CN213763134U - 一种lbo晶体加工用清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及LBO晶体技术领域,且公开了一种LBO晶体加工用清洗装置,包括清洗箱,所述清洗箱的左右两侧均固定安装有把环座,两个所述把环座的内侧均活动安装有把环,两个所述把环靠近清洗箱的一侧且位于清洗箱的外侧均活动安装有把环垫块,所述清洗箱的顶部固定安装有箱沿环,所述箱沿环的内侧开设有移动槽,所述移动槽的内侧活动安装有清洗篮上环。该LBO晶体加工用清洗装置,通过设置移动槽、清洗篮沿环、滚轮支架、滚轮轴、滚轮、支板条和手握杆,工作人员手握着手握杆顺带下压,左右移动清洗篮,清洗箱内侧的清洗液将清洗篮内侧的LBO晶体冲刷干净,清洗结束后,提起手握杆,连同清洗篮一起提出清洗液的液面,方便LBO晶体的取出。
Description
技术领域
本实用新型涉及LBO晶体技术领域,具体为一种LBO晶体加工用清洗装置。
背景技术
偏硼酸锂(LBO)晶体是目前在紫外倍频应用十分广泛的晶体,它是应用阴离子基团理论计算与晶体生长相结合成功发现新晶体的一个实例。
通过设置移动槽、清洗篮沿环、滚轮支架、滚轮轴、滚轮、支板条和手握杆,工作人员手握着手握杆顺带下压,左右移动清洗篮,清洗箱内侧的清洗液将清洗篮内侧的LBO晶体冲刷干净,清洗结束后,提起手握杆,连同清洗篮一起提出清洗液的液面,方便LBO晶体的取出
现有的LBO晶体加工用清洗装置多是采用浸泡清洗的方式,在清洗结束后,需要人工手动将晶体捞出,不方便LBO晶体的取出,故而提出一种LBO晶体加工用清洗装置来解决上述提出的问题。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种LBO晶体加工用清洗装置,具备方便LBO晶体的取出等优点,解决了现有的LBO晶体加工用清洗装置多是采用浸泡清洗的方式,在清洗结束后,需要人工手动将晶体捞出,不方便LBO晶体的取出的问题。
(二)技术方案
为实现上述方便LBO晶体的取出目的,本实用新型提供如下技术方案:一种LBO晶体加工用清洗装置,包括清洗箱,所述清洗箱的左右两侧均固定安装有把环座,两个所述把环座的内侧均活动安装有把环,两个所述把环靠近清洗箱的一侧且位于清洗箱的外侧均活动安装有把环垫块,所述清洗箱的顶部固定安装有箱沿环,所述箱沿环的内侧开设有移动槽,所述移动槽的内侧活动安装有清洗篮上环,所述清洗篮上环的底部固定安装有清洗篮漏孔网框,所述清洗篮上环的顶部固定安装有清洗篮沿环,所述清洗篮沿环的底部固定安装有滚轮支架,所述滚轮支架的内侧固定安装有滚轮轴,所述滚轮轴的外侧固定安装有滚轮,所述清洗篮沿环的顶部固定安装有数量为两个的支板条,两个所述支板条的内侧固定安装有手握杆。
优选的,两个所述支板条的内部均开设有与手握杆相适配的安装孔,手握杆的截面呈圆形状。
优选的,所述清洗篮上环和清洗篮漏孔网框组成清洗篮,清洗篮漏孔网框为塑料漏孔网框。
优选的,所述移动槽的内侧宽度与清洗篮上环的宽度相适配,移动槽的内侧长度大于清洗篮上环的长度。
优选的,所述滚轮支架的数量共为十个,十个滚轮支架分为两组,两组滚轮支架分别位于清洗篮上环的正面和背面,移动槽的顶部开设有两条与滚轮相适配的滚轮槽。
优选的,所述清洗篮漏孔网框的底部平面位于清洗箱内侧从上至下的三分之二平面线下方,清洗篮漏孔网框的底部与清洗箱的内部底面存在空隙。
(三)有益效果
与现有技术相比,本实用新型提供了一种LBO晶体加工用清洗装置,具备以下有益效果:
该LBO晶体加工用清洗装置,通过设置移动槽、清洗篮沿环、滚轮支架、滚轮轴、滚轮、支板条和手握杆,工作人员手握着手握杆顺带下压,左右移动清洗篮,清洗箱内侧的清洗液将清洗篮内侧的LBO晶体冲刷干净,清洗结束后,提起手握杆,连同清洗篮一起提出清洗液的液面,方便LBO晶体的取出,通过设置清洗篮漏孔网框为塑料漏孔网框,可以使得清洗液通过清洗篮漏孔网框的内侧对LBO晶体的外部进行冲刷清洗,同时设置清洗篮漏孔网框的底部平面位于清洗箱内侧从上至下的三分之二平面线下方,清洗篮漏孔网框的底部与清洗箱的内部底面存在空隙,在不影响冲洗的情况下,LBO晶体外部的杂质可以从清洗篮漏孔网框的网孔流出,堆积在清洗箱的内侧,通过设置把环座和把环,可以方便将清洗箱内侧的清洗液倒出,设置把环垫块,可以方便手握把环。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型结构正面示意图;
图3为本实用新型结构侧面示意图。
