CN214321145U - 一种硅片超声波清洗机用密封结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种硅片超声波清洗机用密封结构,包括超声波清洗机本体和清洗槽,所述清洗槽的底端固定连接出水管,出水管与清洗槽的连接处开设有卡槽,卡槽的内壁开设有环状的限位槽,所述出水管内插装有密封塞,本实用新型中,出水管内的密封塞通过凸起与限位槽连接,拉动拉手即可将密封塞取出,本结构的设计,使得密封塞连接的更加紧密,提高密封效果,使用时,将硅片放在挂篮中,启动电机带动齿轮转动,带动齿条沿着通孔向下运动,使得升降架和挂篮向下运动进入清洗槽中,同时滑杆沿着支架滑动,使得升降架和挂篮移动的更加稳定,本结构的设计,便于硅片清洗使用,无需人工将硅片放入清洗槽中,操作方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及超声波清洗机技术领域,具体是一种硅片超声波清洗机用密封结构。
背景技术
超声波清洗机广泛应用于表面喷涂处理行业、机械行业、电子行业、医疗行业、半导体行业、钟表首饰行业、光学行业、纺织印染行业。其他行业等,超声波清洗机运用具体如下:表面喷涂处理行业:(清洗的附着物:油、机械切屑、磨料、尘埃、抛光蜡)电镀前的清除积炭、清除氧化皮、清除抛光膏、除油除锈、离子镀前清洗、磷化处理,金属工件表面活化处理等。不锈钢抛光制品、不锈钢刀具、餐具、刀具、锁具、灯饰、手饰的喷涂前处理、电镀前清洗。
现有的硅片超声波清洗机使用时,需要人工将硅片放入清洗槽中,再人工取出,工作人员手接触清洗液,极为不便。因此,本实用新型提供了一种硅片超声波清洗机用密封结构,以解决上述背景技术中提出的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种硅片超声波清洗机用密封结构,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种硅片超声波清洗机用密封结构,包括超声波清洗机本体和清洗槽,所述清洗槽的底端固定连接出水管,出水管与清洗槽的连接处开设有卡槽,卡槽的内壁开设有环状的限位槽,所述出水管内插装有密封塞,密封塞上部外缘对应卡槽设有环状的凸起,密封塞的顶端设有拉手。
作为本实用新型进一步的方案,所述超声波清洗机本体的上端安装有支架,超声波清洗机本体的上方设有挂篮,挂篮顶部的外缘设有环状的凸环,挂篮上部套装有固定环。
作为本实用新型再进一步的方案,所述固定环的两端固定连接升降架,升降架的两端固定连接滑杆,滑杆贯穿支架,且滑杆滑动连接支架。
作为本实用新型再进一步的方案,所述所述升降架的中部固定连接齿条,齿条贯穿支架,且支架对应齿条开设有通孔。
作为本实用新型再进一步的方案,所述齿条啮合齿轮,齿轮连接电机。
作为本实用新型再进一步的方案,所述固定环的侧壁开设有螺纹孔,螺纹孔内安装有锁紧螺栓,锁紧螺栓位于固定环内部的一端固定连接压板。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型中,出水管内的密封塞通过凸起与限位槽连接,拉动拉手即可将密封塞取出,本结构的设计,使得密封塞连接的更加紧密,提高密封效果。
2、使用时,将硅片放在挂篮中,启动电机带动齿轮转动,带动齿条沿着通孔向下运动,使得升降架和挂篮向下运动进入清洗槽中,同时滑杆沿着支架滑动,使得升降架和挂篮移动的更加稳定,本结构的设计,便于硅片清洗使用,无需人工将硅片放入清洗槽中,操作方便。
附图说明
图1为一种硅片超声波清洗机用密封结构的结构示意图。
图2为一种硅片超声波清洗机用密封结构中图1A处的结构放大示意图。
图3为一种硅片超声波清洗机用密封结构中图1B处的结构放大示意图。
