CN214020688U - 一种冷氢化流化床反应器气体分布器 - Google Patents
一种冷氢化流化床反应器气体分布器 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开了一种冷氢化流化床反应器气体分布器,涉及到气体分布器技术领域。本实用新型包括反应器、第一分布板、第二分布板和喷头:反应器内设有卡槽;卡槽内自上而下依次布设有第二分布板和第一分布板;反应器底部布设有垫板;垫板内布设有管道一和管道二;管道一和管道二下方还连通有进风管;进风管端部延伸至反应器外;管道一和管道二上方还连通有喷头;喷头包括盖板、外管道和伸缩杆;外管道布设在管道一和管道二上方;外管道上安装有罩板;外管道内还布设有伸缩杆;伸缩杆上方布设有盖板。本实用新型提出的一种冷氢化流化床反应器气体分布器,其气体分布均匀,流动平缓,产品利用率高,可改善反应器底部出现沉积的现象。
Description
技术领域
本实用新型属于气体分布器技术领域,具体涉及一种冷氢化流化床反应器气体分布器。
背景技术
气体气体分布器是一种非常重要的设备内构件。气体分布器被广泛应用于塔器、吸附罐、反应器等设备上。其性能的好坏,对设备内的气体均布效果及设备性能会产生巨大的影响。高性能的气体分布器能减轻高速流体进入设备后的湍流与紊乱状态,使其在更短距离内达到理想的均布化水平。
传统的反应器的气体分布板下方存在严重的粒子沉积和结块现象,导致分布器被聚合物堵塞,继而使得流化质量得不到保证,直接威胁着装置的稳定操作。
针对以上情况,现需求一种冷氢化流化床反应器气体分布器,具有气体分布均匀,流动平缓,产品利用率高的优点,可改善反应器底部出现沉积的现象。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种冷氢化流化床反应器气体分布器,实现气体分布均匀,流动平缓,产品利用率高的目的,可改善反应器底部出现沉积的现象。
本实用新型提供了如下的技术方案:
一种冷氢化流化床反应器气体分布器,包括反应器、第一分布板、第二分布板和喷头;所述反应器内设有卡槽;所述卡槽内自上而下依次布设有第二分布板和第一分布板;所述反应器底部布设有垫板;所述垫板内布设有管道一和管道二;所述管道一与管道二呈十字形布设,且彼此连通;所述管道一和管道二下方还连通有进风管;所述进风管端部延伸至反应器外;
所述管道一和管道二上方还连通有喷头;所述喷头包括盖板、外管道和伸缩杆;所述外管道布设在管道一和管道二上方;所述外管道上安装有罩板;所述外管道内还布设有伸缩杆;所述伸缩杆上方布设有盖板。
优选的,所述垫板为橡胶垫。
优选的,所述第一分布板与第二分布板相连接。
优选的,所述伸缩杆底部通过转轴安装在外管道内。
优选的,所述第一分布板与反应器之间通过固定销连接;所述第二分布板与反应器之间通过螺柱连接。
优选的,所述管道一上的外管道与管道一连通;所述管道二上的外管道与管道二连通。
本实用新型的有益的效果:
本实用新型增设的管道一和管道二,可对进入反应器内的气体起缓冲作用;增设的喷头,对气体起导向作用,使得管道一和管道二内的气体流向分布器内的各处,喷头内增设的盖板和伸缩杆,可对气体起分散作用,且在气压过大时,可顶开盖板,增大气体流通面积;增设的第一分布板和第二分布板,可使气体分布均匀,且第一分布板和第二分布板内布设不同方向的栅格,使得反应器内形成多个气流,从而使得气体分布更加均匀,使得反应器内的反应彻底,从而防止反应器底部出现沉积。本实用新型达到了气体分布均匀,流动平缓,产品利用率高的效果,可改善反应器底部出现沉积的现象。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的喷头结构示意图;
图3是本实用新型的A-A向结构示意图;
图4是本实用新型的第二分布板结构示意图;
图5是本实用新型的第一分布板结构示意图。
附图标记说明:
1、反应器;2、卡槽;3、垫板;4、管道一;41、管道二;5、进风管;6、喷头;61、盖板;62、外管道;63、转轴;64、罩板;65、伸缩杆;7、第一分布板;71、固定销;8、第二分布板;81、螺柱。
具体实施方式
如图所示,一种冷氢化流化床反应器气体分布器,包括反应器1、第一分布板7、第二分布板8和喷头6:反应器1内设有卡槽2;卡槽2内自上而下依次布设有第二分布板8和第一分布板7;第一分布板7与第二分布板8相连接,第一分布板7和第二分布板8内布设有不同方向的栅格,气体经过不同方向的栅格形成多个气流,使得气体分布更加均匀;第一分布板7与反应器1之间通过固定销71连接;第二分布板8与反应器1之间通过螺柱81连接。