图中:1清洗箱、2把环座、3把环、4把环垫块、5箱沿环、6移动槽、7清洗篮上环、8清洗篮漏孔网框、9清洗篮沿环、10滚轮支架、11滚轮轴、12滚轮、13支板条、14手握杆。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3,该LBO晶体加工用清洗装置,包括清洗箱1,清洗箱1的左右两侧均固定安装有把环座2,两个把环座2的内侧均活动安装有把环3,两个把环3靠近清洗箱1的一侧且位于清洗箱1的外侧均活动安装有把环垫块4,清洗箱1的顶部固定安装有箱沿环5,箱沿环5的内侧开设有移动槽6,移动槽6的内侧活动安装有清洗篮上环7,移动槽6的内侧宽度与清洗篮上环7的宽度相适配,移动槽6的内侧长度大于清洗篮上环7的长度,清洗篮上环7的底部固定安装有清洗篮漏孔网框8,清洗篮漏孔网框8的底部平面位于清洗箱1内侧从上至下的三分之二平面线下方,清洗篮漏孔网框8的底部与清洗箱1的内部底面存在空隙,清洗篮上环7和清洗篮漏孔网框8组成清洗篮,清洗篮漏孔网框8为塑料漏孔网框,清洗篮上环7的顶部固定安装有清洗篮沿环9,清洗篮沿环9的底部固定安装有滚轮支架10,滚轮支架10的内侧固定安装有滚轮轴11,滚轮轴11的外侧固定安装有滚轮12,滚轮支架10的数量共为十个,十个滚轮支架10分为两组,两组滚轮支架10分别位于清洗篮上环7的正面和背面,移动槽6的顶部开设有两条与滚轮12相适配的滚轮槽,清洗篮沿环9的顶部固定安装有数量为两个的支板条13,两个支板条13的内侧固定安装有手握杆14,两个支板条13的内部均开设有与手握杆14相适配的安装孔,手握杆14的截面呈圆形状。
综上所述,该LBO晶体加工用清洗装置,通过设置移动槽6、清洗篮沿环9、滚轮支架10、滚轮轴11、滚轮12、支板条13和手握杆14,工作人员手握着手握杆14顺带下压,左右移动清洗篮,清洗箱1内侧的清洗液将清洗篮内侧的LBO晶体冲刷干净,清洗结束后,提起手握杆14,连同清洗篮一起提出清洗液的液面,方便LBO晶体的取出,通过设置清洗篮漏孔网框8为塑料漏孔网框,可以使得清洗液通过清洗篮漏孔网框8的内侧对LBO晶体的外部进行冲刷清洗,同时设置清洗篮漏孔网框8的底部平面位于清洗箱1内侧从上至下的三分之二平面线下方,清洗篮漏孔网框8的底部与清洗箱1的内部底面存在空隙,在不影响冲洗的情况下,LBO晶体外部的杂质可以从清洗篮漏孔网框8的网孔流出,堆积在清洗箱1的内侧,通过设置把环座2和把环3,可以方便将清洗箱1内侧的清洗液倒出,设置把环垫块4,可以方便手握把环3。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种LBO晶体加工用清洗装置,包括清洗箱(1),其特征在于:所述清洗箱(1)的左右两侧均固定安装有把环座(2),两个所述把环座(2)的内侧均活动安装有把环(3),两个所述把环(3)靠近清洗箱(1)的一侧且位于清洗箱(1)的外侧均活动安装有把环垫块(4),所述清洗箱(1)的顶部固定安装有箱沿环(5),所述箱沿环(5)的内侧开设有移动槽(6),所述移动槽(6)的内侧活动安装有清洗篮上环(7),所述清洗篮上环(7)的底部固定安装有清洗篮漏孔网框(8),所述清洗篮上环(7)的顶部固定安装有清洗篮沿环(9),所述清洗篮沿环(9)的底部固定安装有滚轮支架(10),所述滚轮支架(10)的内侧固定安装有滚轮轴(11),所述滚轮轴(11)的外侧固定安装有滚轮(12),所述清洗篮沿环(9)的顶部固定安装有数量为两个的支板条(13),两个所述支板条(13)的内侧固定安装有手握杆(14)。
2.根据权利要求1所述的一种LBO晶体加工用清洗装置,其特征在于:两个所述支板条(13)的内部均开设有与手握杆(14)相适配的安装孔,手握杆(14)的截面呈圆形状。
3.根据权利要求1所述的一种LBO晶体加工用清洗装置,其特征在于:所述清洗篮上环(7)和清洗篮漏孔网框(8)组成清洗篮,清洗篮漏孔网框(8)为塑料漏孔网框。
4.根据权利要求1所述的一种LBO晶体加工用清洗装置,其特征在于:所述移动槽(6)的内侧宽度与清洗篮上环(7)的宽度相适配,移动槽(6)的内侧长度大于清洗篮上环(7)的长度。
5.根据权利要求1所述的一种LBO晶体加工用清洗装置,其特征在于:所述滚轮支架(10)的数量共为十个,十个滚轮支架(10)分为两组,两组滚轮支架(10)分别位于清洗篮上环(7)的正面和背面,移动槽(6)的顶部开设有两条与滚轮(12)相适配的滚轮槽。
6.根据权利要求1所述的一种LBO晶体加工用清洗装置,其特征在于:所述清洗篮漏孔网框(8)的底部平面位于清洗箱(1)内侧从上至下的三分之二平面线下方,清洗篮漏孔网框(8)的底部与清洗箱(1)的内部底面存在空隙。
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- 2020-11-23 CN CN202022729015.5U patent/CN213763134U/zh active Active
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