CN213668001U - 一种晶体洗涤过滤装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了晶体洗涤领域的一种晶体洗涤过滤装置，包括支撑架，所述支撑架的上壁面安装有过滤结构，所述过滤结构的外壁面套装有导向结构，所述导向结构的下壁面安装有调节结构，所述调节结构的内壁面安装有搅拌结构；所述过滤结构包括：上过滤架、侧壁过滤网、下过滤架以及下过滤网；所述上过滤架开设有凹槽，且安装在支撑架的上壁面，所述侧壁过滤网安装在上过滤架开设的凹槽内，所述下过滤架开设有凹槽，且套装在侧壁过滤网的下端面，所述下过滤网安装在下过滤架开设的凹槽内，本实用新型中，通过过滤结构将清洗完毕的晶体聚集在一起，操作人员不用再一颗一颗的用手收集，降低人工劳动程度。

Description

一种晶体洗涤过滤装置

技术领域

本实用新型涉及晶体洗涤领域，具体是一种晶体洗涤过滤装置。

背景技术

关于晶体或残渣为什么要洗涤，即洗涤的目的，常见有：除去杂质，除去晶体表面的可溶性杂质。提高产率，洗涤过滤所得到的残渣，把有用的物质，如目标产物尽可能洗出来。防止污染环境，如果滤渣表面有一些对环境有害的物质，如重金属离子。具体方法为，用蒸馏水冲洗晶体至浸没，让水自然流下，重复两到三次，做无机晶体的话，大部分晶体不溶于酒精，反而95％的酒精可以促使过饱和溶液中的晶体析出更多(机理不明)。如果用水洗的话，晶体就溶解到水里了，影响产率。(酒精和水都可以洗掉母液)做有机晶体的话，大部分晶体溶于酒精而不溶于水，因此用酒精洗的晶体必须是微溶或不溶酒精的。酒精可以洗涤掉制备有机晶体过程中的母液和部分杂质，而水不可以。

现有的晶体洗涤装置没有过滤效果，清洗之后需要操作人员用手一颗一颗的去收集，人力资源需求量比较大，且工作效率较低。现有的晶体洗涤装置一次性洗涤的晶体数量较少，需要分批多次清洗，浪费清洗溶液，因此，本领域技术人员提供了一种晶体洗涤过滤装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种晶体洗涤过滤装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种晶体洗涤过滤装置，包括支撑架，所述支撑架的上壁面安装有过滤结构，所述过滤结构的外壁面套装有导向结构，所述导向结构的下壁面安装有调节结构，所述调节结构的内壁面安装有搅拌结构；所述过滤结构包括：上过滤架、侧壁过滤网、下过滤架以及下过滤网；所述上过滤架开设有凹槽，且安装在支撑架的上壁面，所述侧壁过滤网安装在上过滤架开设的凹槽内，所述下过滤架开设有凹槽，且套装在侧壁过滤网的下端面，所述下过滤网安装在下过滤架开设的凹槽内。

作为本实用新型进一步的方案：所述导向结构包括：洗涤锅以及水龙头；所述洗涤锅的外壁面开设有通孔，且安装在上过滤架的下壁面，所述水龙头安装在洗涤锅的外壁面开设的通孔内。

作为本实用新型再进一步的方案：所述调节结构包括：伸缩杆、液压缸以及支撑座；所述洗涤锅的下壁面开设有凹槽，所述伸缩杆安装在洗涤锅的下壁面开设的凹槽内，所述液压缸套装在伸缩杆的外壁面，所述支撑座安装在液压缸的下壁面。

作为本实用新型再进一步的方案：所述搅拌结构包括：电机、密封轴承以及搅拌器；所述电机安装在伸缩杆的内壁面，所述密封轴承套装在电机的外壁面，所述搅拌器套装在电机的上端面。

作为本实用新型再进一步的方案：所述上过滤架的上壁面安装有两个把手。

作为本实用新型再进一步的方案：所述上过滤架的外壁面安装有两个滑轨。

作为本实用新型再进一步的方案：所述洗涤锅的内壁面开设有两条滑槽。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型中，通过过滤结构将清洗完毕的晶体聚集在一起，操作人员不用再一颗一颗的用手收集，降低人工劳动程度，解决了现有的晶体洗涤装置没有过滤效果，清洗之后需要操作人员用手一颗一颗的去收集，人力资源需求量比较大，且工作效率较低的问题。

2、本实用新型中，通过导向结构以及搅拌结构实现清洗溶液多次使用的功能，节约资源，保护环境，解决了现有的晶体洗涤装置一次性洗涤的晶体数量较少，需要分批多次清洗，浪费清洗溶液的问题。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为本实用新型的主视结构视图；

图3为本实用新型的俯视结构视图的剖视图；

图4为本实用新型的左视结构视图的剖视图。

图中：1、支撑架；2、上过滤架；3、侧壁过滤网；4、下过滤架；5、下过滤网；6、洗涤锅；7、水龙头；8、伸缩杆；9、液压缸；10、支撑座；11、电机；12、密封轴承；13、搅拌器；14、把手；15、滑轨。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1～4，本实用新型实施例中，一种晶体洗涤过滤装置，包括支撑架1，支撑架1的上壁面安装有过滤结构，过滤结构的外壁面套装有导向结构，导向结构的下壁面安装有调节结构，调节结构的内壁面安装有搅拌结构；过滤结构包括：上过滤架2、侧壁过滤网3、下过滤架4以及下过滤网5；上过滤架2开设有凹槽，且安装在支撑架1的上壁面，侧壁过滤网3安装在上过滤架2开设的凹槽内，下过滤架4开设有凹槽，且套装在侧壁过滤网3的下端面，下过滤网5安装在下过滤架4开设的凹槽内。

