CN213866339U - 用于真空热处理的放料架及其放料架组 - Google Patents

用于真空热处理的放料架及其放料架组 Download PDF

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周耀
何永红
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Abstract

本申请涉及一种用于真空热处理的放料架及其放料架组,其涉及真空热处理配套设备的技术领域,放料架包括底座以及设置于底座周向且向上延伸的至少三个支柱,若干所述支柱上均转动连接有支撑板,放料架组包括上述的真空热处理放料架,其中,支柱的下端设置有支脚,所述支柱的上端呈空心设置且供相邻放料架的支脚插接。本申请具有降低堆叠的盘管进行热处理的过程中底部的管件受到的压力的效果。

Description

用于真空热处理的放料架及其放料架组
技术领域
本申请涉及真空热处理配套设备的领域,尤其是涉及一种用于真空热处理的放料架及其放料架组。
背景技术
真空热处理是将金属工件在1个大气压以下(即负压下)加热的金属热处理工艺,真空热处理可用于退火、脱气、固溶热处理、淬火、回火和沉淀硬化等工艺。
在对管件进行真空热处理的过程中,通常会将管件卷曲成盘管,然后将多卷盘管堆叠起来送入真空热处理炉中进行在真空热处理。但是在实际使用过程中,发明人发现,当盘管数量较多时,最底部的管件会受到较大的压力,导致最底部的管件容易发生形变,影响生产出的管件的品质。
实用新型内容
为了降低堆叠的盘管进行热处理的过程中,底部的管件受到的压力,本申请提供一种用于真空热处理的放料架及其放料架组。
第一方面,本申请提供的一种用于真空热处理的放料架采用如下的技术方案:
一种用于真空热处理的放料架,包括底座以及设置于底座周向且向上延伸的至少三个支柱,若干所述支柱上均转动连接有支撑板。
通过采用上述技术方案,通过支柱上的支撑板的设置形成了新的放置区,使得盘管不仅可以放置于底座上,还可以同时放置在若干支撑板之上,当需要对多卷同时进行真空热处理时,相邻的盘管之间不会造成挤压,进而可以降低底部的盘管所受到的压力,提高产品产出的品质。
优选的,所述支撑板上设置有供支柱穿设的转动孔,所述支柱上固定有套设于支柱上且用于支撑支撑板的限位环。
通过采用上述技术方案,这种设置方式连接以及拆卸简单,组装效率高,易于进行维护更换。
优选的,所述支撑板包括相互固定的支撑部以及限位部,所述支撑部上设置有供支柱穿设的第一弧形槽,所述限位部上设置有供支柱穿设的第二弧形槽,所述第一弧形槽与第二弧形槽相互拼合形成所述转动孔。
通过采用上述技术方案,这种安装方式无需通过滑移的方式而将支撑板进行拆卸和安装,只需在支柱的外侧进行安装即可,安装过程较为方便,易于生产。
优选的,所述底座包括连接相邻所述支柱的第一加强杆。
通过采用上述技术方案,第一加强杆的设置将相邻的支柱进行连接,提高了支柱间的连接强度。
优选的,所述底座包括第一中心加强件,所述第一中心加强件分别与若干支柱相互连接。
通过采用上述技术方案,第一中心加强件的设置提高了底座的结构强度,同时提高了立柱之间的相对稳定性,同时第一中心加强件还可以对盘管进行支撑。
优选的,所述支柱远离底座的一端还固定有第二加强杆,所述第二加强杆连接相邻所述支柱。
通过采用上述技术方案,第二加强杆对支柱的上端进行了限位,进一步提高了支柱之间稳定性,从而在一定程度上提高了放置架整体的结构强度。
优选的,所述第二加强杆呈弧形设置且向外凸出。
通过采用上述技术方案,这种设置方便了工人对放置架进行搬运。
优选的,所述底座上设置有环形垫板。
通过采用上述技术方案,环形垫板的设置增大了与盘管的底面的接触面积,进而通过增大接触面积的方式减小了盘管的底面受到的压强,减小局部压强过大所导致发生弯曲形变的情况,使产品产出的品质更佳。
优选的,所述立柱的上端呈空心设置,还包括有加固盖,所述加固盖上设置有插接于立柱中的插接脚。
通过采用上述技术方案,加固盖的设置进一步地对放料架的上端的结构进行了加强,进一步提高了放料架整体的稳定性。
