CN213942949U - 一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽 - Google Patents

一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽 Download PDF

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苏富琨
余光明
戴荣昌
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Abstract

本实用新型公开了一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽,涉及蚀刻液配置技术领域。本实用新型包括箱体,箱体的前侧外壁上镶嵌有控制器,控制器上安装有显示屏和按键,箱体的上方侧壁中开设有板槽,板槽的左侧壁通过铰链与盖板转动连接,出料口内镶嵌有出料管,箱体的左侧壁上的进料口上镶嵌有进料管。本实用新型通过在高度差的作用下,使得第一混合箱内的蚀刻液原料可通过下水管以及通断阀进入到第二混合箱内,并与第二混合箱内的溶液进行混合工作,同时第二混合箱内的振荡器可对混料盒进行震荡工作,使其相互间充分混合,同时在混合工作完成后,利用隔膜泵将第二混合箱内的原料抽入到第三混合箱内,进而形成第三次混合。

Description

一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽
技术领域
本实用新型属于蚀刻液配置技术领域,特别是涉及一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽。
背景技术
随着时代与科技的发展,现阶段中的半导体产业中,其在印刷电路板、光伏、液晶面板和集成电路的生产过程中都需要用到蚀刻,利用电子化学品对电路板进行蚀刻进而使其形成不同的纹路以及达到不同的功效,同时因不同半导体产业的产品规格及其相关工艺,所对应的电子化学品的清洗与蚀刻的纯度也有所不同,电子化学品最高纯度的等级是应用在半导体产业中芯片集成电路,大尺寸集成电路,电子化学品纯度,其中最重要技术指标是微量金属含量及颗粒数,蚀刻过程中最为重要的原料之一,即为蚀刻液,而蚀刻液在生产时需要多种设备相互配合进行,其中包括了混合设备、过滤设备、储存设备以及运输设备等,其中混合设备和过滤设备尤为重要。
而现阶段中的蚀刻液配制中的混酸系统的混合槽,具有以下不足之处;
1.现阶段中的蚀刻液配制中的混酸系统的混合槽,其在使用时,采用敞口式混合槽对蚀刻液原料进行混料工作,而蚀刻液的原料多为挥发性较高的溶液,进而导致在混料过程中会导致原料的浪费的问题。
2.现阶段中的蚀刻液配制中的混酸系统的混合槽,其在使用时,采用人为搅拌或搅拌电机辅助辊筒搅拌,该过程会增大蚀刻液原料的挥发工作,并且蚀刻液具有一定的腐蚀性,严重消耗搅拌设备的使用寿命。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽,通过箱体、混合箱,在使用时,利用箱体可对混合箱进行密闭保存,并且混料以及配料过程均在混合箱内进行,而混合箱虽然为敞口式,但是箱体为密闭式,进而使得气体形态的蚀刻液原料仍然存留在箱体内,并且在混料过程中气体形态的蚀刻液原料会与液体原料接触,进而再次从新形成蚀刻液,并不会发生原料流失,第一混合箱、第二混合箱、第三混合箱以及振荡器和隔膜泵,在使用时第一混合箱中的溶液在高度差的作用下,可通过下水管以及通断阀进入到第二混合箱内,并与第二混合箱内的溶液进行混合工作,同时第二混合箱内的振荡器可对混料盒进行震荡工作,使其相互间充分混合,同时在混合工作完成后,利用隔膜泵将第二混合箱内的原料抽入到第三混合箱内,进而形成第三次混合,解决了现阶段中的蚀刻液配制中的混酸系统的混合槽,其在使用时,采用敞口式混合槽对蚀刻液原料进行混料工作,而蚀刻液的原料多为挥发性较高的溶液,进而导致在混料过程中会导致原料的浪费的问题;以及采用人为搅拌或搅拌电机辅助辊筒搅拌,该过程会增大蚀刻液原料的挥发工作,并且蚀刻液具有一定的腐蚀性,严重消耗搅拌设备的使用寿命。