其中，导向结构包括：洗涤锅6以及水龙头7；洗涤锅6的外壁面开设有通孔，且安装在上过滤架2的下壁面，水龙头7安装在洗涤锅6的外壁面开设的通孔内。调节结构包括：伸缩杆8、液压缸9以及支撑座10；洗涤锅6的下壁面开设有凹槽，伸缩杆8安装在洗涤锅6的下壁面开设的凹槽内，液压缸9套装在伸缩杆8的外壁面，支撑座10安装在液压缸9的下壁面。搅拌结构包括：电机11、密封轴承12以及搅拌器13；电机11安装在伸缩杆8的内壁面，密封轴承12套装在电机11的外壁面，搅拌器13套装在电机11的上端面。

作为优选方案，进一步的是，上过滤架2的上壁面安装有两个把手14。

作为优选方案，进一步的是，上过滤架2的外壁面安装有两个滑轨15。

作为优选方案，进一步的是，洗涤锅6的内壁面开设有两条滑槽。

本实用新型的工作原理是：操作人员将晶体倒入过滤结构中，支撑架1用于支撑上过滤架2，上过滤架2用于支撑侧壁过滤网3，侧壁过滤网3用于支撑下过滤架4，下过滤架4用于支撑下过滤网5，下过滤网5用于支撑晶体，之后操作人员向导向结构倒入搅拌器13，蒸馏水沿侧壁过滤网3以及下过滤网5流入到洗涤锅6中，之后电机11带动搅拌器13绕密封轴承12旋转，搅拌器13带动蒸馏水先顺时针旋转，五秒钟后再逆时针旋转，将晶体反复清洗，清洗结束后，伸缩杆8带动洗涤锅6沿液压缸9下降，洗涤锅6带动蒸馏水水位下降，洗涤锅6带动洗涤锅6内壁面开设的两条滑槽沿上过滤架2外壁面安装的两个滑轨15向下移动，过滤结构中的蒸馏水沿侧壁过滤网3以及下过滤网5中流入到洗涤锅6中，此时操作人员可用手握住两个把手14将过滤结构带动洗涤后的晶体从支撑架1上取下，换上新的过滤结构，伸缩杆8带动洗涤锅6沿液压缸9上升，再一次进行洗涤工作，所有工作结束时，操作人员打开水龙头7将蒸馏水放出，支撑座10用于支撑液压缸9。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种晶体洗涤过滤装置，包括支撑架(1)，其特征在于，所述支撑架(1)的上壁面安装有过滤结构，所述过滤结构的外壁面套装有导向结构，所述导向结构的下壁面安装有调节结构，所述调节结构的内壁面安装有搅拌结构；

所述过滤结构包括：上过滤架(2)、侧壁过滤网(3)、下过滤架(4)以及下过滤网(5)；

所述上过滤架(2)开设有凹槽，且安装在支撑架(1)的上壁面，所述侧壁过滤网(3)安装在上过滤架(2)开设的凹槽内，所述下过滤架(4)开设有凹槽，且套装在侧壁过滤网(3)的下端面，所述下过滤网(5)安装在下过滤架(4)开设的凹槽内。

2.根据权利要求1所述的一种晶体洗涤过滤装置，其特征在于，所述导向结构包括：洗涤锅(6)以及水龙头(7)；

所述洗涤锅(6)的外壁面开设有通孔，且安装在上过滤架(2)的下壁面，所述水龙头(7)安装在洗涤锅(6)的外壁面开设的通孔内。

3.根据权利要求2所述的一种晶体洗涤过滤装置，其特征在于，所述调节结构包括：伸缩杆(8)、液压缸(9)以及支撑座(10)；

所述洗涤锅(6)的下壁面开设有凹槽，所述伸缩杆(8)安装在洗涤锅(6)的下壁面开设的凹槽内，所述液压缸(9)套装在伸缩杆(8)的外壁面，所述支撑座(10)安装在液压缸(9)的下壁面。

4.根据权利要求1所述的一种晶体洗涤过滤装置，其特征在于，所述搅拌结构包括：电机(11)、密封轴承(12)以及搅拌器(13)；

所述电机(11)安装在伸缩杆(8)的内壁面，所述密封轴承(12)套装在电机(11)的外壁面，所述搅拌器(13)套装在电机(11)的上端面。

5.根据权利要求1所述的一种晶体洗涤过滤装置，其特征在于，所述上过滤架(2)的上壁面安装有两个把手(14)。

6.根据权利要求1所述的一种晶体洗涤过滤装置，其特征在于，所述上过滤架(2)的外壁面安装有两个滑轨(15)。

7.根据权利要求2所述的一种晶体洗涤过滤装置，其特征在于，所述洗涤锅(6)的内壁面开设有两条滑槽。

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