CN213819174U - 一种新型培育基料上料设备 - Google Patents

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卜文
黄吉成
张映贤
蒋安妮
辛宇鹏
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Abstract

本实用新型公开了一种新型培育基料上料设备,包括工作台,所述工作台的顶部设置有输送装置、抹平装置和压平组件,所述输送装置包括支撑板一、驱动电机一和输送带,所述两个相邻的支撑板一之间活动设置有转轴,所述转轴的外部套设有齿轮,所述齿轮的外部套设有传动辊,所述两个传动辊的外部设置有输送带,所述抹平装置包括支撑板二、驱动电机二和螺旋搅拌轴,所述压平组件包括支撑板三、驱动电机三和出料辊,所述工作台的顶部固定设置有支撑杆,所述支撑杆上固定连接有上料斗,所述工作台的一侧设置有控制器。本实用新型提高了上料的工作效率,减少人工操作,降低了劳动力度,实现智能化,降低成本,运行平稳,具有很高的实用价值和推广价值。

Description

一种新型培育基料上料设备
技术领域
本实用新型涉及培育基料上料设备技术领域,具体来说,涉及一种新型培育基料上料设备。
背景技术
蘑菇称为双孢蘑菇,又叫白蘑菇、洋蘑菇,隶属于伞菌目,伞菌科,蘑菇属,是世界上人工栽培较广泛、产量较高、消费量较大的食用菌品种,很多国家都有栽培,其中我国总产量占世界第二位。近年来,随着食用菌产业的快速发展,双孢蘑菇的产量也在逐年增加,成为许多地区农民增收的支柱产业。随着人民生活水平的提高,对蘑菇周年消费需求不断增加,双孢蘑菇的工厂化栽培也已开始实现。双孢蘑菇的生活史分菌丝体阶段和子实体阶段,子实体也就是菇体,又可以分为原基期、菇蕾期、成熟期。播种后白色的菌丝慢慢地在培养料中蔓延生长,直至密布整个培养料,此阶段称为菌丝体期。菌丝体在覆土层中形成菌丝层后再扭结成米粒大小的白色原基,称为原基期。一般在覆土后15天左右出现。原基继续长大,成为双孢蘑菇的形状,即为菇蕾期。一般原基形成后3天左右长成。从菇蕾形成到双孢蘑菇采收的时期为成长期,温度高时生长快,温度低时生长缓慢。
蘑菇是一种室内种植的食用菌,从菌丝体逐渐生长成子实体,最终成为食用菌,在适合的环境中才能更好更快地生长。蘑菇属于腐生真菌中的一种,其体内并没有叶绿素的存在,因此不能直接在光照下进行光合作用。蘑菇生长过程中,主要是将培养料中的各类营养物质作为营养来源,从而实现生长发育。培养料一般由猪粪、牛粪以及磷肥、等各类物质组成。
蘑菇在培育的过程中需要用到培育基进行培育,提高蘑菇的生长速率和品质。现阶段,在对蘑菇二次发酵的培育基料进行上料时,需要人工进行输送,并对培育基料进行手工抹平和压成饼状,劳动力度大,操作复杂,增加劳动力,提高成本。针对相关技术问题,目前尚未提出有效的解决方案。
实用新型内容
针对相关技术中的问题,本实用新型提出一种新型培育基料上料设备,以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
本实用新型的技术方案是这样实现的:
一种新型培育基料上料设备,包括工作台1,所述工作台1的顶部设置有输送装置5、抹平装置6和压平组件7,所述输送装置5包括支撑板一8、驱动电机一9和输送带10,所述两个相邻的支撑板一8之间活动设置有转轴11,所述转轴11的外部套设有齿轮12,所述齿轮12的外部套设有传动辊13,所述两个齿轮12通过链条传动连接,所述两个传动辊13的外部设置有输送带10,所述抹平装置6包括支撑板二14、驱动电机二15和螺旋搅拌轴16,所述螺旋搅拌轴16的外部表面均设置有若干个耙齿17,所述压平组件7包括支撑板三18、驱动电机三19和出料辊20,所述两个支撑板三18之间设置有转轴一21,所述转轴一21的外部套设有出料辊20,所述工作台1的顶部固定设置有支撑杆22,所述支撑杆22上固定连接有上料斗23,所述上料斗23位于抹平装置6的上部,所述工作台1的一侧设置有控制器24。