第二方面,本申请提供的一种真空热处理放料架组采用如下的技术方案:
一种用于真空热处理的放料架组,包括上述的放料架,其中,支柱的下端设置有支脚,所述支柱的上端呈空心设置且供相邻放料架的支脚插接。
通过采用上述技术方案,当需要对同时使用多个放料架时,相邻放料架之间可以相互堆叠,而通过支脚与支柱插接的方式进行连接,连接方便,效率更高,组装与拆卸均较为方便。
综上所述,本申请包括以下至少一种有益技术效果:
1.通过支柱上的支撑板的设置形成了新的放置区,使得盘管不仅可以放置于底座上,还可以同时放置在若干支撑板之上,当需要对多卷同时进行真空热处理时,相邻的盘管之间不会造成挤压,进而可以降低底部的盘管所受到的压力;
2.放料架整体的结构强度高;
3.可以进行扩展,同时组装方便,拆卸较为容易。
附图说明
图1是本申请实施例1中放料架的结构示意图。
图2是本申请实施例1中支撑板的结构示意图。
图3是本申请实施例1中支柱为三个时,底座与支柱的俯视图。
图4是本申请实施例1中支柱为四个时,底座与支柱的俯视图。
图5是本申请实施例1中加固盖与支柱的爆炸示意图。
图6是本申请实施例2中放料架组的结构示意图。
附图标记说明:1、底座;2、支柱;3、加固盖;4、支撑板;5、环形垫板;41、转动孔;6、限位环;42、支撑部;43、限位部;44、第一弧形槽;45、第二弧形槽;11、第一加强杆;12、第一中心加强件;121、连接杆;7、第二加强杆;31、插接脚;32、第三加强杆;33、第二中心加强件;8、导向锥度;9、支脚;10、放料架。
具体实施方式
以下结合附图1-6对本申请作进一步详细说明。
实施例1:
本申请实施例公开一种用于真空热处理的放料架。参照图1,真空热处理放料架包括底座1、设置于底座1周向且向上延伸的至少三个支柱2以及可拆卸连接于支柱2上端以提高支柱2之间结构强度的加固盖3。其中,若干支柱2上均转动连接有支撑板4,相邻支柱2上的支撑板4之间相互配合形成了供盘管放置的放置区。
在本实施例中,支撑板4于一个支柱2上共间隔设置有两个,即相邻的支柱2之间的支撑板4相互配合形成了上下两个供盘管放置的放置区。但需要注意的是,底座1上也可以供盘管放置,而为了提高盘管与底座1的接触面积,底座1上放置有用于支撑盘管的环形垫板5。
参照图1和图2,支撑板4上设置有供支柱2穿设的转动孔41,支柱2上固定有套设于支柱2上且用于支撑支撑板4的限位环6。其中,限位环6可以采用焊接固定的方式固定于支柱2上,也可以采用紧定螺栓紧定的方式固定于立柱上。支撑板4包括相互固定的支撑部42以及限位部43,支撑部42的侧壁上开设有供支柱2穿设的第一弧形槽44,限位部43上设置有供支柱2穿设的第二弧形槽45,其中,第一弧形槽44与第二弧形槽45均为半圆槽,两个半圆槽相互拼接组合形成了供支柱2穿设的转动孔41。
需要注意的是,支撑部42用于支撑盘管,而限位部43呈半环状,支撑部42与限位部43采用焊接固定的方式相互连接。当支撑板4用于支撑盘管时,支撑板4的支撑部42转动至向支撑架的内部延伸的方向上,而当需要对盘管进行下料或上料的过程中,即将支撑板4的支撑部42转动至朝向支撑架外部的方向上,进而方便工人们上下料。
参照图1,底座1包括第一加强杆11以及第一中心加强件12,第一加强杆11用于连接相邻支柱2,且第一加强杆11与支柱2通过焊接固定的方式进行连接。其中,第一中心加强件12的结构与支柱2的数量相关联:
参照图3,当支柱2的数量为三个时,支柱2与第一加强杆11相互拼接形成了一个三角形的结构,而第一中心加强件12包括三根连接杆121,三个连接杆121的一端分别一一对应连接至三个支柱2上,而三个连接杆121的另一端相互焊接固定;
参照图4,当支柱2的数量为四个时,支柱2与第一加强杆11相互拼接形成了一个四边形的结构,而第一中心加强件12包括四根连接杆121,四根连接杆121的一端分别一一对应连接至四个支柱2上,而四个连接杆121的另一端相互焊接固定。而为了方便进行生产,其中一对处于同一直线上的两个连接杆121可以一体成型,进而方便进行实际生产和组装。
