公转马达2同时驱动。

使用情景：游星结构公自转成膜，可提高成膜质量，同时降低成本并提高利用率等。

本实施例中的基板架18和基板盘19可分别连接有位置检测装置，位置检测装置用于检测基板架18和基板盘19的当前位置，以应对复位、调整等需要。

虽然以上实施例已经参照附图对本实用新型目的的构思和实施例做了详细说明，但本领域普通技术人员可以认识到，在没有脱离权利要求限定范围的前提条件下，仍然可以对本实用新型作出各种改进和变换，故在此不一一赘述。

Claims (6)

1.一种镀膜设备的旋转机构，该镀膜设备包括基板架和基板盘，其中所述基板盘用于搭载待成膜产品，所述基板架用于悬挂安装所述基板盘，其特征在于：该旋转机构包括公转旋转机构以及自转旋转机构，所述公转旋转机构的驱动机构与所述自转旋转机构的驱动机构相独立，所述公转旋转机构连接所述基板架并可驱动所述基板架公转，所述自转旋转机构连接所述基板盘并可驱动所述基板盘自转。

2.根据权利要求1所述的一种镀膜设备的旋转机构，其特征在于：所述公转旋转机构包括公转马达、皮带轮机构、由若干齿轮相啮合构成的传动齿轮组以及转动轴构成，其中所述公转马达通过所述皮带轮机构与所述传动齿轮组的传动始端相连接，所述传动齿轮组的传动终端连接所述转动轴，所述转动轴与所述基板架固定连接，所述公转马达可驱动所述基板架公转。

3.根据权利要求1所述的一种镀膜设备的旋转机构，其特征在于：所述自转旋转机构包括自转马达、皮带轮机构、由若干齿轮相啮合构成的传动齿轮组以及连接杆，所述自转马达通过所述皮带轮机构与所述传动齿轮组的传动始端相连接，所述传动齿轮组的传动终端连接所述连接杆，所述连接杆与所述基板盘固定连接，所述自转马达可驱动所述基板盘自转。

4.根据权利要求3所述的一种镀膜设备的旋转机构，其特征在于：所述传动齿轮组与所述基板盘之间设置有两端所述连接杆，两端所述连接杆之间铰接。

5.根据权利要求1所述的一种镀膜设备的旋转机构，其特征在于：所述基板架上均匀对称悬挂安装有若干所述基板盘。

6.根据权利要求1所述的一种镀膜设备的旋转机构，其特征在于：所述基板架和所述基板盘分别连接有位置检测装置。

Images