进一步的,所述工作台1的底部设置有支撑装置2,所述支撑装置2的底部固定设置有底板3,所述底板3的底部四周固定连接有万向轮4。
进一步的,所述支撑板一8设置有四个,所述四个支撑板一8分别设置在工作台1的顶部四周,所述有转轴11设置有两个,所述两个转轴11呈对称设置,所述转轴11的一端与支撑板一8的一端活动连接,所述转轴11的另一端贯穿支撑板一8与驱动电机一9的输出端连接。
进一步的,所述抹平装置6设置有两个,所述支撑板二14设置有两个,所述两个支撑板二14分别设置在工作台1的两侧,所述两个支撑板二14之间设置有螺旋搅拌轴16,所述螺旋搅拌轴16的一端与支撑板二14的一端活动连接,所述螺旋搅拌轴16的另一端贯穿支撑板二14与驱动电机二15的输出端连接。
进一步的,所述压平组件7设置有是三个,所述支撑板三18设置有两个,所述两个支撑板三18分别设置在工作台1的两侧,所述转轴一21的一端与支撑板三18的一端活动连接,所述转轴一21的另一端贯穿支撑板三18与驱动电机三19的输出端连接。
进一步的,所述控制器24分别与驱动电机一、驱动电机二15、驱动电机三19电性连接。
本实用新型的有益效果:
(1)本实用新型通过设置输送装置,输送装置包括支撑板一、驱动电机一和输送带,两个相邻的支撑板一之间活动设置转轴,转轴的外部套设有齿轮,齿轮的外部套设传动辊,两个齿轮通过链条传动连接,两个传动辊的外部设置输送带,支撑板一设置有四个,四个支撑板一分别设置在工作台的顶部四周,有转轴设置有两个,两个转轴呈对称设置,转轴的一端与支撑板一的一端活动连接,转轴的另一端贯穿支撑板一与驱动电机一的输出端连接,提高对基料的输送效率,减少人工操作,降低劳动力度;
(2)本实用新型通过设置抹平装置,抹平装置包括支撑板二、驱动电机二和螺旋搅拌轴,螺旋搅拌轴的外部表面均设置有若干个耙齿,抹平装置设置有两个,支撑板二设置有两个,两个支撑板二分别设置在工作台的两侧,两个支撑板二之间设置有螺旋搅拌轴,螺旋搅拌轴的一端与支撑板二的一端活动连接,螺旋搅拌轴的另一端贯穿支撑板二与驱动电机二的输出端连接,能够有效对上料斗所下落的基料进行抹平,均匀性高,操作便捷,减少操作时间;
(3)本实用新型通过设置压平组件,压平组件包括支撑板三、驱动电机三和出料辊,两个支撑板三之间设置有转轴一,转轴一的外部套设有出料辊,压平组件7设置有是三个,所述支撑板三18设置有两个,两个支撑板三分别设置在工作台的两侧,所述转轴一的一端与支撑板三的一端活动连接,转轴一的另一端贯穿支撑板三与驱动电机三的输出端连接,能够有效提高对基料的压平速率,减少人工操作,节约成本,具有很高的实用价值和推广价值。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是根据本实用新型实施例的一种新型培育基料上料设备的整体结构示意图;
图2是根据本实用新型实施例的一种新型培育基料上料设备的俯视结构示意图。
1、工作台;2、支撑装置;3、底板;4、万向轮;5、输送装置;6、抹平装置;7、压平组件;8、支撑板一;9、驱动电机一;10、输送带;11、转轴;12、齿轮;13、传动辊;14、支撑板二;15、驱动电机二;16、螺旋搅拌轴;17、耙齿;18、支撑板三;19、驱动电机三;20、出料辊;21、转轴一;22、支撑杆;23、上料斗;24、控制器。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
根据本实用新型的实施例,提供了一种新型培育基料上料设备。