为解决上述技术问题,本实用新型是通过以下技术方案实现的:
本实用新型为一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽,包括箱体,所述箱体的前侧外壁上镶嵌有控制器,且控制器上安装有显示屏和按键,所述控制器通过数据线分别与振荡器和隔膜泵电性连接,所述箱体的上方侧壁中开设有板槽,且板槽的左侧壁通过铰链与盖板转动连接,所述盖板为透明玻璃板型材料设置,进而透过盖板可直接观察到箱体内的混料过程,所述箱体的右侧外壁上开设有出料口,且出料口内镶嵌有出料管,所述箱体的左侧壁上的进料口上镶嵌有进料管。
进一步地,所述箱体的内部设置有工作槽,且工作槽的底部侧壁通过螺栓与下卡接盘固定连接,所述下卡接盘的上方、工作槽的前后两侧内壁通过螺栓与上卡接盘固定连接,所述上卡接盘共设置有两个,且上卡接盘之间关于下卡接盘左右对称设置。
进一步地,所述下卡接盘的左侧的上卡接盘内设置有第一混合箱,所述第一混合箱的内部设置有第一混合槽,且第一混合槽的底部侧壁上开设有斜面,所述斜面的右侧的第一混合槽的底部上开设有下水口,且下水口内安装有下水管,所述下水管的底部通过通断阀与引流管连接,且引流管的底部外壁上套接有软皮管,所述第一混合箱通过下水管、通断阀、引流管以及其末端上的软皮管与第二混合箱连通,同时软皮管延伸进入到第二混合箱的内部。
进一步地,所述下卡接盘的内部放置有第二混合箱,所述第二混合箱的后侧壁上开设有进料口,且第二混合箱后侧壁上的进料口内安装有进料管,且第二混合箱的内部设置有设备腔,且设备腔的底部中心处侧壁通过螺栓与振荡器的支脚固定连接,所述设备腔的底部内焊接有限位柱,所述限位柱分置于振荡器的左右两侧,且限位柱的顶端侧壁上粘接有塑胶垫,所述限位柱的高度与振荡器的最大振幅数值相同。
进一步地,所述振荡器的载物盘通过螺栓与混料盒固定连接,所述混料盒的内部右侧安装有隔膜泵,且隔膜泵的出水口通过法兰盘与抽吸管连通,所述抽吸管的末端与导流管一侧的末端连通设置。
进一步地,所述下卡接盘的右侧的上卡接盘内设置有第三混合箱,所述第三混合箱的后侧壁上开设有进料口,且第三混合箱后侧壁上的进料口内安装有进料管,且第三混合箱的左上方的工作槽的内壁上焊接有第一立柱,且第一立柱的外壁上套接有第一套环,所述第一立柱的左上方的工作槽的内壁上焊接有第二立柱,且第二立柱的外壁上套接有第二套环,所述第一套环和第二套环的外侧壁上放置有导流管,所述导流管的另一侧末端延伸进入到第三混合箱的内部,进而在混料工作完成后可通过出料管导流出第三混合箱内的蚀刻溶液。
本实用新型具有以下有益效果:
1、本实用新型通过设置箱体、混合箱,在使用时,利用箱体可对混合箱进行密闭保存,并且混料以及配料过程均在混合箱内进行,而混合箱虽然为敞口式,但是箱体为密闭式,进而使得气体形态的蚀刻液原料仍然存留在箱体内,并且在混料过程中气体形态的蚀刻液原料会与液体原料接触,进而再次从新形成蚀刻液,并不会发生原料流失,解决了现阶段中的蚀刻液配制中的混酸系统的混合槽,其在使用时,采用敞口式混合槽对蚀刻液原料进行混料工作,而蚀刻液的原料多为挥发性较高的溶液,进而导致在混料过程中会导致原料的浪费的问题。
2、本实用新型通过设置第一混合箱、第二混合箱、第三混合箱以及振荡器和隔膜泵,在使用时第一混合箱中的溶液在高度差的作用下,可通过下水管以及通断阀进入到第二混合箱内,并与第二混合箱内的溶液进行混合工作,同时第二混合箱内的振荡器可对混料盒进行震荡工作,使其相互间充分混合,同时在混合工作完成后,利用隔膜泵将第二混合箱内的原料抽入到第三混合箱内,进而形成第三次混合,解决了现阶段中的蚀刻液配制中的混酸系统的混合槽,其在使用时,采用人为搅拌或搅拌电机辅助辊筒搅拌,该过程会增大蚀刻液原料的挥发工作,并且蚀刻液具有一定的腐蚀性,严重消耗搅拌设备的使用寿命。
当然,实施本实用新型的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