因而,根据上述支柱2数量分别为三个以及四个的实施方式下的第一中心加强件12所对应的结构设置,本领域技术人员可以将其类推至其他支柱2数量下的应用环境中,其均应涵盖至本申请的保护范围中。
参照图5,而为了对支柱2的上端进行稳定,支柱2远离底座1的一端还固定有第二加强杆7,第二加强杆7连接相邻支柱2,且第二加强杆7与支柱2相互焊接固定。进一步的,第二加强杆7呈弧形设置且向外凸出。需要注意的是,若干第二加强杆7之间相互组合形成了一个圆形结构,即若干第二加强杆7延长路径的圆心相互重合。
加固盖3包括与立柱一一对应的插接脚31、连接相邻插接脚31的第三加强杆32以及连接若干插接脚31的第二中心加强件33。立柱的上端呈空心设置,插接脚31插接于立柱中以与立柱相互固定,且插接脚31上设置有用于导向插接脚31插入方向的导向锥度8。其中,第三加强杆32以及第二中心加强件33的结构与第一加强杆11以及第一中心加强件12的结构相同,此处不再赘述。
本申请实施例一种用于真空热处理的放料架的实施原理为:当需要将盘管进行上料时,首先将所有的支撑板4向外转动,然后将盘管放置至底座1上,然后转动第一层支撑板4,并将盘管放置至第一层支撑板4上,然后依次转动支撑板4并放置盘管,最后将加固盖3盖设于支柱2上,完成放料架的上料。
实施例2:
本申请实施例还公开一种用于真空热处理的放料架组。参照图5和图6,其包括若干实施例1所述的放料架10以及一个加固盖3。其中,支柱2的下端固定有用于连接相邻放置架的支脚9,支脚9可插接于相邻放料架10的支柱2的上端,支脚9上也设置有用于导向插接脚31插入方向的导向锥度8。
进而,当需要对放料架10整体进行扩展时,只需将多个放料架10相互堆叠,并将上侧的放料架10的支架对应插接入下侧的放料架10的支柱2中即可。
以上均为本申请的较佳实施例,并非依此限制本申请的保护范围,故:凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种用于真空热处理的放料架,其特征在于:包括底座(1)以及设置于底座(1)周向且向上延伸的至少三个支柱(2),若干所述支柱(2)上均转动连接有支撑板(4),所述支撑板(4)上设置有供支柱(2)穿设的转动孔(41),所述支柱(2)上固定有套设于支柱(2)上且用于支撑支撑板(4)的限位环(6)。
2.根据权利要求1所述的用于真空热处理的放料架,其特征在于:所述支撑板(4)包括相互固定的支撑部(42)以及限位部(43),所述支撑部(42)上设置有供支柱(2)穿设的第一弧形槽(44),所述限位部(43)上设置有供支柱(2)穿设的第二弧形槽(45),所述第一弧形槽(44)与第二弧形槽(45)相互拼合形成所述转动孔(41)。
3.根据权利要求1所述的用于真空热处理的放料架,其特征在于:所述底座(1)包括连接相邻所述支柱(2)的第一加强杆(11)。
4.根据权利要求1所述的用于真空热处理的放料架,其特征在于:所述底座(1)包括第一中心加强件(12),所述第一中心加强件(12)分别与若干支柱(2)相互连接。
5.根据权利要求1所述的用于真空热处理的放料架,其特征在于:所述支柱(2)远离底座(1)的一端还固定有第二加强杆(7),所述第二加强杆(7)连接相邻所述支柱(2)。
6.根据权利要求5所述的用于真空热处理的放料架,其特征在于:所述第二加强杆(7)呈弧形设置且向外凸出。
7.根据权利要求1所述的用于真空热处理的放料架,其特征在于:所述底座(1)上设置有环形垫板(5)。
8.根据权利要求1所述的用于真空热处理的放料架,其特征在于:所述支柱(2)的上端呈空心设置,还包括有加固盖(3),所述加固盖(3)上设置有插接于支柱(2)中的插接脚(31)。
9.一种用于真空热处理的放料架组,其特征在于:包括若干如权利要求1-8任意一项所述的放料架(10),其中,支柱(2)的下端设置有支脚(9),所述支柱(2)的上端呈空心设置且供相邻放料架(10)的支脚(9)插接。
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