如图1-2所示,根据本实用新型实施例的一种新型培育基料上料设备,包括工作台1,所述工作台1的顶部设置有输送装置5、抹平装置6和压平组件7,所述输送装置5包括支撑板一8、驱动电机一9和输送带10,所述两个相邻的支撑板一8之间活动设置有转轴11,所述转轴11的外部套设有齿轮12,所述齿轮12的外部套设有传动辊13,所述两个齿轮12通过链条传动连接,所述两个传动辊13的外部设置有输送带10,所述抹平装置6包括支撑板二14、驱动电机二15和螺旋搅拌轴16,所述螺旋搅拌轴16的外部表面均设置有若干个耙齿17,所述压平组件7包括支撑板三18、驱动电机三19和出料辊20,所述两个支撑板三18之间设置有转轴一21,所述转轴一21的外部套设有出料辊20,所述工作台1的顶部固定设置有支撑杆22,所述支撑杆22上固定连接有上料斗23,所述上料斗23位于抹平装置6的上部,所述工作台1的一侧设置有控制器24,所述工作台1的底部设置有支撑装置2,所述支撑装置2的底部固定设置有底板3,所述底板3的底部四周固定连接有万向轮4,所述支撑板一8设置有四个,所述四个支撑板一8分别设置在工作台1的顶部四周,所述有转轴11设置有两个,所述两个转轴11呈对称设置,所述转轴11的一端与支撑板一8的一端活动连接,所述转轴11的另一端贯穿支撑板一8与驱动电机一9的输出端连接,所述抹平装置6设置有两个,所述支撑板二14设置有两个,所述两个支撑板二14分别设置在工作台1的两侧,所述两个支撑板二14之间设置有螺旋搅拌轴16,所述螺旋搅拌轴16的一端与支撑板二14的一端活动连接,所述螺旋搅拌轴16的另一端贯穿支撑板二14与驱动电机二15的输出端连接,所述压平组件7设置有是三个,所述支撑板三18设置有两个,所述两个支撑板三18分别设置在工作台1的两侧,所述转轴一21的一端与支撑板三18的一端活动连接,所述转轴一21的另一端贯穿支撑板三18与驱动电机三19的输出端连接,所述控制器24分别与驱动电机一、驱动电机二15、驱动电机三19电性连接。
借助于上述技术方案,一种新型培育基料上料设备,包括工作台1,所述工作台1的顶部设置有输送装置5、抹平装置6和压平组件7,所述输送装置5包括支撑板一8、驱动电机一9和输送带10,所述两个相邻的支撑板一8之间活动设置有转轴11,所述转轴11的外部套设有齿轮12,所述齿轮12的外部套设有传动辊13,所述两个齿轮12通过链条传动连接,所述两个传动辊13的外部设置有输送带10,所述抹平装置6包括支撑板二14、驱动电机二15和螺旋搅拌轴16,所述螺旋搅拌轴16的外部表面均设置有若干个耙齿17,所述压平组件7包括支撑板三18、驱动电机三19和出料辊20,所述两个支撑板三18之间设置有转轴一21,所述转轴一21的外部套设有出料辊20,所述工作台1的顶部固定设置有支撑杆22,所述支撑杆22上固定连接有上料斗23,所述上料斗23位于抹平装置6的上部,所述工作台1的一侧设置有控制器24。
所述工作台1的底部设置有支撑装置2,所述支撑装置2的底部固定设置有底板3,所述底板3的底部四周固定连接有万向轮4,移动性高,提高工作的运行稳定性。
所述支撑板一8设置有四个,所述四个支撑板一8分别设置在工作台1的顶部四周,所述有转轴11设置有两个,所述两个转轴11呈对称设置,所述转轴11的一端与支撑板一8的一端活动连接,所述转轴11的另一端贯穿支撑板一8与驱动电机一9的输出端连接。
所述抹平装置6设置有两个,所述支撑板二14设置有两个,所述两个支撑板二14分别设置在工作台1的两侧,所述两个支撑板二14之间设置有螺旋搅拌轴16,所述螺旋搅拌轴16的一端与支撑板二14的一端活动连接,所述螺旋搅拌轴16的另一端贯穿支撑板二14与驱动电机二15的输出端连接。
所述压平组件7设置有是三个,所述支撑板三18设置有两个,所述两个支撑板三18分别设置在工作台1的两侧,所述转轴一21的一端与支撑板三18的一端活动连接,所述转轴一21的另一端贯穿支撑板三18与驱动电机三19的输出端连接。