图1为一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽的结构示意图;
图2为本实用新型的图1中的箱体内部结构图;
图3为本实用新型的图2中的第一混合箱内部结构图;
图4为本实用新型的图2中的第二混合箱内部结构图;
图5为本实用新型的图2中的A处结构放大图。
附图中,各标号所代表的部件列表如下:
1、箱体;101、工作槽;102、下卡接盘;103、上卡接盘;2、控制器; 201、显示屏;202、按键;3、板槽;301、铰链;302、盖板;4、出料口; 401、出料管;5、进料管;6、第一混合箱;601、第一混合槽;602、斜面; 603、下水口;604、下水管;605、通断阀;606、引流管;607、软皮管;7、第二混合箱;701、设备腔;702、振荡器;703、混料盒;704、限位柱; 705、塑胶垫;706、隔膜泵;707、法兰盘;708、抽吸管;8、第三混合箱; 801、第一立柱;802、第一套环;803、第二立柱;804、第二套环;805、导流管。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
请参阅图1所示,本实用新型为一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽,包括箱体1,箱体1的前侧外壁上镶嵌有控制器2,且控制器2上安装有显示屏201和按键202,控制器2的输出端通过数据线分别与通断阀 605、振荡器702和隔膜泵706的输出端电性连接,箱体1的上方侧壁中开设有板槽3,且板槽3的左侧壁通过铰链301与盖板302转动连接,箱体1的右侧外壁上开设有出料口4,且出料口4内镶嵌有出料管401,箱体1的左侧壁上的进料口上镶嵌有进料管5。
其中如图2所示,箱体1的内部设置有工作槽101,且工作槽101的底部侧壁通过螺栓与下卡接盘102固定连接,下卡接盘102的上方、工作槽 101的前后两侧内壁通过螺栓与上卡接盘103固定连接,上卡接盘103共设置有两个,且上卡接盘103之间关于下卡接盘102左右对称设置。
其中如图2、3所示,下卡接盘102的左侧的上卡接盘103内设置有第一混合箱6,第一混合箱6的内部设置有第一混合槽601,且第一混合槽601 的底部侧壁上开设有斜面602,斜面602的右侧的第一混合槽601的底部上开设有下水口603,且下水口603内安装有下水管604,下水管604的底部通过通断阀605与引流管606连接,且引流管606的底部外壁上套接有软皮管607,软皮管607垂直向下设置,且软皮管607的末端延伸进入到第二混合箱7的内部。
其中如图2-4所示,下卡接盘102的内部放置有第二混合箱7,且第二混合箱7的内部设置有设备腔701,且设备腔701的底部中心处侧壁通过螺栓与振荡器702的支脚固定连接,设备腔701的底部内焊接有限位柱704,限位柱704分置于振荡器702的左右两侧,且限位柱704的顶端侧壁上粘接有塑胶垫705,振荡器702的载物盘通过螺栓与混料盒703固定连接,混料盒703的内部右侧安装有隔膜泵706,且隔膜泵706的出水口通过法兰盘 707与抽吸管708连通,隔膜泵706通过抽吸管708与导流管805连通设置。
其中如图2-5所示,下卡接盘102的右侧的上卡接盘103内设置有第三混合箱8,且第三混合箱8的左上方的工作槽101的内壁上焊接有第一立柱801,且第一立柱801的外壁上套接有第一套环802,第一立柱801的左上方的工作槽101的内壁上焊接有第二立柱803,且第二立柱803的外壁上套接有第二套环804,第一套环802和第二套环804的外侧壁上放置有导流管805,进而第一立柱801和第二立柱803可对导流管805起到吊挂限位的作用,避免导流管805脱落现象发生。
以上仅为本实用新型的优选实施例,并不限制本实用新型,任何对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,对其中部分技术特征进行等同替换,均属于在本实用新型的保护范围。

