CN214261847U - 一种含铜氢氧化镍处理用反应釜 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及反应设备技术领域，尤其是一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，包括反应釜本体，上盖的上端连接有固定架，固定架的上端连接有搅拌机构，搅拌机构贯穿固定架，搅拌机构的底端延伸至反应釜本体内，搅拌机构的底端两侧均连接有固定杆，每个固定杆的一端均连接有刮板，每个刮板均与反应釜本体相配合，每个刮板的两侧均连接有凸起，每个凸起上均开设有若干个第二通孔，每个凸起的底端均开设有凹槽，每个凹槽均连通第二通孔。本实用新型通过刮板在转动过程中，第一通孔减小刮板所受到的阻力，同时水流进入第二通孔从凹槽处释放，对刮板底端边缘进行冲击，使得沉淀不会粘结在刮板上。

Description

一种含铜氢氧化镍处理用反应釜

技术领域

本实用新型涉及反应设备技术领域，尤其涉及一种含铜氢氧化镍处理用反应釜。

背景技术

铜氢氧化镍溶液中含有镍，为了节省原料，通常采用沉淀析出的方法将镍析出，在通过加入浓硫酸将镍析出时，产生的沉淀容易粘结在反应釜的底端，在通过刮板进行刮擦时，沉淀会粘结在刮板上，无法有效的将沉淀排出。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的刮板进行刮擦时，沉淀会粘结在刮板上，无法有效的将沉淀排出缺点，而提出的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

设计一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，包括反应釜本体，所述反应釜本体的底端连接有若干个支撑脚，所述反应釜本体的底端开设有放料口，所述放料口上连接有阀门，所述反应釜本体的上端连接有上盖，所述上盖的上端一侧连通有进料口，所述上盖的上端另一侧连通有试剂进口，所述上盖的上端连接有固定架，所述固定架的上端连接有搅拌机构，所述搅拌机构贯穿所述固定架，所述搅拌机构的底端延伸至所述反应釜本体内，所述搅拌机构的底端两侧均连接有固定杆，每个所述固定杆的一端均连接有刮板，每个所述刮板均与所述反应釜本体相配合，每个所述刮板的两侧均连接有凸起，每个所述凸起上均开设有若干个第二通孔，每个所述凸起的底端均开设有凹槽，每个所述凹槽均连通所述第二通孔。

优选的，所述搅拌机构包括电机，所述电机连接所述固定架，所述电机的输出端驱动连接有转轴，所述转轴贯穿所述固定架，所述转轴的一端延伸至所述反应釜本体内，所述转轴的一端连接有转动辊，所述转动辊的相对两侧均连接有搅拌叶，所述转动辊的底端两侧均连接所述固定杆。

优选的，每个所述刮板上均开设有若干个第一通孔。

优选的，所述刮板与所述凸起为一体结构。

优选的，所述第二通孔等间距分布。

本实用新型提出的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，有益效果在于：

通过固定杆带动刮板转动，刮板转动后对反应釜本体的底端进行刮擦，使得沉淀不会粘结在反应釜本体上，刮板在转动过程中，第一通孔减小刮板所受到的阻力，同时水流进入第二通孔从凹槽处释放，对刮板底端边缘进行冲击，使得沉淀不会粘结在刮板上。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜的剖视结构示意图；

图3为本实用新型提出的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜中刮板的结构示意图。

图中：反应釜本体1、支撑脚2、放料口3、阀门4、上盖5、进料口6、试剂进口7、固定架8、电机9、转轴10、转动辊11、搅拌叶12、固定杆13、刮板14、第一通孔15、凸起16、第二通孔17、凹槽18。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

实施例1

参照图1-3，一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，包括反应釜本体 1，反应釜本体1的底端连接有若干个支撑脚2，支撑脚2用于支撑反应釜本体1，反应釜本体1的底端开设有放料口3，放料口3上连接有阀门4，反应釜本体1的上端连接有上盖5，上盖5的上端一侧连通有进料口6，进料口6便于将氢氧化镍与水倒入反应釜本体1内，上盖5的上端另一侧连通有试剂进口7，试剂进口7便于加入浓硫酸。