所述控制器24分别与驱动电机一、驱动电机二15、驱动电机三19电性连接,实现智能化,提高工作效率。
工作原理:在使用的过程中,二次发酵后的基料通过挖机上料到上料斗,基料从上料斗下落,驱动电机二带动螺旋搅拌轴进行旋转,从而带动螺旋搅拌轴上的耙齿进行旋转,基料经过耙齿旋转均匀下料到输送带,并对其进行抹平,驱动电机一带动输送带进行输送,驱动电机三带动转轴一进行旋转从而带动出料辊进行旋转,出料辊对抹平的基料进行压平,将基料压成饼状出料到下一步的桥接架。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置”、“连接”、“固定”、“旋接”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定,对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种新型培育基料上料设备,包括工作台(1),其特征在于,所述工作台(1)的顶部设置有输送装置(5)、抹平装置(6)和压平组件(7),所述输送装置(5)包括支撑板一(8)、驱动电机一(9)和输送带(10),所述两个相邻的支撑板一(8)之间活动设置有转轴(11),所述转轴(11)的外部套设有齿轮(12),所述齿轮(12)的外部套设有传动辊(13),所述两个齿轮(12)通过链条传动连接,所述两个传动辊(13)的外部设置有输送带(10),所述抹平装置(6)包括支撑板二(14)、驱动电机二(15)和螺旋搅拌轴(16),所述螺旋搅拌轴(16)的外部表面均设置有若干个耙齿(17),所述压平组件(7)包括支撑板三(18)、驱动电机三(19)和出料辊(20),所述两个支撑板三(18)之间设置有转轴一(21),所述转轴一(21)的外部套设有出料辊(20),所述工作台(1)的顶部固定设置有支撑杆(22),所述支撑杆(22)上固定连接有上料斗(23),所述上料斗(23)位于抹平装置(6)的上部,所述工作台(1)的一侧设置有控制器(24)。
2.根据权利要求1所述的一种新型培育基料上料设备,其特征在于,所述工作台(1)的底部设置有支撑装置(2),所述支撑装置(2)的底部固定设置有底板(3),所述底板(3)的底部四周固定连接有万向轮(4)。
3.根据权利要求1所述的一种新型培育基料上料设备,其特征在于,所述支撑板一(8)设置有四个,所述四个支撑板一(8)分别设置在工作台(1)的顶部四周,所述有转轴(11)设置有两个,所述两个转轴(11)呈对称设置,所述转轴(11)的一端与支撑板一(8)的一端活动连接,所述转轴(11)的另一端贯穿支撑板一(8)与驱动电机一(9)的输出端连接。
4.根据权利要求1所述的一种新型培育基料上料设备,其特征在于,所述抹平装置(6)设置有两个,所述支撑板二(14)设置有两个,所述两个支撑板二(14)分别设置在工作台(1)的两侧,所述两个支撑板二(14)之间设置有螺旋搅拌轴(16),所述螺旋搅拌轴(16)的一端与支撑板二(14)的一端活动连接,所述螺旋搅拌轴(16)的另一端贯穿支撑板二(14)与驱动电机二(15)的输出端连接。
5.根据权利要求1所述的一种新型培育基料上料设备,其特征在于,所述压平组件(7)设置有三个,所述支撑板三(18)设置有两个,所述两个支撑板三(18)分别设置在工作台(1)的两侧,所述转轴一(21)的一端与支撑板三(18)的一端活动连接,所述转轴一(21)的另一端贯穿支撑板三(18)与驱动电机三(19)的输出端连接。
6.根据权利要求1所述的一种新型培育基料上料设备,其特征在于,所述控制器(24)分别与驱动电机一、驱动电机二(15)、驱动电机三(19)电性连接。
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