反应器1底部布设有垫板3,垫板3为橡胶垫;垫板3内布设有管道一4 和管道二41;管道一4与管道二41呈十字形布设,且彼此连通;管道一4和管道二41下方还连通有进风管5;进风管5端部延伸至反应器1外,气体从进风管5流进反应器1,顺着进风管5流入管道一4和管道二41,得到缓冲。
管道一4和管道二41上方还连通有喷头6;喷头6包括盖板61、外管道 62和伸缩杆65;外管道62布设在管道一4和管道二41上方;管道一4上的外管道62与管道一4连通;管道二41上的外管道62与管道二41连通;外管道 62上安装有罩板64;外管道62内还布设有伸缩杆65伸缩杆65底部通过转轴 63安装在外管道62内;伸缩杆65上方布设有盖板61;气体从管道一4和管道二41流进喷头6的外管道62内,流经伸缩杆65和盖板61,使得气体分散。
本实用新型的工作方式:气体从进风管5进入反应器1内,顺着进风管5 流向管道一4和管道二41,管道一4和管道二41内气体再从喷头6流出,经喷头6分散流向反应器1内各处,流出喷头6的气体经过第一分布板7和第二分布板8分流,使得气体分布均匀,至此完成本装置的使用过程。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种冷氢化流化床反应器气体分布器,包括反应器(1)、第一分布板(7)、第二分布板(8)和喷头(6),其特征在于:所述反应器(1)内设有卡槽(2);所述卡槽(2)内自上而下依次布设有第二分布板(8)和第一分布板(7);所述反应器(1)底部布设有垫板(3);所述垫板(3)内布设有管道一(4)和管道二(41);所述管道一(4)与管道二(41)呈十字形布设,且彼此连通;所述管道一(4)和管道二(41)下方还连通有进风管(5);所述进风管(5)端部延伸至反应器(1)外;
所述管道一(4)和管道二(41)上方还连通有喷头(6);所述喷头(6)包括盖板(61)、外管道(62)和伸缩杆(65);所述外管道(62)布设在管道一(4)和管道二(41)上方;所述外管道(62)上安装有罩板(64);所述外管道(62)内还布设有伸缩杆(65);所述伸缩杆(65)上方布设有盖板(61)。
2.根据权利要求1所述的一种冷氢化流化床反应器气体分布器,其特征在于:所述垫板(3)为橡胶垫。
3.根据权利要求1所述的一种冷氢化流化床反应器气体分布器,其特征在于:所述第一分布板(7)与第二分布板(8)相连接。
4.根据权利要求1所述的一种冷氢化流化床反应器气体分布器,其特征在于:所述伸缩杆(65)底部通过转轴(63)安装在外管道(62)内。
5.根据权利要求1所述的一种冷氢化流化床反应器气体分布器,其特征在于:所述第一分布板(7)与反应器(1)之间通过固定销(71)连接;所述第二分布板(8)与反应器(1)之间通过螺柱(81)连接。
6.根据权利要求1所述的一种冷氢化流化床反应器气体分布器,其特征在于:所述管道一(4)上的外管道(62)与管道一(4)连通;所述管道二(41)上的外管道(62)与管道二(41)连通。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN202022504903.7U CN214020688U (zh) | 2020-11-03 | 2020-11-03 | 一种冷氢化流化床反应器气体分布器 |
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CN202022504903.7U CN214020688U (zh) | 2020-11-03 | 2020-11-03 | 一种冷氢化流化床反应器气体分布器 |
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CN202022504903.7U Active CN214020688U (zh) | 2020-11-03 | 2020-11-03 | 一种冷氢化流化床反应器气体分布器 |
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CN (1) | CN214020688U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115888940A (zh) * | 2022-10-18 | 2023-04-04 | 宁波磁性材料应用技术创新中心有限公司 | 一种粉体粒度分布调节系统及其在制备粘结磁体上的应用 |
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2020
- 2020-11-03 CN CN202022504903.7U patent/CN214020688U/zh active Active
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