CN214361681U - 一种化学气相沉积设备用气体分散装置 - Google Patents

Abstract

一种化学气相沉积设备用气体分散装置，包括底座、布气盘；所述底座底面封闭、顶端敞口；所述底座的底面中心位置设有通孔作为进气口；所述布气盘为盘状；所述布气盘均匀设置有若干个通孔作为出气口，所述通孔的孔径由布气盘的中心向边缘逐渐增大，所述布气盘安装在底座的内腔内。当化学气相沉积设备内前驱体气流较大时，使用本实用新型，布气盘离中心较远处通孔孔径更大，以使离中心较远处有更多气流通过，使进入化学气相沉积室内的气流相对均匀，从而解决沉积室距中心线较近位置涂层厚度较厚，而距离沉积室中心线较远处涂层沉积厚度较薄的问题。

Description

一种化学气相沉积设备用气体分散装置

技术领域

本实用新型属于化学气相沉积设备领域，具体涉及一种化学气相沉积设备用气体分散装置。

背景技术

化学气相沉积过程中沉积设备往往需要在高温下进行，如化学气相沉积碳化硅涂层温度一般在1100-1500℃，工业化生产需要考虑生产成本，快速沉积工艺在不断发展。化学气相沉积过程对反应气体及先驱体的均匀程度要求很高，混合气体的均匀性直接影响涂层的质量。快速沉积碳化硅涂层时，由于反应气体通入量过大，导致气体经过布气盘时不能充分分散，从而使得沉积室距中心线较近位置涂层厚度较厚，而距离沉积室中心线较远处涂层沉积厚度较薄。

发明内容

针对上述沉积室气流不均匀问题，本实用新型提供了一种化学气相沉积设备用气体分散装置。

一种化学气相沉积设备用气体分散装置，包括底座、布气盘；所述底座底面封闭、顶端敞口；所述底座的底面中心位置设有通孔作为进气口；所述布气盘为盘状；所述布气盘均匀设置有若干个通孔作为出气口，所述通孔的孔径由布气盘的中心向边缘逐渐增大，所述布气盘放置在底座的内腔内。

进一步，所述底座的底面为圆形，所述布气盘为圆盘状。

进一步，所述底座的内腔的直径等于布气盘的直径。

进一步，所述布气盘的底部设有支架，将布气盘放置在底座内，所述布气盘的支架放置在底座的底面上，支架支撑布气盘。

进一步，所述底座的内壁面为台阶状，即下部分内腔的直径小于上部分内腔的直径，所述布气盘的直径大于下部分内腔的直径，所述布气盘的直径等于上部分内腔的直径，所述布气盘放置在台阶上。

进一步，所述底座的顶端与布气盘的上表面平齐。

进一步，所述底座的壁面均匀分散地设有若干个第一开口，所述第一开口贯通壁面，第一开口开至壁面的顶端，所述第一开口的底端应低于布气盘在底座的内腔的放置高度。

进一步，所述底座的壁面均匀分散地设有若干个第二开口，所述第二开口为内壁面设有凹槽，第二开口不贯穿壁面，第二开口开至壁面的顶端。

有益效果：

当化学气相沉积设备内前驱体气流较大时，使用本实用新型，布气盘离中心较远处通孔孔径更大，以使离中心较远处有更多气流通过，使进入化学气相沉积室内的气流相对均匀，从而解决沉积室距中心线较近位置涂层厚度较厚，而距离沉积室中心线较远处涂层沉积厚度较薄的问题。

附图说明

图1是本实用新型实施例1的结构示意图；

图2是本实用新型实施例1的拆分结构示意图；

图3是本实用新型实施例2的底座结构示意图；

图4是本实用新型实施例2的布气盘结构示意图；

图5是本实用新型实施例2的结构示意图；

其中：1、底座；2、布气盘；3、进气口；4、内壁面；5、台阶；6、出气口；7、第一开口；8、支架；9、第二开口。

具体实施方式

以下结合具体实施例，对本实用新型做进一步说明。应理解，以下实施例仅用于说明本实用新型而非用于限制本实用新型的范围。

实施例1：

如图1-2所示，一种化学气相沉积设备用气体分散装置，包括底座1、布气盘2；所述底座1底面封闭、顶端敞口；所述底座1的底面为圆形；所述底座1的底面中心位置设有通孔作为进气口3；所述布气盘2为圆盘状；所述布气盘2均匀设置有若干个通孔作为出气口6，所述通孔的孔径由布气盘2的中心向边缘逐渐增大，所述布气盘2放置在底座1的内腔内，所述底座1的内腔的直径等于布气盘2的直径。