图中:1-超声波清洗机本体,2-清洗槽,3-支架,301-通孔,4-挂篮,5-固定环,501-螺纹孔,6-升降架,7-滑杆,8-齿条,9-齿轮,10-电机,11-出水管,12-卡槽,13-限位槽,14-密封塞,15-凸起,16-拉手,17-锁紧螺栓,18-压板。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1,本实用新型实施例中,一种硅片超声波清洗机用密封结构,包括超声波清洗机本体1和清洗槽2,所述超声波清洗机本体1的上端安装有支架3,超声波清洗机本体1的上方设有挂篮4,挂篮4顶部的外缘设有环状的凸环,挂篮4上部套装有固定环5,固定环5的两端固定连接升降架6,升降架6的两端固定连接滑杆7,滑杆7贯穿支架3,且滑杆7滑动连接支架3,所述升降架6的中部固定连接齿条8,齿条8贯穿支架3,且支架3对应齿条8开设有通孔301,齿条8啮合齿轮9,齿轮9连接电机10。
请参阅图2,所述清洗槽2的底端固定连接出水管11,出水管11与清洗槽2的连接处开设有卡槽12,卡槽12的内壁开设有环状的限位槽13,所述出水管11内插装有密封塞14,密封塞14上部外缘对应卡槽12设有环状的凸起15,密封塞14的顶端设有拉手16。
请参阅图3,所述固定环5的侧壁开设有螺纹孔501,螺纹孔501内安装有锁紧螺栓17,锁紧螺栓17位于固定环5内部的一端固定连接压板18。
本实用新型的工作原理是:
使用时,将硅片放在挂篮4中,启动电机10带动齿轮9转动,带动齿条8沿着通孔301向下运动,使得升降架6和挂篮4向下运动进入清洗槽2中,同时滑杆7沿着支架3滑动,使得升降架6和挂篮4移动的更加稳定,本结构的设计,便于硅片清洗使用,无需人工将硅片放入清洗槽2中,操作方便,出水管11内的密封塞14通过凸起15与限位槽13连接,拉动拉手16即可将密封塞14取出,本结构的设计,使得密封塞14连接的更加紧密,提高密封效果。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种硅片超声波清洗机用密封结构,包括超声波清洗机本体(1)和清洗槽(2),其特征在于,所述清洗槽(2)的底端固定连接出水管(11),出水管(11)与清洗槽(2)的连接处开设有卡槽(12),卡槽(12)的内壁开设有环状的限位槽(13),所述出水管(11)内插装有密封塞(14),密封塞(14)上部外缘对应卡槽(12)设有环状的凸起(15),密封塞(14)的顶端设有拉手(16)。
2.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗机用密封结构,其特征在于,所述超声波清洗机本体(1)的上端安装有支架(3),超声波清洗机本体(1)的上方设有挂篮(4),挂篮(4)顶部的外缘设有环状的凸环,挂篮(4)上部套装有固定环(5)。
3.根据权利要求2所述的一种硅片超声波清洗机用密封结构,其特征在于,所述固定环(5)的两端固定连接升降架(6),升降架(6)的两端固定连接滑杆(7),滑杆(7)贯穿支架(3),且滑杆(7)滑动连接支架(3)。
4.根据权利要求3所述的一种硅片超声波清洗机用密封结构,其特征在于,所述升降架(6)的中部固定连接齿条(8),齿条(8)贯穿支架(3),且支架(3)对应齿条(8)开设有通孔(301)。
5.根据权利要求4所述的一种硅片超声波清洗机用密封结构,其特征在于,所述齿条(8)啮合齿轮(9),齿轮(9)连接电机(10)。
6.根据权利要求2所述的一种硅片超声波清洗机用密封结构,其特征在于,所述固定环(5)的侧壁开设有螺纹孔(501),螺纹孔(501)内安装有锁紧螺栓(17),锁紧螺栓(17)位于固定环(5)内部的一端固定连接压板(18)。
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CN116062440A (zh) * | 2022-12-19 | 2023-05-05 | 苏州赛森电子科技有限公司 | 一种上料机构及硅片清洗机 |
WO2023241728A1 (en) * | 2022-06-13 | 2023-12-21 | Tcl Zhonghuan Renewable Energy Technology Co., Ltd. | All-in-one wafer cleaning machine for monocrystalline silicon production |
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2021
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