Claims (6)

1.一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽,包括箱体(1),其特征在于:所述箱体(1)的前侧外壁上镶嵌有控制器(2),且控制器(2)上安装有显示屏(201)和按键(202),所述箱体(1)的上方侧壁中开设有板槽(3),且板槽(3)的左侧壁通过铰链(301)与盖板(302)转动连接,所述箱体(1)的右侧外壁上开设有出料口(4),且出料口(4)内镶嵌有出料管(401),所述箱体(1)的左侧壁上的进料口上镶嵌有进料管(5)。
2.根据权利要求1所述的一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽,其特征在于,所述箱体(1)的内部设置有工作槽(101),且工作槽(101)的底部侧壁通过螺栓与下卡接盘(102)固定连接,所述下卡接盘(102)的上方、工作槽(101)的前后两侧内壁通过螺栓与上卡接盘(103)固定连接,所述上卡接盘(103)共设置有两个,且上卡接盘(103)之间关于下卡接盘(102)左右对称设置。
3.根据权利要求2所述的一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽,其特征在于,所述下卡接盘(102)的左侧的上卡接盘(103)内设置有第一混合箱(6),所述第一混合箱(6)的内部设置有第一混合槽(601),且第一混合槽(601)的底部侧壁上开设有斜面(602),所述斜面(602)的右侧的第一混合槽(601)的底部上开设有下水口(603),且下水口(603)内安装有下水管(604),所述下水管(604)的底部通过通断阀(605)与引流管(606)连接,且引流管(606)的底部外壁上套接有软皮管(607)。
4.根据权利要求2所述的一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽,其特征在于,所述下卡接盘(102)的内部放置有第二混合箱(7),且第二混合箱(7)的内部设置有设备腔(701),且设备腔(701)的底部中心处侧壁通过螺栓与振荡器(702)的支脚固定连接,所述设备腔(701)的底部内焊接有限位柱(704),所述限位柱(704)分置于振荡器(702)的左右两侧,且限位柱(704)的顶端侧壁上粘接有塑胶垫(705)。
5.根据权利要求4所述的一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽,其特征在于,所述振荡器(702)的载物盘通过螺栓与混料盒(703)固定连接,所述混料盒(703)的内部右侧安装有隔膜泵(706),且隔膜泵(706)的出水口通过法兰盘(707)与抽吸管(708)连通。
6.根据权利要求2所述的一种用于全自动混酸系统的多级密闭混合槽,其特征在于,所述下卡接盘(102)的右侧的上卡接盘(103)内设置有第三混合箱(8),且第三混合箱(8)的左上方的工作槽(101)的内壁上焊接有第一立柱(801),且第一立柱(801)的外壁上套接有第一套环(802),所述第一立柱(801)的左上方的工作槽(101)的内壁上焊接有第二立柱(803),且第二立柱(803)的外壁上套接有第二套环(804),所述第一套环(802)和第二套环(804)的外侧壁上放置有导流管(805)。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN115240046A (zh) * 2022-07-29 2022-10-25 福建天甫电子材料有限公司 用于缓冲氧化物蚀刻液生产的自动配料系统及其配料方法

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