所述底座1的内壁面4为台阶5状，即下部分内腔的直径小于上部分内腔的直径，所述布气盘2的直径大于下部分内腔的直径，所述布气盘2的直径等于上部分内腔的直径，所述布气盘2放置在台阶5上。

所述底座1的顶端与布气盘2的上表面平齐。

所述底座1的壁面均匀分散地设有若干个第一开口7，所述第一开口7贯通壁面，第一开口7开至壁面的顶端，所述第一开口7的底端应低于布气盘2在底座1的内腔的放置高度。

工作过程：

前驱体气流从底座1底面中心的进气口3进入气体分散装置，从布气盘2的出气口6流出进入化学气相沉积室内，当化学气相沉积设备内前驱体气流较大时，布气盘2离中心较远处通孔孔径更大，以使离中心较远处有更多气流通过，从而使进入化学气相沉积室的气流相对均匀。待沉积结束后，从化学气相沉积室中取出气体分散装置，使用螺丝刀等工具从底座1的壁面上的第一开口7插入，施加外力取出在底座1的内腔里放置的布气盘2。

实施例2：

如图3-5所示，与实施例1的不同之处在于：底座1的内壁面4不是台阶5状，底座1的内腔的直径等于布气盘2的直径，布气盘2的底部设有支架8，将布气盘2放置在底座1内，所述布气盘2的支架8放置在底座1的底面上，支架8支撑布气盘2，所述底座1的壁面均匀分散地设有若干个第二开口9，所述第二开口9为内壁面设有凹槽，第二开口9不贯穿壁面，第二开口9开至壁面的顶端，其他同实施例1。

使用本实施例所述的装置时，待沉积结束后，从化学气相沉积室中取出气体分散装置，使用夹子从第二开口9插入，将布气盘2夹出，或使用螺丝刀等工具从底座1的内壁面插入，撬出布气盘2。

Claims (8)

1.一种化学气相沉积设备用气体分散装置，其特征在于：包括底座、布气盘；所述底座底面封闭、顶端敞口；所述底座的底面中心位置设有通孔作为进气口；所述布气盘为盘状；所述布气盘均匀设置有若干个通孔作为出气口，所述通孔的孔径由布气盘的中心向边缘逐渐增大，所述布气盘放置在底座的内腔内。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备用气体分散装置，其特征在于：所述底座的底面为圆形，所述布气盘为圆盘状。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备用气体分散装置，其特征在于：所述底座的内壁面为台阶状，即下部分内腔的直径小于上部分内腔的直径，所述布气盘的直径大于下部分内腔的直径，所述布气盘的直径等于上部分内腔的直径，所述布气盘放置在台阶上。

4.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备用气体分散装置，其特征在于：所述底座的内腔的直径等于布气盘的直径。

5.根据权利要求4所述的化学气相沉积设备用气体分散装置，其特征在于：所述布气盘的底部设有支架，将布气盘放置在底座内，所述布气盘的支架放置在底座的底面上，支架支撑布气盘。

6.根据权利要求1-5任一项所述的化学气相沉积设备用气体分散装置，其特征在于：所述底座的顶端与布气盘的上表面平齐。

7.根据权利要求1-5任一项所述的化学气相沉积设备用气体分散装置，其特征在于：所述底座的壁面均匀分散地设有若干个第一开口，所述第一开口贯通壁面，第一开口开至壁面的顶端，所述第一开口的底端应低于布气盘在底座的内腔的放置高度。

8.根据权利要求1-5任一项所述的化学气相沉积设备用气体分散装置，其特征在于：所述底座的壁面均匀分散地设有若干个第二开口，所述第二开口为内壁面设有凹槽，第二开口不贯穿壁面，第二开口开至壁面的顶端。

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