CN213623606U - 电镀废水高净化率处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种电镀废水高净化率处理装置，包括有反应罐、沉淀槽、溢流液处理槽，反应罐包括有罐体，罐体顶端安装有罐盖，罐盖上安装有搅拌电机并设有污水注入口与药剂加入口，搅拌电机的输出轴轴端对接有伸入罐体内腔的搅拌轴，罐体下端的出液口通过节流阀连接导流管，导流管伸入位于罐体出液口下方的沉淀槽内且导流管的出口靠近沉淀槽的排污口，沉淀槽的溢流口远离其排污口且溢流口与溢流液处理槽的入液口水平连通，在溢流液处理槽内自上往下依次设置有滤网、活性炭吸附层。该电镀废水高净化率处理装置能够更好地使所加药剂与电镀污水快速且充分混合充分反应，并对反应物进行良好的沉淀处理，从而实现对电镀废水的高效率、高净化率处理。
Description
技术领域
本实用新型涉及污水处理设备技术领域，尤其是涉及一种电镀废水高净化率处理装置。
背景技术
电镀污水多有毒性，危害性较大，未经处理达标的电镀污水排入河道、池塘或深入地下，不但会危害环境，而且会污染饮用水和工业用水。目前对于电镀污水的处理方法有几种，但综合处理效果、投入成本、能耗等因素考虑，还是化学处理方式采用得最多，化学处理方式根据加料反应的不同又可细分为多种，但本质上都是通过将药剂与电镀污水混合发生反应，使电镀污水中的有害物质或分解或沉淀为无毒无害或易再处理的低毒低害物质。因此，此类处理方式的关键就是使所加药剂与电镀污水充分混合充分反应以及对反应物进行较为良好的沉淀处理，现有用于电镀污水化学处理的处理设备(方式)在这方面的欠缺明显。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是：提供一种电镀废水高净化率处理装置，以提高对电镀废水进行化学无害净化处理的效果及效率，满足生产的环保性要求。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种电镀废水高净化率处理装置，包括有反应罐、沉淀槽、溢流液处理槽，所述的反应罐包括有罐体，罐体中形成有带进/出油口的油腔，罐体外壁包覆有保温隔热材料层，罐体顶端通过螺栓安装有罐盖，罐盖上安装有搅拌电机并设有污水注入口与药剂加入口，搅拌电机的输出轴轴端对接有伸入罐体内腔的搅拌轴搅拌轴上设有多根搅拌杆，罐体的下端形成有出液口，出液口通过节流阀连接导流管，所述的沉淀槽具有排污口与溢流口，排污口设有阀门，所述的导流管伸入位于罐体的出液口下方的沉淀槽内且导流管的出口靠近沉淀槽的排污口，沉淀槽的溢流口远离其排污口且溢流口与所述溢流液处理槽的入液口水平连通，在溢流液处理槽内自上往下依次设置有滤网、活性炭吸附层，溢流液处理槽的近底部处设有排液口。电镀废水与药剂分别从反应罐的罐盖上的污水注入口与药剂加入口进入罐体内腔进行混合并发生反应，在搅拌电机的驱动下，搅拌轴带动搅拌杆对混合物进行搅拌，使药剂迅速、充分地散入电镀废水中与之发生反应，防止药剂发生聚集、絮凝、沉淀，罐体的带进/出油口的油腔通入循环热油，对罐体内壁进行持续加热，从而为罐体内的电镀废水与药剂提供适宜的反应温度以提高反应速度与反应效果；反应罐可以分次反应处理电镀废水，也可以做连续反应处理，如果向反应罐持续注入电镀废水与药剂做连续反应处理，则调节开启罐体的出液口处的节流阀，使罐体内的反应物靠重力作用以一定的流速通过导流管流入沉淀槽内进行沉淀，通过沉淀槽的排污口可收集沉淀物以方便进行处理，沉淀槽内的上层清液可暂储于沉淀槽内；当沉淀槽内的液体过多时将自行通过溢流口溢流至溢流液处理槽内，由溢流液处理槽内的滤网及活性炭吸附层对溢流液作过滤处理，以得到符合排放标准的废液。
进一步地说，在所述的各搅拌杆上形成有助搅涡流球，各搅拌杆上的助搅涡流球的数量为两个以上。助搅涡流球在液体中运动时能够产生大量的微涡旋，利用微涡旋的离心惯性效应，使药剂在电镀污水中分散得更均匀、反应得更充分更迅速。
本实用新型的有益效果是：该电镀废水高净化率处理装置与现有电镀污水化学处理设备(方式)相比，能够更好地使所加药剂与电镀污水快速且充分混合充分反应，并对反应物进行良好的沉淀处理，从而实现对电镀废水的高效率、高净化率处理，满足生产的环保性要求。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
图1为本实用新型的结构示意图(局部剖视)。