上盖5的上端连接有固定架8，固定架8的上端连接有搅拌机构，搅拌机构贯穿固定架8，搅拌机构的底端延伸至反应釜本体1内，搅拌机构的底端两侧均连接有固定杆13，每个固定杆13的一端均连接有刮板14，每个刮板14均与反应釜本体1相配合，每个刮板14上均开设有若干个第一通孔15，每个刮板14的两侧均连接有凸起16，刮板14与凸起16为一体结构，每个凸起16上均开设有若干个第二通孔17，第二通孔17等间距分布，每个凸起16的底端均开设有凹槽18，每个凹槽18均连通第二通孔17，搅拌机构启动后对反应釜本体1内的氢氧化镍与浓硫酸进行搅拌，反应后生成沉淀，搅拌机构还带动固定杆13转动，固定杆13带动刮板14转动，刮板14转动后对反应釜本体1的底端进行刮擦，使得沉淀不会粘结在反应釜本体1上，刮板14在转动过程中，第一通孔15减小刮板14所受到的阻力，同时水流进入第二通孔17从凹槽18处释放，对刮板14底端边缘进行冲击，使得沉淀不会粘结在刮板14上。

实施例2

参照图1-3，作为本实用新型的另一优选实施例，与实施例1的区别在于搅拌机构包括电机9，电机9连接固定架8，电机9的输出端驱动连接有转轴10，转轴10贯穿固定架8，转轴10的一端延伸至反应釜本体1内，转轴10的一端连接有转动辊11，转动辊11的相对两侧均连接有搅拌叶12，转动辊11的底端两侧均连接固定杆13，电机9通电启动后带动转轴10转动，转轴10带动转动辊11转动，转动辊11带动搅拌叶12转动，搅拌叶12对反应釜本体1内的原料进行搅拌。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，包括反应釜本体(1)，所述反应釜本体(1)的底端连接有若干个支撑脚(2)，所述反应釜本体(1)的底端开设有放料口(3)，所述放料口(3)上连接有阀门(4)，其特征在于，所述反应釜本体(1)的上端连接有上盖(5)，所述上盖(5)的上端一侧连通有进料口(6)，所述上盖(5)的上端另一侧连通有试剂进口(7)，所述上盖(5)的上端连接有固定架(8)，所述固定架(8)的上端连接有搅拌机构，所述搅拌机构贯穿所述固定架(8)，所述搅拌机构的底端延伸至所述反应釜本体(1)内，所述搅拌机构的底端两侧均连接有固定杆(13)，每个所述固定杆(13)的一端均连接有刮板(14)，每个所述刮板(14)均与所述反应釜本体(1)相配合，每个所述刮板(14)的两侧均连接有凸起(16)，每个所述凸起(16)上均开设有若干个第二通孔(17)，每个所述凸起(16)的底端均开设有凹槽(18)，每个所述凹槽(18)均连通所述第二通孔(17)。

2.根据权利要求1所述的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，其特征在于，所述搅拌机构包括电机(9)，所述电机(9)连接所述固定架(8)，所述电机(9)的输出端驱动连接有转轴(10)，所述转轴(10)贯穿所述固定架(8)，所述转轴(10)的一端延伸至所述反应釜本体(1)内，所述转轴(10)的一端连接有转动辊(11)，所述转动辊(11)的相对两侧均连接有搅拌叶(12)，所述转动辊(11)的底端两侧均连接所述固定杆(13)。

3.根据权利要求1所述的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，其特征在于，每个所述刮板(14)上均开设有若干个第一通孔(15)。

4.根据权利要求1所述的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，其特征在于，所述刮板(14)与所述凸起(16)为一体结构。

5.根据权利要求1所述的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，其特征在于，所述第二通孔(17)等间距分布。

Images