图中：1.罐体 1-1.油腔 1-2.出液口 2.保温隔热材料层 3.罐盖 3-1.污水注入口 3-2.药剂加入口 4.搅拌电机 5.搅拌轴 6.搅拌杆 6-1.助搅涡流球 7.节流阀 8.导流管 9.沉淀槽 9-1.排污口 9-2.溢流口 10.溢流液处理槽 10-1.排液口 11.滤网 12.活性炭吸附层。
具体实施方式
一种电镀废水高净化率处理装置，如图1所示，其包括有反应罐、沉淀槽9、溢流液处理槽10，所述的反应罐包括有罐体1，罐体1中形成有带进/出油口的油腔1-1，罐体1外壁包覆有保温隔热材料层2，罐体1顶端通过螺栓安装有罐盖3，罐盖3上安装有搅拌电机4并设有污水注入口3-1与药剂加入口3-2，搅拌电机4的输出轴轴端对接有伸入罐体1内腔的搅拌轴5，搅拌轴5上设有多根搅拌杆6，罐体1的下端形成有出液口1-2，出液口1-2通过节流阀7连接导流管8，所述的沉淀槽9具有排污口9-1与溢流口9-2，排污口9-1设有阀门，所述的导流管8伸入位于罐体1的出液口1-2下方的沉淀槽2内且导流管8的出口靠近沉淀槽2的排污口9-1，沉淀槽9的溢流口9-2远离其排污口9-1且溢流口9-2与所述溢流液处理槽10的入液口水平连通，在溢流液处理槽10内自上往下依次设置有滤网11、活性炭吸附层12，溢流液处理槽10的近底部处设有排液口10-1。
在所述的各搅拌杆6上形成有助搅涡流球6-1，各搅拌杆6上的助搅涡流球6-1的数量为两个以上。助搅涡流球6-1在液体中运动时能够产生大量的微涡旋，利用微涡旋的离心惯性效应，使药剂在电镀污水中分散得更均匀、反应得更充分更迅速。
电镀废水与药剂分别从反应罐的罐盖3上的污水注入口3-1与药剂加入口3-2进入罐体1内腔进行混合并发生反应，在搅拌电机4的驱动下，搅拌轴5带动搅拌杆6对混合物进行搅拌，使药剂迅速、充分地散入电镀废水中与之发生反应，防止药剂发生聚集、絮凝、沉淀，罐体1的带进/出油口的油腔1-1通入循环热油，对罐体1内壁进行持续加热，从而为罐体1内的电镀废水与药剂提供适宜的反应温度以提高反应速度与反应效果；反应罐可以分次反应处理电镀废水，也可以做连续反应处理，如果向反应罐持续注入电镀废水与药剂做连续反应处理，则调节开启罐体1的出液口1-2处的节流阀7，使罐体1内的反应物靠重力作用以一定的流速通过导流管8流入沉淀槽9内进行沉淀，通过沉淀槽9的排污口9-1可收集沉淀物以方便进行处理，沉淀槽9内的上层清液可暂储于沉淀槽9内；当沉淀槽9内的液体过多时将自行通过溢流口9-2溢流至溢流液处理槽10内，由溢流液处理槽10内的滤网11及活性炭吸附层12对溢流液作过滤处理，以得到符合排放标准的废液。
上述实施例仅用于解释说明本实用新型，而非对本实用新型权利保护的限定，凡是在本实用新型本质方案的基础上进行的任何非实质性的改动，均应落入本实用新型的保护范围内。
Claims (2)
1.一种电镀废水高净化率处理装置，其特征在于：包括有反应罐、沉淀槽(9)、溢流液处理槽(10)，所述的反应罐包括有罐体(1)，罐体(1)中形成有带进/出油口的油腔(1-1)，罐体(1)外壁包覆有保温隔热材料层(2)，罐体(1)顶端通过螺栓安装有罐盖(3)，罐盖(3)上安装有搅拌电机(4)并设有污水注入口(3-1)与药剂加入口(3-2)，搅拌电机(4)的输出轴轴端对接有伸入罐体(1)内腔的搅拌轴(5)，搅拌轴(5)上设有多根搅拌杆(6)，罐体(1)的下端形成有出液口(1-2)，出液口(1-2)通过节流阀(7)连接导流管(8)，所述的沉淀槽(9)具有排污口(9-1)与溢流口(9-2)，排污口(9-1)设有阀门，所述的导流管(8)伸入位于罐体(1)的出液口(1-2)下方的沉淀槽(9)内且导流管(8)的出口靠近沉淀槽(9)的排污口(9-1)，沉淀槽(9)的溢流口(9-2)远离其排污口(9-1)且溢流口(9-2)与所述溢流液处理槽(10)的入液口水平连通，在溢流液处理槽(10)内自上往下依次设置有滤网(11)、活性炭吸附层(12)，溢流液处理槽(10)的近底部处设有排液口(10-1)。
2.根据权利要求1所述的电镀废水高净化率处理装置，其特征在于：在所述的各搅拌杆(6)上形成有助搅涡流球(6-1)，各搅拌杆(6)上的助搅涡流球(6-1)的数量为两个以上。
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| CN114506889A (zh) * | 2022-02-21 | 2022-05-17 | 珠海方正科技多层电路板有限公司 | 电镀液净化设备 |
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